变压吸附制氮设备的运行及其综合评价

以PN－5000型PSA制氮及NC－3000氮气净化设备为研究对象，对变压吸附制氮装置进行了综合评价，并与KDN－3000型深冷制氮装置进行了比较，重点介绍了变压吸附制氮的生产运行经验。     

3000Nm^3／h氮气净化装置及流程的探讨

本文描述了三种不同工艺流程的氮气净化装置，并将它们在工艺上进行了比较，通过探讨，提出了更经济合理的氮气净化装置流程。     

理光两款单反相机

理光XR－X3000几年前，理光（RICOH）上市了一款型号为XR－X2000的手动调焦单镜头反光相机，该机的综合性能与指标都不错，属普及型中档机。近年该公司又推出了XR－X3000型手动调焦单反相机，其技术指标基本上与前者不相上下，只不过外貌设计变了，不再像XR－X2000型那样线条生硬，棱角分明且呆板，而更趋向圆滑流畅，富有时代感和人情味。究竟为什么要推出XR－X3000来取代XR－X2000，局外人说不清楚。理光XR－X3000设有光圈优先（AE）和手动（M）两种曝光模式，使用二枚硅光敏元件，其中一枚用于偏中心平均测光，另一枚用于中…     

对向靶溅射高饱和磁化强度（Fe,Ti）—N薄膜

本实验用对向靶溅射仪分别在Ｓｉ（１００），ＮａＣｌ单昌衬底上成功地制备出具有高饱和磁化强度的（Ｆｅ，Ｔｉ）－Ｎ薄膜，研究了氮气分压和衬底温度对结构与磁性的影响。氮气分压为０．０４－０．０７Ｐａ，衬底温度淡１００－１５０℃时，有利于Ｆｅ１６Ｎ２相的形成，在此条件下制备的（Ｆｅ，Ｔｉ）－Ｎ薄膜的饱和磁化强度为２．３－２。．４６Ｔ，超过纯Ｆｅ的饱和磁化强度值。     

(10～3000)MHz电压基准

中国计量科学研究院研制的（10－3000）MHz电压基准，于199年6月通过国家鉴定，1986年被原国家计量局正式批准为国家基准。该基准建立在功率替代的原理上，又采用了测热技术，在电磁场扰动的影响等理论上和技术上都有新的突破和独创，技术指标达到国际先进水平，荣获1981年度国家科委发明四等奖。该基准的技术指标为：测量范围：（0．1－2）V频率范围：（10－3000）MHz测量不确定度（3a）：1000MHz02％2000MHz0．5％3000MHz0．7％1986年，该基准与德国技术物理研究院（PTB）进行射频电压国际比对，PTB是国际计量局（BIPM）组织的射…     

对向靶溅射高炮和磁化强度(Fe,Ti)-N薄膜

本实验用对向靶溅射仪分别在Si（100），NaCl单晶衬底上成功地制备出具有高炮和磁化强度的（Fe，Ti）－N薄膜，研究了氮气分压和衬底温度对薄膜结构与磁性的影响。氮气分压为0．04～0．07Pa，衬底温度为100～150℃时，有利于Fe_(16)N_2相的形成，在此条件下制备的（Fe，Ti）－N薄膜的饱和磁化强度为2．3～2．46T，超过纯Fe的饱和磁化强度值。     

ZrO2（Y—TZP）—Si3N4复合材料中抑制ZrN生成研究

研究了气氛加压烧成ＺｒＯ２（Ｙ－ＴＺＰ）－Ｓｉ３Ｎ４复合材料中抑制ＺｒＮ生成工艺问题，相组成分析表明：无论添加≤２０ｗｔ％工业ＺｒＯ２或者Ｙ－ＴＺＰ（３ｍｏｌ％Ｙ２Ｏ３）的氮化硅复合材料，在低于１８５０℃，３ＭＰａ氮气压力下烧成，表面无ＺｒＮ生成。     

大连中鼎化学与鞍钢签订氮气净化装置合同

2013年4月，大连中鼎化学有限公司与鞍钢集团工程技术有限公司在鞍山正式签订了攀钢西昌2030mm冷轧工程配套项目卅套冷轧用6000Nm3／h氮气净化装置合同。     

ECR微波等离子体溅射沉积氮化铝的研究

利用自制的ＥＣＲ（电子回旋共振）微波等离子体溅射沉积装置，在氮气分压很低的条件下（２．６× １０－３～２．９ × １０－２Ｐａ）成功地获得了透明绝缘的纯氨化铝膜。电阻率达１０１１ ·ｃｍ，折射率约为 ２．０５，膜的其他各项物理性能均达到了较好的指标．     

氮对纳米硅氮薄膜品化的影响

在电容式耦合等离子体化学气相沉积系统中，用高氢稀释硅烷和氮气为反应气氛制备纳米硅氮（ｎｃ－ＳｉＮｘ：Ｈ）薄膜结果表明：当Ｎ＿２／ＳｉＨ＿４气体流量比（Ｘｎ）从１增加为４时，薄膜的晶态年从５８％降至１４％，晶粒尺寸从１０ｎｍ降至５ｕｍ，Ｎ／Ｓｉ含量比从０．０３增至０．１２．当Ｘｎ≥５，则生成非晶硅氮（ａ－ＳｉＮｘ：Ｈ）薄膜．当Ｘｎ从１增加为１０时，薄膜暗电导率从１０￣（－５）（Ωｃｍ）￣（－１）降至１０￣（－１１）（Ωｃｍ）￣（－１），具有逾渗行为，这与薄膜的晶态率紧密相关．     

空分设备氮气增产改造设计思路探讨

早期钢厂兴建的空分设备,通常采用氧、氮气产量比例为1∶1的分子筛吸附净化流程。随着炼钢工艺不断进步,新老设备更替,炼钢容量不断加大,导致钢厂的氮气用量不断增加。结合实际改造经验,探讨通过改造原空分设备以满足氮气需求的思路及方法。     

KDN-3000型制氮装置变负荷操作探讨

对KDN 30 0 0型制氮装置进行了简单介绍 ,通过对该装置操作探讨 ,摸索出了不同工况的具体操作方法。     

KDN-3000型高纯氮设备氮气纯度波动原因分析及处理

在KDN-3000型高纯氮设备试运行开车过程中,由于管线安装不合理,氮气纯度大幅度波动,调纯时间较长,未达到合同规定值。优化管线后,调纯时间大大缩短,整个开车时间达标。介绍高纯氮设备试运行情况,分析氮气纯度波动的原因及发生故障的具体部位,阐述管线整改方案及效果。     

43000m~3/h空分设备调试和运行中的问题总结

简介43000 m3/h空分设备的流程和设计参数,分析在空分设备调试和运行过程中出现的分子筛纯化系统、液氧泵、氧气放空管线、冷箱密封气和中压液氮泵等设计缺陷和不当操作,阐述了整改措施。     

KDN-3000型制氮设备主换热器堵塞分析及处理

简介KDN-3000型制氮设备主换热器堵塞后的运行状况,分析堵塞原因,增设制冷机组及气液分离器,以降低空气进分子筛吸附器的温度,消除堵塞现象,确保制氮设备长周期运行。     

Insight into Electrochemical Performance of Nitrogen-Doped Carbon/NiCo-Alloy Active Nanocomposites

Nanocomposites containing Ni or Co or NiCo alloy and nitrogen-doped carbon with diverse ratios have been prepared and utilized as active elements in supercapacitors. The atomic contents of nitrogen, nickel, and cobalt have been adjusted by the supplement amount of Ni and Co salts. In virtue of the excellent surface groups and rich redox active sites, the NC/NiCo active materials exhibit superior electrochemical charge-storage performances. Among these as-prepared active electrode materials, the NC/NiCo1/1 electrode performs better than other bimetallic/carbon electrodes and pristine metal/carbon electrodes. Several characterization methods, kinetic analyses, and nitrogen-supplement strategies determine the specific reason for this phenomenon. As a result, the better performance can be ascribed to a combination of factors including the high surface area and nitrogen content, proper Co/Ni ratio, and relatively low average pore size. The NC/NiCo electrode delivers a maximum capacity of 300.5 C g⁻¹ and superior capacity retention of 92.30% after 3000 unceasing charge-discharge cycles. After assembling it into the battery-supercapacitor hybrid device, a high energy density of 26.6 Wh kg⁻¹ (at 412 W kg⁻¹) is achieved, comparable to the recent reports. Furthermore, this device can also power four light-emitting-diode (LED) demos, suggesting the potential practicability of these N-doped carbon compositing with bimetallic materials.     

试车时分子筛纯化系统进水的原因分析与处理

介绍了KDONAr 2 0 0 0Y/ 370 0Y/ 70Y型液体空分设备试车中空气流量突变引起的两起分子筛纯化系统进水的事故现象 ,分析了事故原因 ,最后介绍了解决方法和防范措施     

4500m~3/h空分设备流程改造和经济效益分析

4500 m3/h空分设备原采用板式切换净化流程,因不能满足日益增长的氮气需求量,决定将其改造成分子筛吸附净化流程。详细介绍空分设备各系统的改造方案和改造后运行情况,分析流程改造取得的经济效益。     

电子工业用高纯氮的生产

生产电子工业用高纯氮的制氮装置 ,其要点和难点是一氧化碳和氢的清除。采用一氧化碳转换炉和特殊的冷箱内流程组织 ,可以生产纯度为 99 9999%以上的高纯氮。对制取电子工业用高纯氮制氮装置与常规制氮装置加氮终端净化器两种流程进行了比较。