3.6m大口径镀膜机膜厚均匀性分析

分别建立了旋转平面与球面夹具配置下的薄膜膜厚均匀性理论计算模型,对3.6 m大口径镀膜机下直径为2.6 m基板的膜厚均匀性进行了研究.为了改善膜厚均匀性,分别采用两个蒸发源和三个蒸发源进行蒸镀.薄膜的膜厚不均匀性通过理论计算模型进行优化计算得到.对于两个蒸发源,分别得到了两旋转夹具配置下的最优几何配置,对应的膜厚不均匀...     

LAMOST子镜真空镀铝系统中的多点蒸发源建模分析

选取多个钨丝均匀的分布在一个圆周上,形成一个环状蒸发源.把每个钨丝看成一个标准的点蒸发源,与LAMOST子镜建立模型形成一个蒸发沉积系统.把镜面离散成一个致密的具有特定坐标点的阵列,把每个点蒸发源对镜面上特定点的膜层厚度的贡献相加,从而得出膜层厚度的采样值.文章分析了点源的个数、圆环的半径、源基距、以及蒸发源的发射特性对膜层均匀性的影响,最终确定选取了12个钨丝,把源基距定为0.8 m,把圆环半径定为0.55 m.设计了相应的挡板实现了膜层不均匀性低于5%的要求.     

挖坑效应对球形夹具下电子束蒸发沉积薄膜厚度均匀性的影响

厚度均匀性是薄膜制备过程中不可忽视的薄膜特性,厚度不均匀会导致薄膜成品率降低.熔融性比较差的镀膜材料在蒸发过程中以直接气化为主,挖坑效应比较明显.此时,在分析薄膜厚度均匀性时,蒸发源发射特性不随时间变化的假设不再合理.细分蒸发源为无数个小的薄板蒸发源,建立了镀膜材料出现挖坑效应时薄膜厚度均匀性的分析模型.结果表明,在所选镀膜机结构参数下,挖坑效应对薄膜厚度均匀性影响明显;但挖坑效应并不总导致薄膜厚度均匀性变差,设计合适的镀膜室结构以及薄膜制备工艺参数,可借助挖坑效应在一定程度上改善薄膜厚度均匀性.采用易于出现挖坑效应的材料作为镀膜材料时,该研究对设计薄膜沉积工艺参数具有指导性意义.     

镀膜装置蒸发源发射形态与膜厚分布

蒸发源是真空镀膜装置中一个非常重要的部件。在多个蒸发源共存的装置中,如何在设计中正确选择蒸发源与蒸发源、蒸发源与基片之间的距离就显得尤为重要,它直接关系到基板涂层均匀性。本篇文章根据蒸发源与基片之间的物理联系入手,分析基片--蒸发源距离对基片涂层均匀性的影响,进而对蒸发源与蒸发源、蒸发源与基片之间距离的确定,提出了自己的一些观点和看法。     

汽相沉积薄膜结构均匀性的理论分析

正切规则已经给出了蒸发角和蒸镀膜的微柱体结构的生长方向的关系。根据正切规 则和蒸发源与基片的相对几何三角关系，本文针对四种通用类型的夹具，给出了薄膜微 柱体结构均匀性的理论分布公式，计算了不同情况下结构均匀性的理论分布曲线。同 时，分析和讨论了薄膜的结构模型，并且得到并证实了在旋转球面夹具下获得的薄膜的 结构是最佳的结论。     

蒸发源位于半球面正下方膜厚分布理论研究

对蒸发源位于非平面基底一半球面正下方时膜厚均匀性进行了理论研究。通过建立无量纲模型计算了此种几何配置下,半球表面在两种常见理想蒸发源下各位置的膜厚公式以及膜厚分布方程。选择基底与蒸发源问较大的距离,可获得更大的可镀膜区域,同时该距离对基底上镀制的膜层厚度分布影响也较大。最后对实用蒸发源的发射系数,对该几何配置下半球面膜厚分布影响进行了理论研究。     

用于大尺寸镜面镀膜的热蒸发沉积系统的研究

对大尺寸镜而镀膜,膜层的均匀性是影响膜层各项性能的重要因素.本文从理论出发,分析并选择了电阻丝热蒸发中点蒸发源的发射特性,合理地选择了点蒸发源的分布形式并与LAMOST的MA子镜建立数学模型形成一个蒸发沉积系统,编制程序计算了一些相关参数的变化对膜层厚度的均匀性的影响,设计出了一个简单的满足膜层最大厚度差小于5%的蒸发沉积系统.     

倒圆锥面基底蒸发镀膜均匀性理论分析

通过计算得出了蒸发源位于倒圆锥面正下方外部镀膜时锥面上各点的膜厚方程,并对整个锥面上膜厚均匀性进行了理论分析。结果表明：当圆锥面形状固定时,蒸发源与圆锥底圆圆心距离增大使锥面上膜厚均匀性变好;当蒸发源固定时,增大底圆半径导致锥面上膜厚均匀性变差。在同样的配置下,蒸发源为点源或小平面源时锥面上膜厚均匀性的变化趋势一致,小平面源蒸镀比点源蒸镀时圆锥面上膜厚均匀性差。     

建筑玻璃真空蒸镀薄膜厚度的理论计算

本文对建筑玻璃大面积多蒸发源真空蒸镀的膜厚均匀性进行了理论分析，给出了膜厚及其分布的计算公式和计算实例．对如何提高薄膜的均匀性进行了讨论．     

CdCl_2溶液渗透退火对CdTe太阳电池均匀性的影响

CdTe退火是高效CdTe太阳电池制备中的关键步骤.均匀性是大面积太阳电池性能的决定性因素之一.对比研究了用CdCl2溶液渗透、CdCl2源蒸发、超声雾化CdCl2退火方式处理后电池的均匀性.比较了电池光Ⅳ曲线中的开路电压、短路电流密度、填充因子、效率的相对标准差以及效率位置分布图,得出溶液渗透方法得到的35个电池电池效率的相对标准差为0.00935、CdCl2源蒸发退火及超声雾化CdCl2退火的分别为0.0707和0.0643.结果表明,CdCl2溶液渗透退火比其他两种方式处理后电池的均匀性好.