聚酰亚胺薄膜的简便合成法

日本真空技术公司开发的简便的“蒸着聚合”制造聚酰亚胺薄膜的方法,系将均苯四甲酸酐和二氨基二苯醚在真空装置内加热蒸发,在基板上合成聚酰亚胺薄膜。聚酰亚胺过去的合成法是将均苯四甲酸酐和二氨基二苯醚在特殊溶剂中,生成聚酰胺酸中间体后,脱水缩合为聚酰亚胺。日本真空技术公司这次开发的合成法是在真空容     

真空镀膜技术

由真空蒸镀所获得的薄膜,是实现部件超小型化的有力手段之一,但在真空中的薄膜表面,易受剩余气体成分,分压强,蒸发温度和时间的影响以及蒸发源的形式,温度等影响而产生变化。另外,如何既经济又有效地进行电连接和涂敷保护层,在提高性能上也是一种重要问题。因此,除非常稳定地控制蒸镀条件提高工作效率以外,大量生产能保持一定质量水平的产品,就显得非常重要了。本文介绍制备薄膜电子元件的蒸镀技术和采用的多级蒸镀装置概况。 真空抽气装置 在分子运动服从麦克斯韦分布定律的前提下,碰撞于蒸镀膜的分子数N为: /厘米2·秒·乇 式中; P:压强(…     

多功能的新型软包装材料——SIOx蒸镀薄膜

一、技术现状 硅蒸镀薄膜是利用一氧化硅(Siliconmonoxide)在真空中蒸镀形成的微米级薄膜。由于一氧化硅很不稳定,它很容易氧化成为二氧化硅,所以在分子式中常记为SiOx,其中x值在1-2之间。从原理上说,可用来真空镀膜的蒸发技术都可用来形成硅蒸镀膜,但不同的方法对蒸发源材料的组成有不同的要求,得到的膜组成也不同。除了利用通常的电阻加热或高频感应加热在真空室中可以蒸镀SiOx薄膜外,也可以用电子束(EB)和低温等离子体     

真空技术的现状与未来

1.前言真空技术属于实验物理的基础技术的一个分支,是随着原子物理、电子工业等领域的发展而发展起来的。超高真空的获得和测量由阿尔培特在1950年基本建立以后,真空技术已与表面物理有了密切的联系。通过分子束外延和蒸镀来制备薄膜的方法又加深了与电子技术有关的工业的结合。利用真空的主要目的就是使气体分子的平均自由程变长,使处于气体状态的粒子的相互     

塑料薄膜的真空蒸镀技术和应用

塑料薄膜在真空中蒸镀铝、锌等金属已有二十余年工业化历史。蒸镀金属后的薄膜具有金属光泽和导电性,用来制造金银丝、贴花等装饰品和电容器。近年来由于这种材料具有优良的综合性能、又比较经济,因此在包装方面的应用发展很快。随着薄膜的成型和表面处理技术的改进,再加真空中镀膜既省能又无公害,所以塑料薄膜的真空镀膜技术日益受到人们的重视,真空蒸镀薄膜的用途也越来越广泛。     

日本真空热处理设备概况介绍——1977年对日技术座谈小结

1977年8月在北京由铁道部组织了同日本真空技术公司关于真空热处理设备及其工艺的技术座谈。下面将座谈中谈到的日本真空热处理设备的生产制造和发展情况介绍一下,以供从事这方面工作的同志参考,如有错误请批评指正。 一、日本真空热处理设备的系列标准情况 日本真空技术公司近年来真空热处理设备已按FH系列标准生产,1976年又研制了真空离子渗碳炉,已按FIC系列标准生产提供用户使用。 根据日本真空技术公司的真空热处理设备标准系列来看,按结构分为卧式和立式两大类,每类又按加热室尺寸大小分成若干规格;按工艺可分周期式或半连续式。根据…     

开拓超高真空的世界（五）：支撑高技术的基础

九、不断发展的等离子体离子束应用技术现代半导体工厂第六章介绍了等离子加工中的溅射镀膜技术。第七、第八章介绍了作为清洁真空的基础的超高真空技术,并以表面科学和分子束外延为例说明了超高真空技术的应用。超高真空技术不仅仅是高技术,而且也是不断应用于实际的技术。这一章将介绍半导体工厂的超大规模集成电路生产中使用的硅片刻蚀工艺。超大规模集成电路的制造工序十分复杂,往往需要反复使用多种半导体制造装置才能完     

合成聚酰亚胺新方法

日本真空技术工业公司开发成功了合成聚酰亚胺的新方法。这种方法称为“蒸着聚合法”,即原料单体在真空装置内蒸发后就附着在基板上形成聚酰亚胺膜。比过去采用的合成方法简便。过去,聚酰亚胺的合成是把两种单体即均苯四羧酸二酐和二氨基二苯醚在特殊的溶剂中先制成聚酰胺酸,然后脱水缩合成聚酰亚胺。该公司开发的方法是把两种单体在真空装置内分别放置并加热,真空度为10~(-4)     

真空蒸镀钝化太安(PETN)薄膜的研究

对真空蒸镀钝化太安 (PETN)炸药薄膜进行了研究。分析了真空度、蒸镀温度、蒸发速率、基片表面状态等因素对形成薄膜的影响。得出了适宜蒸镀的真空条件、最佳蒸镀温度和蒸发速率 ;提出了增加薄膜和基片附着力的方法。     

真空蒸镀钝化太安（PETN）薄膜的研究

对真空蒸镀钝化太安(PETN)炸药薄膜进行了研究。分析了真空度、蒸镀温度、蒸发速率、基片表面状态等因素对形成薄膜的影响。得出了适宜蒸镀的真空条件、最佳蒸镀温度和蒸发速率；提出了增加薄膜和基片附着力的方法。     

塑料真空镀膜的进展及应用

一、概况为了提高塑料的附加功能,进一步扩大塑料用途,利用真空镀膜技术对塑料表面进行处理是一个好办法。目前常用的塑料真空镀膜方法有真空蒸镀法和磁控溅射法。所谓蒸镀法就是在10~(-4)～10~(-5)Torr的真空中加热蒸镀材料,使其在极短时间内蒸发并沉积在基材表面形成镀膜层。一般,该法只能蒸镀像铝这样的低融点金属。磁控溅射法利用高效磁控管溅     

真空技术及设备在动力电池制造中的应用

真空作为低于一个标准大气压力的气体状态，能显示许多常压状态下无法出现的工艺新特点，已被人们在许多工业领域所应用。本文总括了真空技术及设备在全密封铅酸动力电池、MH—Ni动力电池、锂离子动力电池、燃料电池等制造过程中的应用和潜在应用，如真空混合、真空烧结、真空干燥、真空检漏、真空注液、真空封口、真空化成等。真空技术在动力电池制造过程中的广泛推广应用，必将推动动力电池制造的技术进步和发展。     

第二十一讲 真空卷绕镀膜

(接2020年第6期86页)2.2.1原理电阻加热蒸发镀膜原理如图3所示。将卷筒状的待镀薄膜基材装在真空蒸镀机的放卷辊上,薄膜穿过导向辊和镀膜冷鼓卷绕在收卷辊上。抽真空,使蒸镀室中的真空度达到4×10^-2Pa以上,加热蒸发舟或蒸发坩埚使高纯度的金属或化合物在气化温度下融化并蒸发。     

日本真空感应炉情况

一、概况 在日本各工厂中使用的真空感应炉(50～1000公斤)约有20台,容量小于150公斤的炉子全部为间歇式的,容量为150～300公斤的炉子有间歇式的也有半连续式的,容量为500～1000公斤的炉子全部是半连续式的。真空感应炉主要是用于冶炼磁性材料和电气材料。 日本的真空感应炉大部份是日本真空技术制造的,而日本真空技术和美国NRC有技术协作关系,因此,日本的真空感应炉结构基本上和美国NRC制造的真空感应炉的结构相似。日本电子、富士电机等也能制造一些小容量的真空感应炉。 二、Stokes-2000磅 半连续式真空感应炉 我们在志村化工株式会社,…     

真空技术是现代电子工业的基础

大规模集成电路的出现和发展使电子工业进入了微电子技术时代，推动了工业各部门向现代化发展。微电子技术是多学科综合应用的一门崭新的技术。其中，包括了真空科学领域内的表面与界面学、薄膜技术、材料学以及同真空技术有关的微加工技术（包括设备）和测量技术，工艺过程的绝尘技术。 随着微电子技术的发展，电子元器件、电路的尺寸越来越小，集成度越来越高，加工线宽达亚微米或更细。由于物理效应的限制，集成度达到一定程度就不能再提高，因而提出研制三维电路、光电路和生物计算机。这就需要相应的手段和技术。真空技术是基础，当今超大规模电路的制造工艺过程中有７０％的工序要在真空环境中进行，不但工艺设备要求高品质的真空条件，而且传统的超净生产环境也将为真空传输机构所代替。所以说真空技术是微电子技术发展的根本保证。如果不重视真空应用技术的研究，微电子技术方将裹足不前。 本文简述了电子材料、电子元器件、电路制造工艺过程与真空技术的关系。用真空传输系统联接芯片制造的工艺设备，使芯片制造全过程处于真空环境中替代大型的超净场房，将会进一步提高生产环境的洁净度（真正达到绝尘），控制了有害气体，并降低了超净间造价，减少了超净环境对工作人员超常损害。     

第十八讲真空蒸发镀膜

1 概述 真空蒸发镀膜(简称蒸镀)是在真空条件下,用蒸发器加热蒸发物质,使之汽化,蒸发粒子流直接射向基片并在基片上沉积形成固态薄膜的技术.蒸镀是PVD技术中发展最早,应用较为广泛的镀膜技术,尽管后来发展起来的溅射镀和离子镀在许多方面要比蒸发镀优越,但真空蒸发镀膜技术仍有许多优点,如设备与工艺相对比较简单,可沉积非常纯净的膜层等等,因此,真空蒸发镀膜仍然是当今非常重要的镀膜技术.近年来由于电子轰击蒸发,高频感应蒸发以及激光蒸发等技术在蒸发镀膜技术中的广泛应用,使这一技术更趋完善.     

高耐热聚酰亚胺、芳酰胺超薄膜

一般,薄膜制造技术分干法与湿法两种。聚酰亚胺等高耐热性薄膜过去是用溶液涂敷法制作的,今后仍将用以旋涂法为代表的简便方法来制造薄膜。这.里介绍两种新的薄/膜制作方法。其一是Langmiu B10dgett (LB)法,在各种薄膜的成型中它能制得最薄的薄膜;其二是真空蒸镀聚合法,以     

日本罗茨真空泵概况

罗茨真空泵在日本的真空冶金方面已经得到广泛应用,极大部份的真空脱气装置以及—些大型的真空电弧炉都是采用了罗茨泵的真空机组,各种真空感应妒亦都是以罗茨泵作为予抽真空及增压之用,其它如真空蒸发方面,大型连续的金属蒸镀设备亦都配有各种大小不同的罗茨泵。 日本生产罗茨泵的工厂有神港精机株式会社、大阪真空株式会社、日本真空技术株式会社以及岛津制作所等4家。岛津是生产中小型罗茨泵,最大的是6000米3/时,其它3家公司最大的都能生产到20,000米3/时,至于30,000米3/时的罗茨泵,神港精机正在设计制造。 我们这次在日本参观,重点是看…     

国外真空获得设备概况

目前国外真空获得设备,广泛用在科学研究与工业生产方面,提供和控制各种处理 装置和科学仪器在运行中所必要的真空环境。一般真空工厂,已经能够掌握真空装置的 工作原理和特性。所研制的各种产品,基本上能满足粗、低、高及超高真空条件的要 求,真空技术日益向边缘技术蔓延扩大。 现在真空获得设备已能够满足一般应用部门的基本要求,另一方面由于资本主义经 济危机的影响,除为了扩军备战、开辟能源、环境保护以及若干特殊目的外,真空获得 技术,并未看出显著的发展,今后十年也不会有什么大的突破,这是国外真空技术研究者共同的看法(38)。但是…     

金属蒸镀膜的附着力测定

1.前言 对于蒸镀膜在基板上的附着强度和把该膜从基板上剥离下来时的破坏过程的研究,在考虑蒸镀膜应用技术及其膜的持久性时是重要的。并且,做为蒸镀膜的物性研究也是很有兴趣的问题。 在这里通过真空蒸镀法就测定玻璃基板上蒸镀金属(银、铜、铝)的附着力、膜厚度的依存性以及基板温度的依存性的结果进行报告。 2.试验材料的制作 附着力测定时所用材料(银、铜、铝)的蒸镀是采用扩散泵排气系统进行排气的真空室。试验材料的纯度用99.999～99.99%在锦蒸发器中进行加热,其蒸发速度为2～4A/s。蒸镀过程中的真空度为4 × 10-3帕。基板采用 26 ×…