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采用PVD和CVD技术制备Cu/TiN/PI试样,研究表明,TiN薄膜可以有效地阻挡Cu向PI基板内部扩散,CVD工艺制备的Cu膜内部残余应力很小,Cu膜有相对高的结合强度;而PVD制备的Cu膜,在有TiN阻挡层存在的情况下,Cu膜内存在拉应力,拉应力降低了Cu膜结合强度,300℃退火可以消除膜内残余应力,结合强度提高。 相似文献
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热处理温度对纳米TiN涂层组织和性能的影响 总被引:2,自引:0,他引:2
为了提高反应等离子喷涂纳米TiN涂层的致密性、消除涂层内的微观缺陷,在大气、氩气氛和真空中对其进行了热处理。用XRD、SEM、TEM分析了纳米TiN涂层热处理后相组成及组织结构的变化,测试了处理后涂层的结合强度和孔隙率。结果表明:纳米TiN涂层在大气和氩气氛中,于600℃开始发生分解和氧化;真空环境下加热,涂层相组成不发生变化。在大气中600℃加热处理后,TiN涂层中微裂纹愈合,孔隙率降到原来的70%,结合强度基本不变。大气中1000℃热处理后,晶粒尺寸仍为100~200 nm。 相似文献
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TiN薄膜的合成及其性能研究 总被引:1,自引:0,他引:1
用电子束蒸发沉积钛和40keV氮离子束轰击交替进行的办法合成了TiN薄膜。用RBS,AES,TEM,XPS,和X射线衍射研究TiN薄膜的组分和结构表明:用离子束增强沉积制备的TiN薄膜主要由TiN相构成;晶粒大小为30—40um,无择优取向;而非离子束轰击沉积的薄膜则是无定形的;用离子束增强沉积制备的TiN薄膜,其氧含量明显小于无离子束轰击薄膜的值;在TiN薄膜和衬底之间存在一个界面混合区,厚度为40um左右。机械性能测试表明,TiN薄膜具有高的显微硬度,低的摩擦系数。 相似文献
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研究了添加铜对含钙铝合金热处理性能影响。结果表明:提高含钙铝合金中铜的质量分数,合金的铸态硬度有所提高:当合金巾铜的质量分数达到一定量时,在合金中有强化相CuAl2生成;当合金中铜与钙质量分数之比达到9:1时,通过热处理可使其硬度得到明显提高.提高比例为38%;继续提高铜的质量分数,热处理后硬度提高的比例稳定在38%。 相似文献
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基体材料对TiN薄膜表面液滴及薄膜结合力的影响 总被引:1,自引:1,他引:0
采用真空阴极电弧离子镀技术分别在4Cr5 MoSiV1(H13)模具钢、Cr18Ni9Ti(304)不锈钢、YG6硬质合金、Ti6Al4V(TC4)钛合金4种基体表面沉积TiN薄膜.利用扫描电镜(SEM)对薄膜表面液滴进行观察分析,通过划痕仪对薄膜的膜/基结合力进行表征.结果表明:基体材料不同,TiN薄膜上液滴的密度、尺寸存在明显的区别.其中,镀膜后H13钢和304不锈钢表面的液滴数量最多,YG6硬质合金次之,TC4钛合金最少;薄膜的膜/基结合强度依次为YG6硬质合金>H13钢>304不锈钢>TC4钛合金. 相似文献
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研究了用离子镀方法沉积 TiN 膜作为高温环境下耐热涂层和基体之间扩散壁障(中间阻挡层)的可行性。结果表明,有 TiN 中间层试样。其高温抗氧化性能明显提高,TiN 层在一定温度范围内有良好的稳定性和阻扩散性。阐述了以Al 为耐热涂层时,TiN 中间层阻挡 Al 原子扩散的机理。 相似文献
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本文用多弧离子镀膜(MAIP)技术在高速钢基片表面镀TiN后,用XRD和SEM对膜层组织结构、形貌进行了分析。结果显示,在高速钢基片表面的为TiN薄膜,该TiN膜致密,但在薄膜表面有少量白色大颗粒和黑点。能谱分析显示,白亮的大颗粒成分与普通膜面几乎相同,大黑点是直通基体的针孔,小黑点是盲孔。结论:这些大颗粒降低了薄膜表面粗糙度,对薄膜的耐磨性产生不利影响,而且针孔的存在,对膜层的耐蚀性有不利影响。 相似文献
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化学气相沉积TiN薄膜组织性能研究 总被引:1,自引:0,他引:1
研究了用化学相沉积方法在钢基体表面形成TiN薄膜的组织和性能结果表明,由于钢中的铁和碳向膜层中扩散,膜层的组织中存在有少量的α—Fe,而且薄膜的硬度与钢的含碳量有不可忽视的关系。 相似文献
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为进一步提高牙科材料的生物相容性、耐磨性和耐腐蚀性能,将离子束辅助沉积制备TiN纳米薄膜技术引入到铁铬钼牙科材料的研究中,在Fe-Cr-Mo合金基体上制备了TiN薄膜.测定了表面膜层的显微硬度,在模拟口腔环境的溶液中,采用电化学方法,对经不同工艺参数沉积TiN薄膜的牙科用Fe-Cr-Mo合金的耐蚀性进行测试,并以未进行表面镀膜的Fe-Cr-Mo合金为对照.结果表明:经TiN镀膜处理的Fe-Cr-Mo软磁合金硬度明显增加,在口腔环境中的耐腐蚀性较未经表面镀膜处理的有明显提高.工艺参数不同,硬度增加的程度不同,耐蚀性差别也较大,当氮气流量为1.5mL/min,溅射时间为4h时,得到的膜厚为2μm,此时TiN膜硬度最高,在口腔溶液中耐腐蚀性最好. 相似文献
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