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等离子体源离子注入表面改性研究及应用 总被引:8,自引:0,他引:8
采用等离子体源离子注入技术 (PSII)对W18Cr4V高速钢进行了氮离子注入。用俄歇能谱仪对注入层的成分进行了分析。对注入层的显微硬度和耐磨性进行了测试。用扫描电镜对摩擦磨损表面进行了分析。研究结果表明 :氮在注入层呈高斯分布 ,注入层的硬度和耐磨性均明显提高。对等离子体源离子注入技术在航空液压泵配油盘上的应用进行了研究。应用研究结果表明 :经等离子体源离子注入后的配油盘单位行程内回油量的增加量比未注入前下降约 90 % ,从而明显地增加了配油盘的使用寿命 相似文献
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Al合金等离子体基离子注入形成AlN/DLC层结构研究 总被引:3,自引:0,他引:3
用X射线光电子能谱(XPS)和小掠射角X射线衍射(GAXRD)研究了铝合金LY12等离子体基离子注入N+原位注入C形成AlN/DLC(类金刚石碳膜)改性层的成分分布及相结构,用激光Raman光谱分析了表面单一碳层的结构,对过渡层元素进行了Gaussian-Lorentzion峰位拟合分析。结果表明,N浓度在注入层呈Gauss分布,C浓度沿注入方向逐渐减小。C的注入使N分布有所拓宽。C在表面还能形成一层单一稳定的400nm的DLC膜。过度层主要由Al4C3,Al2O3,AlN,β-C3N4等组成。改性层总厚度达800nm。 相似文献
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等离子体浸没离子注入(PⅢ)在材料表面改性中的应用及发展 总被引:1,自引:0,他引:1
等离子体浸没离子注入(PⅢ)是一种用于材料表面改性的新的离子注入技术.系统地分析和讨论了等离子体浸没离子注入技术的原理和特点:该技术直接将待处理材料浸没在等离子体中进行注入,保留了常规束线离子注入(CBⅡ)技术的主要特点,消除了常规束线离子注入所固有的视线限制,克服了保持剂量问题,使注入装置变得简单和价廉.综述了等离子体浸没离子注入技术在金属材料、半导体材料和高分子材料改性方面的应用.展示了等离子体浸没离子注入技术应用的发展前景. 相似文献
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铝合金等离子体基离子注入氮/钛层的结构 总被引:6,自引:2,他引:6
用X射线光电子能谱(XPS)和小掠射角X射线衍射(GXRD)研究了铝合LY12等离子体基离子注入氮/钛改性层的结构。结果表明。氮在注入层呈高斯分布,而钛沿注入方向逐渐减少。钛的注入对已注入的氮的分布有重要影响。钛的等离子体密度直接影响钛在改性层中的成分、相结构。改性层主要由TiO2,Al2O3,Aln,TiAl3,TiN或Ti组成。 相似文献
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模具表面改性新技术--金属用离子注入 总被引:1,自引:0,他引:1
《模具制造》2002,(3):57-57
早在1952年,美国贝尔实验室已经开始研究用离子束轰击技术来改善半导体特性,六十年代,半导体器件生产的水平进一步提高,迫切要求寻找新的方法研制一些特殊用途的新型器件,于是兴起了离子注入技术。近20年来,在微处理机和计算机存储器的集成电路基片生产中,离子注入已经是半导体材料的一种标准掺杂方法,离子注入方法的可靠性、可控性和重复性使得这项工艺成为半导体工业的支柱。在20世纪60年代中期,英国科学家探索了离子束对金属的作用。他们早期的努力集中于离子注入技术对金属材料的摩擦和显微硬度的影响,但不久就转向… 相似文献
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介绍离子注入表面改性技术的原理和设备,列举了在金属表面改性中的应用。经离子注入后,某些金属材料的耐蚀、耐磨和抗氧化性能可提高近1000倍。离子注入表面改性技术适用于高技术、高精度和高附价的零件 相似文献
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MEVVA源金属离子注入和金属等离子体浸没注入 总被引:5,自引:0,他引:5
MEVVA源金属离子注入技术和金属等离子体浸没注入技术MePIII的共同特性是强流金属离子注入。它们各具长处,相互补充,共同发展。前者因无鞘层重叠问题和其方向强的特点,特别适用于小件、简单件的大批量金属离子注入处理,能保证处理的均匀性和高效率。后者因无视线加工限制并克服了保持剂量问题,特别适用于处理体积较大、形状复杂的工件,能保证工件所有暴露表面的加工均匀性,调整工作参数,还能进行金属膜沉积和各种 相似文献
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