Cr(Ⅲ)水溶液电沉积非晶态铬的电化学

提供了一种由各合剂、稳定剂、添加剂组成的Ｃｒ（Ⅲ）水溶液电镀镜面非晶态铬新方法。采用ｕｌｌ槽实验、动电位扫描（ＬＳＶ）、计时电流（ＣＡ）、计时电位（ＣＥ）等电化学方法对Ｃｒ（Ⅲ）水溶液中电沉积蜚昌态铬的化学机理进行了研究。实验结果表明在－０．９６～－１．１Ｖ之间生成的蓝膜是光亮非晶态Ｃｒ层得以电沉积出来的首要条件。讨论了Ｃｒ＾２＋离子和Ｃｒ（Ⅲ）配合离子在同积蜚晶各镀层中的作用以及镜面非晶态铬镀层     

甲酸盐型三价铬电镀液电化学研究

研究了甲酸盐型三价铬镀液的电化学特性，通过循环伏安、动电位扫描、恒电位电镀、恒电流电镀证实了Ｃｒ＾３＋在电位负于－１．３Ｖ后开始还原为Ｃｒ，在－０．９Ｖ－１．３Ｖ之间还原为Ｃｒ＾２＋，Ｃｒ＾２＋是暂时的，在溶液中极不稳定，但能加速配体交换反应。讨论了Ｃ＾３＋电沉积的是极过程和镀层不能加厚的原因。     

晶化温度对非晶态Cr-Fe-C合金镀层的影响

采用三价铬电镀液,在4Cr10Si2Mo钢工件表面电沉积非晶态Cr-Fe-C合金镀层.通过改变络合剂的含量、电流密度和电镀时间,在阴极上沉积了不同厚度的非晶态Cr-Fe-C层.用扫描电子显微镜和光学显微镜、X射线衍射仪、能谱仪测定、显微硬度计研究了从三价铬镀液中电沉积Cr-Fe-C镀层的工艺以及镀层的形貌、结构与性能.结果表明,利用该工艺获得了厚度为30 μm、27 wt%Fe的非晶态Cr-Fe-C合金镀层.该镀层耐蚀性较好,经600℃×1 h晶化处理后硬度最高可达1 800 HV0.05.     

非晶态Cr-C合金镀层制备及其耐腐蚀性

以酒石酸为添加剂,采用电沉积法制备了非晶态Cr-C合金镀层。用X射线衍射、扫描电子显微镜及能谱仪对镀层结构、形貌及成分进行表征,并对镀层进行电化学耐腐蚀性测试。结果表明,当酒石酸加入量为40g/L时,镀层的X射线衍射图出现非晶态的特征峰,镀层表面平整、致密,无裂纹和针孔,与普通晶态Cr镀层相比,非晶态Cr-C合金镀层具有更优良的耐腐蚀性能。     

碳铬共渗奥氏体不锈钢的组织结构

采用透射电镜和Ｘ射线衍射技术研究了奥氏体不锈钢碳铬共渗层的组织结构。结果表明：在碳铬共渗过程中，先在渗层中形成Ｃｒ＿（２３）Ｃ＿６型碳化物，它与母相奥氏体（Ａ）之间具有的取向关系。进一步提高表面碳含量可生成Ｃｒ＿７Ｃ＿３型碳化物。表面碳含量越高，所生成的Ｃｒ＿７Ｃ＿３碳化物越多，而Ｃｒ＿（２３）Ｃ＿６型碳化物则减少。碳铬共渗层由表及里的最终组织为：Ａ＋Ｃｒ＿７Ｃ＿３→Ａ＋Ｃｒ＿７Ｃ＿３＋Ｃｒ＿（２３）Ｃ＿６→Ａ＋Ｃｒ＿（２３）Ｃ＿６     

非晶态Cr-C合金镀层的制备研究

通过对添加剂酒石酸的优化研究,研究电沉积制备非晶态Cr-C合金镀层的新配方.用X射线衍射和扫描电子显微镜对镀层结构和形貌进行表征,并对镀层硬度及结合力进行测试.结果表明,当酒石酸加入量为40g/L时,镀层的X射线衍射图出现非晶态的宽化峰,镀层的硬度和结合力最高,表面平整、致密,无裂纹和针孔,异类原子的加入和酒石酸对表面活性点的吸附作用是形成非晶态结构的主要原因.     

三价铬脉冲电沉积纳米晶Ni-Cr合金工艺

采用脉冲电沉积方法对三价铬电沉积Ni-Cr合金镀层工艺进行研究,确定并优化三价铬脉冲电沉积Ni-Cr合金的最佳镀液配方及工艺参数。研究镀液中各成分及工艺参数对三价铬脉冲电沉积Ni-Cr合金厚度及合金镀层中铬的影响,利用扫描电镜和电子能谱分析Ni-Cr合金镀层的形貌、微观结构和化学组成。结果表明,镀层厚度和Ni-Cr合金中铬含量在不同浓度的络合剂、稳定剂、乙酸钠及不同的电流密度、温度、pH值、占空比和脉冲频率下都存在极大值,且Ni-Cr合金厚度随合金中铬含量的增加而减少。当铬含量为24%时,镀层的厚度大于10μm,无裂纹,其晶粒为纳米球状晶粒。     

热处理对Ni—P—SiC复合电镀层组织结构和耐磨性的影响

用Ｘ射线衍射和ＳＥＭ等方法研究了电沉积Ｎｉ－Ｐ－ＳｉＣ复合镀层的组织结构，并探讨了热处理温度对镀层组织和耐磨性的影响。试验表明，这种电沉积复合镀层的Ｎｉ－Ｐ基质为非晶态，而ＳｉＣ则仍为晶态。     

新型三元复合络合剂体系对AZ91D镁合金表面酸性化学镀Ni-P的影响

利用含新型三元复合络合剂的酸性化学镀镍液体系,在AZ91D镁合金表面通过化学镀制备Ni-P防护镀层。结果表明,镀层沉积速率随着镀液中三元复合络合剂浓度的变化而改变。利用X射线衍射（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）和差热分析（DSC）对镀层结构、形貌以及热稳定性进行表征和分析。通过交流阻抗（EIS）和动电位扫描极化曲线对Ni-P镀层在3.5%NaCl溶液中的耐蚀性能进行评价。镀液中三元复合络合剂的浓度对Ni-P镀层的结构与形貌有显著影响。Ni-P镀层的热稳定性随着三元复合络合剂浓度的增加而降低。当镀液中三元复合络合剂浓度为0.035 mol/L时,所制备的Ni-P镀层致密、均一,在3.5%NaCl溶液中表现出良好的耐蚀性能。     

磁控溅射铬镀层的微观组织结构研究

采用磁控溅射技术制备了铬镀层,利用X射线衍射仪研究了铬镀层的物相和择优生长取向,并结合扫描电子显微镜和透射电子显微镜观察、分析了铬镀层的微观组织结构.研究结果表明:磁控溅射铬镀层呈多晶态结构,以Cr(110)晶面为择优生长面;铬镀层截面呈柱状生长特性,在沉积的最初阶段即形核晶化,随着沉积时间的延长,晶化程度逐渐提高.