Ni─PSZ复合镀层750℃氧化行为的研究

采用电铸技术制备了不同PSZ微粒含量的Ni-PSZ复合镀层,并用纯Ni镀层做比较,考察PSZ微粒在复合镀层中的热稳定性,研究了PSZ微粒含量对镀层氧化行为的影响。结果表明,PSZ微粒的加入降低了镀层的氧化速率。复合镀层的抗氧化能力不是随着PSZ微粒含量单调增大,PSZ微粒弥散在基体Ni中,达到一定含量,在氧化温度下发生聚团,使镀层抗氧化能力下降,直到PSZ微粒含量较高时,才能更有效的抑制氧化。     

PSZ—Ni复合材料中Ni氧化行为的TG分析

采用粉末冶金法制备出PSZ－Ni系复合材料，对不同组成的复合材料在20℃－1200℃升温氧化过程进行了TC分析。结果表明，金属Ni组元的氧化程度随陶瓷组元的增加而增加，且高温时更加严重，其原因主要是：一方面PSZ具有较高的导氧率导致氧向材料内部迅速扩散；另一方面，大量的金属－陶瓷界面大大缩短了氧的扩散途径；PSZ高的导氧率以及金属（陶瓷）是呈颗粒分散存在，使金属的表面积大大增加导致金属相氧化加剧。     

化学镀Ni—P—聚四氟乙烯复合镀层及其性能

向一种含双络合剂的化学镍液中加入PTFE（聚四氟乙烯）浓缩乳液,成功获得了PTFE含量为25%-30%vol的Ni-P-PTFE复合镀层。应用X-Ray衍射仪、扫描电子显微镜、差热分析等对镀层组织结构和性能进行了测定。结果表明,这种镀层为非晶态结构,与基体结合良好,具有低的孔隙率和低的摩擦系数,是一种耐蚀、自润滑的表面复合材料镀层。     

Ni—P—UFD复合镀层的晶化

采用超细金刚石（UFD）粉末作为复合粒子,制备了Ni-P-UFD复合镀层,研究了复合镀层晶化过程的组织结构转变,并通过差热分析对比研究了Ni-P镀层与Ni-P-UFD复合镀层的晶化温度及晶化激活能。结果表明,非晶态Ni-P-UFD复合镀层热处理时发生晶化,晶化后生成的稳定相为Ni3P和Ni,晶化过程中生成亚稳相Ni5P2,亚稳相最终为地转变成稳定相。在相同的加热速率下,Ni-P-UFD复合镀层晶化的起始温度均低于Ni －P镀层,但峰值温度与Ni－P镀层相当;Ni-P-UFD复合镀层的晶化激活能高于Ni-P镀层,说明UFD加入后非晶镀层的稳定性增加,晶化较难进行。     

Ni—P—金刚石化学复合镀层与钢基的扩散

本文采用金相观察、能谱分析、X射线衍射分析等手段,着重研究了在中碳钢衬底上施镀的Ni-P－金刚石复合镀层经中、低温热处理后,镀层与衬底间的扩散问题。结果表明,镀件经200－800℃,各1h的热处理后,镀层与衬底间发生Fe、Ni元素的相互扩散,Fe元素在镀态时即有扩散现象,而P的扩散很弱,经600℃,1h热处理后,由于扩散的影响,镀层内Ni元素呈梯度分布;镀件经800℃,1h热处理后并空冷,扩散层中主要形成了γ（Ni,Fe）相。     

Ni─PTFE复合刷镀层的研究

本文对Ni—PTFE复合电刷镀的工艺和镀液组成进行了论述，分析了影响PTFE共析量的各种因素，研究了镀层的结合强度、显微硬度、耐蚀性及润滑性能。     

Ni/SiO2复合电镀层高温氧化性能的研究

本试验在普通镀镍液中添加了１０～４０ｇ／Ｌ的二氧化硅微料,成功地制备了Ｎｉ／ＳｉＯ２复合镀层,随后在８００℃下进行了高温氧化试验,研究结果表明：不同粒径的微粒均可复合进入镀层,微粒的进入对镀层的高温抗氧化性有明显影响;初始氧化阶段,微粒的存在有利于提高镀层的抗高温氧化性能;在高温氧化过程中,还明显存在基底铜向镍镀层的扩散,这可能有利于增强镀层与基底之间的结合力,Ｘ射线衍射分析表明：高温氧化后在镀层表面主要生成ＮｉＯ产物。     

Ni-SiC和Ni-SiO2复合镀层性能的研究

对Ni-SiC、Ni-SiO2复合镀层在5％NaCl 0.5%H2O2溶液中的腐蚀性能,800℃高温下的抗氧化性能以及导热性能进行了研究。并利用扫描电镜（SEM）对镀层微观组织形貌进行了观察和分析。实验结果表明：与Ni-SiC复合镀层比较,Ni-SiO2复合镀层在5％NaCl 0.5%／H2O2溶液中以及在800℃高温环境中,均表现出较好的耐蚀和抗氧化能力;而Ni-SiC复合镀层的导热性则明显强于Ni-SiO2,两者的导热系数随时间延长均略有减少。文中对产生这些性能差异的原因进行了初步的探讨与分析。     

复合电刷镀Ni—金刚石的工艺研究

复合电刷镀是一种新的电刷镀工艺方法,Ni-金刚石复合镀层的硬度及耐磨性能非常好,具有很好的经济、使用价值、本文研究,分析了复合电刷镀Ni-金刚石镀液配方、工作电压、溶液温度、镀笔运动速度等工艺条件对镀层中金刚石含量、沉积速度的影响,总结出复合电刷镀Ni-金刚石的工艺条件。     

Ni－La_2O_3复合镀层对Ni抗高温循环氧化性能的影响

１２７３Ｋ循环氧化１００ｈ的实验结果表明，金属Ｎｉ表面沉积一层Ｎｉ－Ｌａ_２Ｏ_３复合镀层（厚为３０μｍ）后，抗循环氧化性能比金属Ｎｉ和表面沉积相同厚度Ｎｉ镀层的金属Ｎｉ有极大改善。Ｎｉ及其单镀Ｎｉ后，氧化速率快，氧化皮严重开裂；沉积复合镀层后，氧化速率显著降低，表面氧化层晶粒明显细化，氧化皮下发生开裂电子探针（ＥＰＭＡ）观测发现，Ｌａ_２Ｏ_３分布在氧化层（５０μｍ厚）的上表层（３１μｍ厚）中。高分辨电子显微镜（ＨＲＥＭ）发现复合镀层中分布着尺寸＜５ｎｍ的Ｌａ_２Ｏ_３纳米颗粒，据此提出，氧化时，由于小尺寸的Ｌａ_２Ｏ_３纳米颗粒易部分溶解，成为产生并在氧化层晶界偏聚的Ｌａ~（３＋）的＂储存池＂。Ｌａ~（３＋）在ＮｉＯ晶界偏聚，阻止了Ｎｉ~（２＋）的短路扩散，改善了复合镀层氧化层的生长机制和力学性质．