离子束辅助沉积防腐的铝和铝合金涂层

为了研究腐蚀性能与入射氩离子能量，离子－原子到达比和离子入射角的关系，用离子束辅助沉积方法在低碳钢上沉积纯铝涂层。根据理论对基体－涂层体系的局部化腐蚀性能的考虑，有可能估计孔隙度，涂层缺陷的相对数和这种缺陷的平均直径它们对过程参数扔依赖关系提出对膜生长的初始阶段的深入了解，并且证明在近表面区域的能量沉积是改善涂层缺陷，因而改善钢－铝体系的腐蚀性能最重要的因素。     

使用先进的控制电弧和组合电弧／不平衡磁控管（ABS^TM）沉积技术的？…

就工业涂镀系统ＨＴＣ－１０００－ＭＫＩ而言，组合的电弧／不平衡磁控管（ＡＢＳ＾ＴＭ）的ＰＶＤ硬涂层技术用于硬涂布市场已有五年了，除了有改进的ＨＴＣ－１０００－ＡＢＳ－ＭＫⅡ型外，目前使用的是ＨＴＣ－１５００－ＡＢＳ，其生产能力是原型的４倍。     

中子吸收涂层/斩盘界面应力的有限元分析

中子吸收涂层/斩盘界面的结合强度直接影响转盘式中子斩波器的性能。本文基于有限元计算软件ANSYS,对高速离心载荷下中子吸收涂层/斩盘界面的应力分布进行计算分析,考察涂层的弹性模量、泊松比、涂层厚度等参数对界面应力分布的影响。结果表明,采用软而韧的涂层可有效降低涂层/斩盘界面的应力峰值;减小涂层厚度有助于避免高速离心载荷下斩盘开口处的塑性破坏。     

The Gridless Plasma Ion Source （GIS） for Plasma Ion Assisted Optical Coating

High-quality optical coating is a key technology for modern optics. Ion-assisted deposition technology was used to improve the vaporized coating in 1980's. The GIS (gridless ion source), which is an advanced plasma source for producing a high-quality optical coating in large area, can produce a large area uniformity＞1000 mm(diameter), a high ion current density ～ 0.5mA/cm2, 20 eV ～ 200 eV energetic plasma ions and can activate reactive gas and film atoms. Now we have developed a GIS system. The GIS and the plasma ion-assisted deposition technology are investigated to achieve a high-quality optical coating. The GIS is a high power and high current source with a power of I kW ～ 7.5 kW, a current of 10 A ～ 70 A and an ion density of 200μA/cm2 ～ 500μA/cm2. Because of the special magnetic structure, the plasma-ion extraction efficiency has been improved to obtain a maximum ion density of 500μA/cm2 in the medium power (～ 4 kW) level. The GIS applied is of a special cathode structure, so that the GIS operation can be maintained under a rather low power and the lifetime of cathode will be extended. The GIS has been installed in the LPSX-1200 type box coating system. The coated TiO2, SiO2 films such as antireflective films with the system have the same performance reported by Leybold Co, 1992, along with a controllable refractive index and film structure.     

HTGR燃料芯核及包覆颗粒的物性测试

本文介绍用图象分析技术对高温气冷堆燃料芯核的直径、密度和球形度,以及包覆燃料颗粒的疏松碳层,致密碳层和碳化硅层的涂层厚度和涂层密度的定量测试方法。本方法快速、准确,测量相对标准偏差为1%。     

CLAM钢基体上大气等离子体喷涂制备氧化铝涂层工艺研究

液态金属锂铅包层是目前国际上聚变堆包层设计研究的主流方案之一,但其仍面临高氚渗透率、液态锂铅对包层结构材料的腐蚀以及锂铅流动引起的磁流体动力学MHD效应等问题,而包层结构材料表面加覆涂层是解决上述问题的关键技术之一。本实验尝试利用大气等离子体喷涂(APS)工艺在中国低活化马氏体CLAM钢上制备多功能氧化铝涂层,试验结果表明:涂层与基底具有较好的结合强度,平均值为31.7 MPa;涂层电阻率为5.26×109~1.54×1010Ω.m;并呈现较高的显微硬度和致密度。本工作可为未来聚变堆液态锂铅包层涂层制备提供理论依据和技术储备。     

X射线荧光钛涂层厚度测量仪

本文介绍一种X射线荧光测厚仪,用以测量钢基及钨基上的碳化钛或氮化钛涂层厚度。仪器测量范围为0.1—20μm,测量孔径为4mm。     

用能量色散X荧光法测定磁盘磁层厚度

用放射源~(238)Pu激发磁盘磁层中铁的特征X荧光来测定磁层厚度,具有快速、非破坏、精度高等优点。本文叙述测量原理、探测装置考虑、干扰因素的排除及数据处理。测定厚度范围为0.5—15μm。当厚度大于1μm时,测量精度好于5％。