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Y环单元FSS结构参数对频率特性的影响 总被引:7,自引:3,他引:4
利用谱域分析法,从Y环单元的臂长、臂宽、缝宽、加载介质的厚度及介电常数等方面,研究了Y环单元频率选择表面(Frequency Selective Surface简称FSS)结构参数对其频率响应特性的影响;采用镀膜和光刻技术制备出了相应的实验件,并在微波暗室进行测试,测试值与计算值基本一致。结果表明:臂长主要影响中心频率,臂长从3.8 mm增大到4.7 mm时,中心频率从11.9 GHz下降到8.9 GHz;单元间距主要影响带宽,单元间距从0.3倍波长增大到0.5倍波长时,-3 dB带宽从3.2 GHz减小到1.0 GHz;臂宽和缝宽在影响中心频率的同时也影响带宽;介质加载主要使中心频率降低,但是中心频率并非随着介质层厚度的增加单调减小;加载介质的厚度和介电常数都影响中心频率,但中心频率对介电常数的变化更为敏感;介质加载也影响中心频率处的功率传输,如果对加载介质进行合理的匹配能改善FSS的传输特性。 相似文献
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为了预警空间天气,需对日地空间物理过程进行监测,极紫外(Extreme Ultraviolet, EUV)滤光片是极紫外成像仪其中的重要组成部分,用来去除太阳辐射光谱中的非工作波段的辐射。为了优化EUV滤光片在17.1 nm波长处的透过率,本文基于比尔-朗伯定律通过理论计算和软件模拟确定17.1 nm EUV滤光片的材料及厚度。首先,采用真空热蒸发的方式在熔石英基底沉积脱膜层和金属薄膜,成功制备了以镍网为支撑的EUV滤光片。经测试,滤光片在17.1 nm处的透过率约为43.81%,表面光滑平整且无明显针孔。接下来为了说明氧化层对透过率的影响,使用椭圆偏振光谱仪测量滤光膜样品,得到放置不同时间的氧化层膜厚,并测得粗糙度来优化模拟滤光片透过率。利用IMD拟合样品氧化层厚度及粗糙度,调整层厚达到与实际测量值最为接近的曲线。实验结果表明滤光片透过率的模拟值与测量值绝对误差约1%,符合良好。本文为17.1 nm EUV滤光片提供了制备方法以及优化思路,在空间探测领域有重要应用价值。 相似文献
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针对薄膜滤光片倾斜入射时产生的偏振光中心波长分离现象和偏振相关损耗,本文利用等效层理论设计了倾斜入射下中心波长消偏振的100GHz信道间隔滤光片膜系结构,实现了薄膜滤光片的角度和波长调谐。首先通过相位关系分析,计算了滤光片间隔层的消偏振等效折射率,实现了不同偏振光中心波长的对准。然后,根据等效层理论,设计三层对称膜层结构实现了对间隔层中心波长消偏振等效折射率的替换。与原有的五层规整低偏振薄膜滤光片相比,本文提出的膜系结构更为简单,对消偏振等效折射率的替换更为精确。仿真和实验结果表明:该膜系结构的薄膜滤光片能实现0~20°倾斜入射的偏振光中心波长对准,偏振光波长偏离度小于0.03nm,波长调谐范围能达到35nm。 相似文献
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薄膜厚度对直流脉冲磁控溅射Mo薄膜光电性能的影响 总被引:4,自引:0,他引:4
采用直流脉冲磁控溅射方法在SLG衬底上沉积CIGS太阳电池背接触Mo薄膜,研究了薄膜的光学和电学性能随厚度的变化关系。结果表明,随着薄膜厚度的增加,薄膜的电阻率先降低后增加,在厚度284.3nm处电阻率最低,为7.3×10-4Ω.cm。不同厚度的Mo薄膜在各个波长处(200~840nm)反射率都随波长的增加而增大。随着薄膜厚度的增加,平均反射率总的呈下降趋势,在薄膜厚度284.3nm时出现一反射率高峰,其在200~840nm波长范围内的平均反射率达43.33%。 相似文献
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多层膜反射镜是30.4 nm正入射望远镜的主要反射元件,但它在紫外、可见和近红外光波段也具有很高的反射率,需要滤光片来消除这些长波辐射,而滤光片材料和膜层厚度对滤光片的性能起重要作用.根据原子散射因子,理论计算出几种材料波长和线性吸收系数之间的关系,确认铝是30.4 nm波段滤光片的最好材料.在考虑透过率和膜强度的基础上,确定了滤光片的膜层厚度.改进了现有的由Mcpherson 247掠入射软X射线-真空紫外单色仪和气体空心阴极光源组成的光谱测量装置,使其适合于透过率的测量,其波长扫描精度为±0.017~±0.097 nm,对所制备的铝滤光片进行25.6~1 000 nm波段的透过率测量,测量结果显示其在30.4 nm 处的透过率为58.85%.为了比较全面地反映该种滤光片的透过率情况,又测量了它在紫外、可见和近红外波段的透过率,其值接近零,证明了该滤光片可满足30.4 nm成像系统的需要. 相似文献
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HOM系列高精度光学膜厚监控系统的研制 总被引:6,自引:2,他引:4
叙述了新研制的适用于DWDM窄带滤光片成膜控制的高精度光学膜厚监控系统.该系统在光谱带宽0.1nm条件下,暗噪声小于±0.005%,性能优于目前的报道.使用它已成功地实现了100GHz,50GHzDWDM窄带滤光片全自动成膜监腔.由其派生出的HOM系列的其他类型光学膜厚监控系统,可适用于不同的优质膜的过程控制. 相似文献
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多层膜反射镜在30.4nm正入射望远镜上是主要的反射元件,但是它在紫外、可见和近红外光波段也同样有很高的反射率,因此需要滤光片来消除这些长波辐射。选择合适的滤光片材料和膜层厚度对滤光片的性能起到重要的作用。本文根据原子散射因子,理论计算出几种材料波长和线性吸收系数之间的关系,确认铝是30.4 nm波段滤光片的最好材料;考虑到透过率和膜的强度的需要,确定了滤光片的膜层厚度。改进了现有的由Mcpherson 247掠入射软X射线-真空紫外单色仪和气体空心阴极光源组成的光谱测量装置,使其适合于透过率的测量,并且波长扫描精度为±0.17Å~±0.97Å,又用其对所制备的铝滤光片进行25.6 nm~1000 nm波段的透过率测量,测量结果显示它在30.4 nm 处的透过率为58.85%。为了比较全面地反映它的透过率情况,又测量了它在紫外、可见和近红外波段透过率,测量的透过率接近零,因此证明该滤光片满足30.4 nm成像系统的需要。 相似文献
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用IAD法制作的高密集型分波复合器滤光片的特性 总被引:1,自引:0,他引:1
随着高密集型分波复合器需要的不断增加,在光纤通讯领域中,光学薄膜滤光片已经成为了一个很关键的光学元件。在高密集分波复合器中,我们用IAD方法制作了低损失、高稳定性的超窄带滤光片并在本文加以讨论。在湿度环境试验中,这种高堆积密度的光学薄膜显示了没有任何波漂。在温度环境试验中,它的热稳定性为0.0012nm /℃。在使用Ta2O5/SiO2,用于100GHz的滤色片的场合下,窄带滤色片的插入损失为0.34dB。在使用Nb2O5/SiO2,用于200GH2 的滤色片的场合下,插入损失为0.17dB,两者都显示了极好的分光光谱特性,甚至半宽为0.66nm 的情况下,它们的截面SEM 微结构显示了非晶结构,平坦的表面与界面。 相似文献
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The use of a sodium film as a filter for wavelengths between 40 and 80 nm is discussed, and a technique to prepare these films is described. Sodium films of 230 nm thickness were demonstrated to have a transmission of 55% at 100 degrees K at a wavelength 41 nm. The transmission decreased to 40% after 18 h in a vacuum of 5x10(-8) Torr. Films of this thickness were shown to attenuate 20.5-nm radiation appearing in second order at 41 nm by at least a factor of 50. 相似文献
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The β-FeSi2 thin film has been applied in the research field of the solar cell,and the thickness of β-FeSi2 absorption layer was chosen through the experiments.However,Up to now neither the optimal thi... 相似文献
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Nanostructured multilayer films of TiN/TiBN with different bilayer thicknesses (Λ) were deposited onto Si(1 0 0) wafers (for mechanical analyses) and AISI M42 tool steels (for tribological measurements) at room temperature by reactive unbalanced magnetron sputtering in an Ar–N2 gas mixture. The effects of different Λ values on mechanical and tribological properties were studied by atomic force microscope (AFM), scanning electron microscope (SEM), microindentation measurements, Rockwell-C tester, nano- and micro-scratch tester, impact tester, pin-on-disc tribometer, and Fourier-transform infrared spectroscopy (FTIR). It was found that the mechanical and tribological properties of multilayer films (typically 1.4 ± 0.1 μm in thickness) were closely related to Λ (varied from 1.4 to 9.7 nm). For the best multilayer film with Λ = 1.8 nm, a maximum hardness of 29.5 GPa was achieved and the best cohesive and adhesive strength was evidenced in terms of critical load values of LC1 (37 N), LC2 (>80 N) and the highest adhesion strength (HF1). Moreover, by the dynamic impact testing this multilayer film could endure impact cycles up to 4 × 105 without adhesive failure. It was also found that the nano-scratch test under single-pass and constant-load conditions showed that the frictional coefficients decreased with Λ and increased with normal load due to the ploughing effect. The enhanced hardness in the multilayer films with small Λ values improved the wear resistance and lowered the frictional coefficients. The frictional coefficients obtained at 5 N were kept at 0.5 and increased from 0.52 to 0.65 when Λ increased from 1.8 to 9.7 nm at 2 N. By FTIR analyses, the multilayer films with Λ = 1.8 and 2.2 nm showed the presence of h-BN which provided a lubricating function resulted in lower frictional coefficients and wear rates. The tribological properties of the TiN/TiBN multilayer films with different Λ values are also explained in terms of mechanical properties and wear mechanisms. 相似文献