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采用射频磁控溅射工艺,在紫外熔融石英衬底上制备了MgF_2薄膜。通过改变溅射功率和氩气流量,研究了主要溅射工艺参数对薄膜结构和光学性质的影响规律。试验结果表明,选择合适的溅射功率和氩气流量可以提高MgF_2薄膜的光学性质,有利于MgF_2薄膜在紫外波段的应用。 相似文献
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采用自蔓延离心法制备WCx/Fe金属陶瓷内衬钢管,研究离心加速度对金属陶瓷组织的影响。结果表明,当离心加速度为50g时,涂层中存在氧化铝陶瓷相,随着离心加速度的增加,涂层组织由树枝晶向等轴晶转变。当离心加速度为200g时,涂层中的硬质相呈梯度分布。 相似文献
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主要研究了经不同温度退火后 HfO2 高k栅介质薄膜的电流电压特性,结果表明,在栅极入射下,漏电流与 Au/HfO2 界面处的陷阱密度密切相关,在高电场下,Au/HfO2/p-Si 结构的主要导电机制为 Schottky发射和 Poole-Frenkel 发射。研究了电压应力对栅介质薄膜稳定性的影响,由于局部导电通道的形成,经时电介质击穿(TDDB)现象被观察到 相似文献
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