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1.
使用第一性原理杂化泛函HSE06的方法对Nb掺杂SnO_2(NTO)的电子特性和光学性能进行了研究。计算得出NTO具有较小的结构畸变。本征SnO_2的直接带隙为3.80 eV,Nb掺杂使SnO_2的直接带隙减小,但大于3.33 eV。受Nb 4d轨道的影响,导带底的电子有效质量先减小后增加,并且导带向价带方向移动增加了电子亲和力。对其光学性能进行研究得出Nb掺杂扩宽了SnO_2的光学带隙,使红外光区的反射率增加。  相似文献   
2.
雷达隐身材料对提高武器装备的生存和防御能力具有重要意义.氮化物材料由于其自身优异的物理化学性能,有望成为一种新型吸波应用材料.本文总结了近年来氮化物吸波材料的研究进展,论述了氮化钛、氮化铁、氮化锰、碳氮化硼和合金氮化物等吸波材料的研究现状,并从形貌调控、仿生结构设计、高温吸波特性和吸波机理等方面展望了氮化物吸波材料未来的研究趋势.  相似文献   
3.
采用气溶胶辅助化学气相沉积法(AACVD)在玻璃衬底上沉积F掺杂SnO_2(FTO)薄膜,研究了前驱液中不同F/Sn摩尔比制备的FTO薄膜的结构、表面形貌、光学、电学及光致发光性能。结果表明:所制备FTO薄膜均为(200)面择优取向的多晶四方金红石相结构;前驱液中F/Sn摩尔比的增加,会导致(110)面的衍射峰强度增加,薄膜表面堆积颗粒形状发生变化,薄膜样品光学透过率提升;当F/Sn摩尔比=40%时,FTO薄膜具有最大的载流子浓度1.031×10~(21) cm~(–3)以及最小的电阻率3.42×10~(–4)?·cm,这可归结为适量F的存在产生不同的缺陷影响。(200)面择优取向FTO薄膜光致发光谱可用于表征不同缺陷形式的跃迁。  相似文献   
4.
采用常压化学气相沉积法在浮法玻璃上制备了阳光控制镀膜玻璃。用扫描电镜和能谱仪对镀膜玻璃表面的缺陷进行了观察,分析了产生缺陷的原因。结果表明:镀膜玻璃样品表面存在典型的孔洞、翘曲和皱褶等缺陷,缺陷的尺寸不超过100μm,孔洞缺陷发生在薄膜与基体之间。缺陷的形成与制备工艺条件,如:反应气体的配比、流量、玻璃板的厚度与玻璃基体的化学成分等因素有关。  相似文献   
5.
采用常压化学气相沉积法(APCVD),以有机金属化合物-单丁三氯化锡(C4H9SnCl3,MBTC)和三氟乙烯(CF3COOH,TFA)为前驱物和掺杂剂,以水为催化剂,在线制备了F掺杂的SnO2膜;采用XRD、SEM、椭偏仪等方法研究催化剂H2O的用量对薄膜的结构和光电性能的影响.结果表明,H2O可促进反应混合气体在基板表面的热分解反应,加速薄膜沉积速率,提高薄膜结晶性能.  相似文献   
6.
采用喷涂法在5mm普通浮法玻璃上制备了纳米级锐钛矿型TiO2薄膜,并进行了不同温度的热处理。采用原子力显微镜、X射线衍射仪和纳米压痕仪分析了薄膜的形貌、结构和微观力学性能。讨论了热处理温度对纳米TiO2薄膜微观力学性能的影响。结果表明:随着热处理温度由20℃升高到500℃,薄膜中TiO2均变为锐钛矿型,平均晶粒尺寸略有增加,薄膜表面平整;随热处理温度从350℃升至500℃,平均粗糙度由12.516nm降低至11.433nm;热处理后纳米压痕硬度和弹性模量均有增加,分别由412.6MPa,14.9GPa增加到908.3MPa,28.4GPa;塑性指数逐渐增大,由0.028增大到0.032;摩擦因数由0.166降低到0.120。  相似文献   
7.
采用喷雾热解法(SPD),分别使用甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇和去离子水作为溶剂制备F掺杂的SnO2(FTO)透明导电薄膜,使用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、四点探针电阻仪、霍尔效应仪和紫外可见分光光度计等手段对薄膜进行测试和表征,研究了溶剂对FTO薄膜结构、形貌和光电性能的影响,研究了溶剂对FTO薄膜结构与光电性能的影响。结果表明:FTO薄膜具有四方相金红石结构;使用不同溶剂制备的薄膜,其表面形貌和颗粒尺寸明显不同;使用甲醇为溶剂制备的FTO薄膜呈现饱满的金字塔状,晶粒尺寸均匀,结构致密,具有最佳的综合光学和电学性能,其电阻率可达4.43×10-4 Ω·cm,载流子浓度为9.922×1020 cm-3,品质因数为1.646×10-2 Ω-1,可见光区透射比均大于75%。  相似文献   
8.
采用X荧光光谱仪对超白玻璃样品进行成分分析,采用计算软件并结合经验公式计算了超白玻璃在熔化时的热导率、温度梯度和粘度等参数并与普通浮法玻璃进行了对比分析。结果表明,超白玻璃中的Fe2O3含量约为0.01%,热导率约为1.3145W.m-1.K-1,温度梯度较小,在玻璃液中的变化并非线性变化,是随玻璃液深度的增加而降低。与普通浮法玻璃相比,当表面温度相同时,在深度为120cm处超白玻璃液温度高约95℃,粘度却是普通浮法玻璃液的1/3左右。  相似文献   
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