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1.
高频结构仿真器(HFSS)是一种微波器件设计软件,该软件界面友好,通过仿真计算减小了调试工作量,使得微波器件的设计变得简单易行。本文利用HFSS对波导魔T进行了仿真分析,得到了该器件的S参数和动、静态场的分布情况,并对该器件进行了优化设计。  相似文献   
2.
复杂土坝的渗流安全分析评价   总被引:1,自引:1,他引:0  
根据福华山土坝的渗流观测资料,建立了测压管水位的回归统计模型,定量分析了各影响量(水位分量、时效分量)对测压管水位的影响效应。在此基础上,结合观测资料,采用有限元法反演了大坝各填筑区的渗透系数,并综合评价了大坝的渗流性态。  相似文献   
3.
The oxidation behavior of Hastelloy-XR alloy was investigated to obtain the optimum surface condition for corrosion-resistant glass-coatings. The surface morphology of oxide scales changed significantly with variation of temperatureand oxygen partial pressure (po2 ). The oxidation kinetics was mainly parabolic independent of oxidation conditions.The oxide scales were consisted of inner Cr2O3 and outer spinel layers. The phase component of spinel layers wereMn1.5Cr1.5O4 and (Mn,Ni)(Cr,Fe)2O4 for the oxygen partial pressures po2<10 kPa and po2>10 kPa, respectively.The optimum oxidation condition to obtain an oxide scale for well-adhered glass-coating to the substrate was 1248 Kand po2 =0.01 kPa for the oxidation time of 43 ks.  相似文献   
4.
Effect of stoichiometry on microstructures, electrochemical properties and PCT characteristics of the alloys MI(Ni0.71Co0.15-Al0.06Mn0.08)x (MI=Lanthanum-rich Michmetal, x=4.6~5.2) have been investigated. The lattice constants a, c, and cellvolumes of non-stoichiometric alloys are bigger than those of the stoichiometric alloy. With the increasing stoichiometry x,the value of a decreases, and the value of c and cell volume increases except for those of the stoichiometric alloy; the plateaupressure of PCT curve, discharge capacity and cycling stability all increase. The alloy with x=5.2 shows the highest dischargecapacity and the best cycling stability among the studied alloys.  相似文献   
5.
工艺因素对金属封装外引线弯曲疲劳的影响   总被引:2,自引:2,他引:0  
考察了金属封装外壳制造工艺对外引线弯曲疲劳的影响,发现电镀镍是导致外引线弯曲次数明显减少的最主要工艺步骤,且随镀镍层厚度的增加,弯曲次数减少。此外还讨论了外引线的氢含量和晶粒度对引线抗疲劳能力的影响。  相似文献   
6.
1 IntroductionThestickingpointofassociationrulealgorithmsdependsoneffectivelyfindingallcorrelationpatternsthatsatisfyvaluerequirementinthemagnanimityofdata.Butthealgorithmsalsobringanegativeef fect:thenumberofassociationrulesisverylarge.Alsoinformation…  相似文献   
7.
8.
9.
10.
介绍了电子束曝光技术、EUV光刻技术和X射线光刻技术的进展;对各种纳米电子器件如单电子器件、共振隧穿器件和分子电子器件的研究现状及面临的主要挑战进行了讨论。  相似文献   
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