射频磁控溅射方法制备掺氮TiO2薄膜及其结构和亲水性研究

本文采用磁控溅射方法制备掺氮TiO2薄膜。将TiO2作为靶材,通以N2/Ar混合气体来精确控制N的掺杂量。为改善掺氮TiO2薄膜的性能,首先将试样放于退火炉中退火,退火温度范围为300-600℃;再将试样放于黑暗处一段时间;最后用可见光（visible-light, VIS）照射。采用扫描电子显微镜（Scanning electron microscopy, SEM）观察薄膜的表面形貌,结果表明,颗粒尺寸随退火温度升高而增大。采用X射线光电子能谱（X-ray photoelectron spectroscopy, XPS）研究薄膜的化学成分,结果表明,薄膜中生成了N-Ti-O (β-N)和羟基,这可能是因为N掺杂入TiOx晶格引起的;且羟基含量随退火温度升高而增加,使得基片有更好的亲水性。采用X射线衍射（X-ray diffraction, XRD）研究薄膜的晶体结构,结果表明,退火后非晶薄膜转变为晶态。采用接触角仪测试薄膜的亲水性,结果表明,水接触角随退火温度升高而减小,这可能是由于颗粒尺寸和羟基含量的改变造成的。亲水性也受避光储存时间的影响,实验结果表明,随着储存时间的增加,水接触角增加。可见光照射实验表明,可见光照射后薄膜的亲水性增加。     

一种结合遗传算法的工控协议模糊测试方法

模糊测试在工控协议的漏洞挖掘中有很好的适用性,但传统的模糊测试存在着用例的生成工作量大、失效率高等弊端.为了解决这些问题,设计了一个结合遗传算法与模糊测试的工控协议模糊测试器GA-Fuzzer,并引入基于维度变换的用例空间模型和危险点的概念.在GA-Fuzzer中,构造了更有效的动态适应度函数,同时设计了动态变异算子和交叉算子优化测试用例.在相同实验环境下,分别采用开源模糊测试方法Peach以及GA-Fuzzer对目标进行测试,结果显示GA-Fuzzer可有效改善传统遗传算法过早收敛的问题,且与Peach相比,达到相同的测试预期所使用的用例数量降低27.20％,测试时间降低34.82％.