ITO/PET衬底上掠射角溅射沉积WO3薄膜及其电致变色性能

采用直流磁控反应溅射法,以不同掠射角度在ITO/PET衬底上沉积WO3薄膜。利用场发射扫描电子显微镜（FE-SEM）和能谱仪（EDS）对WO3薄膜表面和断面的形貌及化学组成进行表征;利用电化学工作站和紫外分光光度计对WO3薄膜的电化学性能和光学性能进行分析。结果表明,当掠射角60时,薄膜表面形成类似于山峰状形貌,断面为纳米斜柱状结构,该结构有利于离子和电子的迁移。当掠射角=80时,沉积的WO3薄膜具有最快离子扩散速率和最大光调制幅度,着色效率达到27.05cm2/C。同时,薄膜还表现出快速响应和良好循环稳定性。