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本文以现行国家标准(GB/T11805-1999)的有关技术规范为依据,并运用根目展开的方式,剖析了水电机组自动化元件(装置)的配置中所涉及的各监控参量,监控内涵以及监控手段等要素关系,图表简明切实,可供同业人员实作中参考。 相似文献
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<正>在低的衬底温度(约300℃)下生长的GaAs层具有较高的电阻率,较小的光敏特性。低温生长的GaAs层用于MESFET作缓冲层,能够消除背栅效应,改善光敏特性等。国外研究结果表明,低温GaAs缓冲层为富砷结。 用国产MBE—Ⅲ型分子束外延设备进行低温生长GaAs层的研究。半绝缘GaAs衬底温度约580℃,生长约50nm GaAs层。反射高能电子衍射(RHEED)的衍射图样为(2×4)结构。然 相似文献
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地下采矿生产包括一系列相互关联的工艺过程。在研究地下矿山生产效率管理方法时,主要任务是确定与各个工艺过程密切相关的判据参数。根据作者的研究,即把合格块度看作是这样的一个参数。一般都根据矿石和围岩的物理技术特性、矿石储量、矿石品位、矿区地表状况和生态环境等地质和矿山技术资料进行矿山设计。根据这些资料选择采矿方法(空场法、支 相似文献
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金属矿床采用高效率采矿方法有助于推广自行式设备和提高技术经济指标,但自行式设备作业时会往矿井大气中排出大量有毒气体和粉尘。为了改善劳动条件,必须采取一系列技术措施,以便将有害物质含量降到极限容许浓度。巷道通风是主要的措施之 相似文献
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业已明了,SOI器件用绝缘物进行元件隔离,可减小电容和布线电容值。所以,人们深信集成电路可达到更加高密度,高速化。大家早就知道,SOI器件有采用在蓝宝石单晶衬底上外延生长单晶硅薄膜的“蓝宝石上硅”(SOS)器件及采用在SiO_2上沉积多晶硅薄膜制作的“绝缘体上硅”(SOI)器件。采用多晶硅薄膜制作的SOI器件与SOS器件相比较,其特点是,由于SOI器件能在非晶形绝缘膜上制作,所以,可采用任意衬底。但存在的问题是,由于其采用的薄膜不是单晶而是多晶,所以晶粒边界会造成载流子紊乱,MOS FET的场效应迁移率与体硅及SOS相比,降低至1%。 相似文献
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近年来,全苏冶金工业联合公司各矿,在保证合理利用矿产资源方面作了大量工作。公司所属各企业(塔什塔戈尔、舍利格什等铁矿)开采的铁矿床是厚达200米的急倾斜矿体。矿床用竖井开拓,横巷采准。矿 相似文献
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开采工程地质和水文地质条件复杂的矿床时,道路和铁路的投资和经营费会因路基承压能力低而大量增加。在这种条件下采用常规的土壤加固方法,往往既费工又费钱,而且效果也差。所以近年来在道路修筑实践中,尤其是修筑临时的或移动的铁路线时, 相似文献