MA-AM-AA三元共聚物的制备及阻垢性能

以马来酸酐(MA)、丙烯酸(AA)和丙烯酰胺(AM)为原料,研制出环保型三元共聚阻垢剂PMAA,并通过研究其阻垢性能确定了产品的最佳工艺配方。实验结果表明,当单体的质量配比m(AA)∶m(AM)∶m(MA)=2∶3∶0·5,引发剂用量为单体总质量的1.5%,反应温度为80℃,单体质量分数为15%时,得到的聚合物PMAA的用量为5mg/L时,用国标法测得其对碳酸钙的阻垢率达94·15%,对磷酸钙的阻垢率达80·93%。     

异种双活性基染料湿摩擦牢度再探讨

影响异种双活性基染料湿摩擦牢度主要有四个基本因素:染色基质的可染性、活性染料的化学结构、洗涤效率和助剂因素。提出了棉坏布预处理、使用助剂、提高染料的固色率和吸尽率、提升力等9项改进此类染料湿处理牢度的措施。有3篇参考文献。     

水性环氧内舱涂料的研制

研制了水性环氧内舱涂料.讨论了颜料体积浓度、环氧树脂与固化剂配比、活性稀释剂用量、防腐颜料及助剂等因素对漆膜性能及应用的影响.     

Catalytic aerobic oxidation of ethylbenzene over Co/SBA-15

Co(II)O was highly dispersed in the mesopores of SBA-15 by alcoholic impregnation method and characterized by XRD, TEM, UV–VIS DRS, TPR, and XRF techniques. It was found that tetrahedral coordinated Co(II)O was stabilized by SBA-15 at low Co-loading. Co/SBA-15 showed much higher activity than Co(OAc)₂ or Co₃O₄ in the liquid-phase aerobic oxidation of ethylbenzene under solvent-free condition.     

活性染料染色物若干色牢度问题分析和改进技术

活性染料染色物的色牢度如光牢度、汗-日光牢度、湿摩擦牢度和耐氯牢度等问题是当今活性染料存在的主要问题之一.本文分析了产生这种问题的原因以及活性料受影响的部位,并提出了改进的技术.     

银杏叶中黄酮类化合物的提取工艺研究

研究了乙醇-水体系浸取银杏叶中黄酮类化合物的工艺条件,通过分光光度法测定黄酮的含量并计算它的浸出率。根据黄酮类化合物浸出率的计算结果,选用70%乙醇溶液为提取剂,并通过正交试验给出了黄酮类化合物的最佳浸出条件:浸取温度70℃,固液比1∶20,浸取剂pH=8,银杏叶中黄酮类化合物的浸出率可达到92.2%。     

活性染料染色物若干色牢度问题分析和改进技术

活性染料染色物的色牢度如光牢度、汗-日光牢度、湿摩擦牢度和耐氯牢度等问题是当今活性染料存在的主要问题之一。本文分析了产生这种问题的原因以及活性料受影响的部位,并提出了改进的技术。     

基于相变存储器的存储系统与技术综述

随着处理器和存储器之间性能差距的不断增大,"存储墙"问题日益突出,但传统DRAM器件的集成度已接近极限,能耗问题也已成为瓶颈,如何设计扎实有效的存储架构解决存储墙问题已成为必须面对的挑战.近年来,以相变存储器(phase change memory,PCM)为代表的新型存储器件因其高集成度、低功耗的特点而受到了国内外研究者的广泛关注.特别地,相变存储器因其非易失性及字节寻址的特性而同时具备主存和外存的特点,在其影响下,主存和外存之间的界限正在变得模糊,将对未来的存储体系结构带来重大变化.重点讨论了基于PCM构建主存的结构,分析了其构建主存中的写优化技术、磨损均衡技术、硬件纠错技术、坏块重用技术、软件优化等关键问题,然后讨论了PCM在外存储系统的应用研究以及其对外存储体系结构和系统设计带来的影响.最后给出了PCM在存储系统中的应用研究展望.     

超塑性Y-TZP增韧陶瓷超细粉末的研究

用化学共沉淀法制备了3mol％Y_2O_3-ZrO_2超细粉末。利用热分析,x射线,透射电镜,颗粒粒度分析仪分析了粉料的相组成;颗粒形貌、大小;粉料的团聚状态;化学组成的均一性以及其烧结性能,并结合烧结试样的显微结构和力学性能对粉末的性能做出了评价。实验表明,所制备的粉料组成较为均匀;粒度分布窄;团聚体尺寸小,烧结活性高;颗粒粒度约为200(?)。粉料的相组成主要为四方相和约26％的单斜相。3Y-TZP陶瓷材料三点弯曲强度达1479.14MPa,断裂韧性为13.2MPa·m~(1/2),超塑性压缩变形达190％。     

基于矩阵相似度的最佳样本块匹配算法及其在图像修复中的应用

在基于纹理合成的图像修复算法中,最佳样本块匹配算法存在匹配精度不高和时间复杂度高等问题。针对上述问题,首先构造了块匹配算法,采用矩阵相似度来计算模板块与样本块之间的匹配度,以相对较粗的粒度初步选出最佳样本块的候选集。然后,又构造了像素点匹配算法,采用模板块与候选最佳样本块之间的误差矩阵的内积来计算对应像素点之间的匹配度,以更细的粒度来确定最终的最佳样本块。块匹配算法降低了时间复杂度,像素点匹配算法提高了匹配精度,因此,在此基础上构造的基于相似矩阵的最佳样本块匹配算法能够在不增加时间复杂度的情况下提高算法的匹配精度。实例验证结果表明,与当前基于纹理的图像修复算法相比,该算法的匹配精度提高,时间复杂度降低。