活性屏离子氮化机理的研究

在真空室内放置一个铁制的网状圆筒 ,并与直流高压电的负极相接 ,在直流电场的作用下 ,通过气体离子对圆筒的轰击溅射 ,产生了一些纳米数量级的活性粒子 ,利用这些高活性的纳米粒子簇可以对放置在圆筒内钢的表面进行氮化处理。实验证明 ,这些活性粒子是中性的Fe4N粒子 ,所以被处理的工件既可以处于悬浮电位 ,也可以处于零电位。活性屏离子氮化可以获得和普通直流离子氮化同样的处理效果 ,并解决了离子氮化技术的不足。     

甲烷在离子氮碳共渗中的作用

研究了在离子氮碳共渗过程中甲烷对化合物层厚度的影响 ,同时对化合物层的微观组织结构和显微硬度进行了分析。结果表明 :在离子氮碳共渗过程中 ,气氛中少量的碳促进ε相的生成 ,化合物层厚度增加 ;过量的碳抑制ε相的生成 ,化合物层厚度反而降低。     

离子软氮化与离子氧化复合处理

用自行研制的保温式多功能离子热处理炉对 45中碳结构钢进行了离子软氮化与离子氧化复合处理 (Ion(NC +O)复合处理 )。Ion(NC +O)复合渗层是由黑色致密的Fe3O4膜、ε白亮化合物层和γ′扩散层等三部分组成。实验结果显示 ,经Ion(NC +O)双重复合处理后 ,45钢的表面硬度和耐蚀性能都有大幅度的提高。与化学法的QPQ技术相比 ,Ion(NC +O)复合处理技术是一种环境友好的处理技术。     

渗碳气体对201奥氏体不锈钢低温离子渗碳效果的影响

用不同的渗碳气体对201奥氏体不锈钢进行了低温离子渗碳(DCPC)处理。实验证明,甲烷和乙炔均可在不锈钢表面形成一层无碳化铬析出的碳的过饱和固溶体(Sc相),使其表面的硬度和耐蚀性均有较大幅度的提高。但用甲烷作为渗碳气体处理的不锈钢表面有一层黑膜,破坏了不锈钢原有的光泽;而用乙炔作为渗碳气体不仅可以获得较为光亮的表面色泽,同时其硬度和耐蚀性也有进一步的提高。     

信息化“破壁”之旅

花粉虽然含有丰富的营养,但每一粒花粉都具有一个厚厚的“壳”,只有通过特殊手段给花粉“破壁”,其中的营养才能为人所吸收。企业信息化是个相似的过程,一些无形的“壁”,阻碍着企业汲取信息化的营养,尤其快速增长性企业,要实现更大的飞跃,一定需要经历一个突破信息化难点的“破壁过程”。     

Setllite Ni60等离子弧熔覆层的磨损机理研究

运用热等离子弧熔覆法，在Q235基体表面熔覆了镍基合金，对合金的组织及形成原因进行了分析，同时研究了熔覆层和基体的界面。试验表明，熔覆层有较好的耐磨性。指出其原因主要是因为形成大量的高强韧镍基固溶体和耐磨的硬质相及表面形成的细小组织对耐磨性的贡献，并从多方面分析了耐磨机理。     

热等离子弧熔覆合金涂层的制备与组织性能

在自制的热等离子非转移弧熔覆设备上用 Stellite Ni6 0合金在钢的表面上进行熔覆处理。用优化后的熔覆工艺参数可以获得零稀释率的熔覆层 ,而且熔覆层与基体结合牢固。在对熔覆层进行化学成分、组织结构分析后发现 :熔覆层可以分为三层组织结构 ,这三层组织结构的形成与熔池的凝固过程有关。实验结果证明 ,热等离子非转移弧是一种比较理想的熔覆热源     

离子氮碳氧复合渗对45钢耐磨性能的影响

用离子氮碳氧复合渗处理的方法 ,在绝热式离子热处理炉上对 45钢试样进行处理。通过金相显微镜和X射线衍射仪观察了化合物层的显微组织和微观结构及在MPX 2 0 0型盘销式摩擦磨损试验机上进行纯滑动干磨损试验。结果表明 ,45钢经离子氮碳氧复合渗处理后 ,表层可获得化合物和氧化物的复合渗层 ,明显提高 45钢的耐磨性能。     

等离子体化学气相沉积Ti—N—C膜的研究

用XPS,AES,XRD,SEM及显微硬度计分析和测试了不同成分的等离子体化学气相沉积(PCVD)Ti—N—C膜,并与PCVD一TiN膜比较。认为:Ti—N—C膜优异的耐磨性可归因于高显微硬度及致密的结构。AES及XPS分析结果表明,Ti—N—C与TiN膜表面吸附的氧原子价态不同,其决定因素是膜晶格中是否有足够的碳原子存在。氧吸附态的不同可能导致不同的磨损失效方式。     

活性屏离子渗氮技术的研究

在真空室内放置一个钢制网状圆筒，并与直流高压电的负极相接，在直流电场的作用下，通过气体离子对圆筒的轰击溅射，产生了一些纳米数量级的活性粒子，利用这些高活性的纳米粒子簇可以对放置在圆筒内的钢件表面进行渗氮处理。试验证明，这些活性粒子是中性的Fe4N粒子，被处理的工件既可以处于悬浮电位，也可以接地。活性屏离子渗氮可以获得和直流离子渗氮同样的处理效果，并解决了直流离子渗氮技术多年来一直存在的许多难以克服的问题。