紫外曝光在ZrO2薄膜上引入微结构的研究

以锆酸丁酯和苯甲酰丙酮为源,结合Sol-gel工艺,以溶液浸渍法制备具有负性光刻胶性质的ZrO2光敏凝胶.再通过掩膜紫外曝光经显影工艺获得光栅周期在2～10μm,深度120～200nm的ZrO2薄膜光栅.采用紫外分光光度计、红外分光光度计、AFM监控图形转移过程研究了图形精确转移的工艺并优化了工艺参数.     

化学法制备光学薄膜及其应用

概要综述了用化学法制备光学薄膜的浸渍镀膜法、旋转镀膜法、喷溅镀膜法、流延法、弯月面镀膜法和涂布镀膜法等方法,及其薄膜特性,诸如折射率、激光损伤阈值、机械强度等的控制技术,并展望了某些新型光学薄膜的应用前景。