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71.
建立了纳米级石墨化学镀铜的均匀性表征方法,为提高石墨镀铜颗粒的导电性和润滑性提供数据参考。采用化学镀铜的方法对石墨颗粒进行镀铜处理,并用XRD和TEM对纳米级石墨镀铜的结构和形貌进行了表征;通过对石墨化学纳米镀层TEM图像的分析,给出了一种适合于纳米级石墨镀铜TEM的二值化方法,结合数学形态学,定位出铜颗粒。提出了一种结合颗粒面积比和颗粒数量分布的均匀性表征方法。对不同纳米级石墨镀铜TEM图像进行了铜颗粒定位和均匀性分析。结果表明,铜颗粒定位准确,均匀性表征方法有效。同时,验证了对于纳米级石墨镀铜材料,石墨的颗粒越小,石墨镀铜中铜颗粒的分布越均匀。 相似文献
72.
半导体生产后工序设备中的若干视觉检测与伺服系统设计技术 总被引:9,自引:1,他引:9
针对半导体生产后工序设备中的高速高精度检测与控制问题,首先系统分析了芯片质量检测的任务,并提出了相应的视觉检测算法以及程序设计方法。其次讨论了硬件系统的设计问题,提出了送料系统的立体结构和终端执行机构的双四连杆伺服系统设计方法。从而有效地提高了设备的生产速度和灵活性。 相似文献
73.
贴片机设备中CAD-CAM数据接口的设计和实现 总被引:1,自引:0,他引:1
本文设计了一种CAD-CAM数据接口,用于实现贴片机贴装数据的自动提取和转换。该CAD—CAM数据接口以Protel PCB文件为源文件,通过分析PCB文件中元件信息的数据结构和数据格式,从中提取和转换得到贴片机所需的生产数据。实践证明该方法极大提高了贴片机的生产效率。 相似文献
74.
75.
铜导线中晶界对导电性影响的研究 总被引:2,自引:1,他引:2
通过设计不同的退火温度,得到了含不等晶界数的铜导线,以此研究了晶界对导电性的影响。测量结果表明:导线的电阻率随晶界数的增加而增加,这归结于晶界对传导电子的散射作用;晶界对电阻率的影响并不象空位、位错那样呈简单的线性关系,而是呈指数关系;晶界控制导线电阻率变化曲线的总趋势,而具体细节则由杂质的类型和数量来控制。 相似文献
76.
由于单一温度下的等温淬火工艺不能同时达到高硬度和高韧性,开发了两步法等温淬火热处理工艺。其原理是:工件经奥氏体化后,先在低温盐浴保温一段时间,使其基体在过冷度较大时大量形核,然后再经高温保温使基体组织转变成具有含碳量较高的残余奥氏体,细化组织,进而提高力学性能。通过在低温不同保温时间下的组织对比,确定较佳的低温盐浴保温时间;然后进行单一温度下等温淬火和两步法热处理工艺试验。将两种工艺的结果进行对比,发现两步法等温淬火工艺得到的组织和性能介于单一温度等温淬火工艺的低温和高温之间。 相似文献
77.
78.
79.
目前的经济衰退对处于不同市场位置的不同企业来说可谓如人饮水,冷暖自知。而处于这种环境的美国软件企业,他们将开源节流作为企业当前的上上策。 相似文献
80.