珠光体含量对球墨铸铁疲劳性能的影响

珠光体含量对球墨铸铁的疲劳性能有显著影响.对三种不同珠光体含量的球墨铸铁的疲劳性能进行了研究,测出QT600-3、QT700-2和QT740-3的疲劳强度,并绘出了各自的S-N曲线.结果表明球墨铸铁中珠光体含量越高,疲劳寿命越长.     

薄膜内杂质吸收热损伤机制的有限元分析

在介质薄膜中,薄膜中的嵌入杂质或缺陷是导致薄膜激光损伤的关键因素.为了理解球状杂质对薄膜热力学损伤的影响,以热传导方程为依据,采用有限元方法模拟了厚度为500nm的介质薄膜在激光辐射下的球状杂质吸收对薄膜的温度场分布的影响.分析了不同大小和深度的球状杂质对薄膜温度场的影响,发现大而浅的杂质对薄膜的温度场的影响较大,且薄膜在激光单脉冲作用时间内,最高温升不会出现在激光功率密度达到峰值的时刻,而是稍微滞后.     

TiO_2薄膜的XRD和XPS研究

运用 XRD和 XPS分析了反应电子束蒸发制备 Ti O2 薄膜热处理前后的晶体结构和各元素的化学状态。XRD结果表明 ,基片温度小于 30 0℃时 ,沉积态薄膜为非晶态 ;热处理后薄膜部分发展为具有 (0 0 4 )晶面择优趋向的锐态矿结构。 XPS分析表明 ,在工艺参数为真空度 2× 10 - 2 Pa,沉积速率 0 .2 nm/s,基片温度分别为 12 0℃ ,2 0 0℃和 30 0℃的条件下 ,热处理前薄膜中含有低价氧化钛 (Ti3+ ) ,其质量分数随基片温度的升高而降低 ,薄膜中O/Ti在 2 .1左右 ,热处理后低价氧化钛全部转变为具有良好化学计量的 Ti O2 ,薄膜中 O/Ti在 2 .2左右。热处理前后薄膜中均吸附有水分子。     

碱性条件下多孔SiO2增透膜的结构控制

以正硅酸乙酯为无机前躯体,在碱性条件下,采用溶胶-凝胶技术,用浸渍法提拉工艺制备了二氧化硅透明多孔薄膜.详细研究了催化剂的含量对溶胶及膜层性能的影响.利用Netzsch热分析仪研究了干凝胶在干燥过程中的热稳定性,用扫描电子显微镜(SEM)对样品薄膜的形态结构进行了表征以及用分光光度计考察了薄膜的增透性能.结果表明,氨用量的增加对溶胶黏度的影响不大,但缩短了溶胶达到最佳涂膜效果的陈化时间;随着氨水加入量的增加,SiO2颗粒的粒径增大;掺入有机添加剂N,N-二甲基甲酰胺可以提高薄膜的性能,有效抑制颗粒生长;氨水催化制备的薄膜透过率相对较高,膜层峰值在640～690nm范围内透射率达99%以上.     

挖坑效应对球形夹具下电子束蒸发沉积薄膜厚度均匀性的影响

厚度均匀性是薄膜制备过程中不可忽视的薄膜特性,厚度不均匀会导致薄膜成品率降低.熔融性比较差的镀膜材料在蒸发过程中以直接气化为主,挖坑效应比较明显.此时,在分析薄膜厚度均匀性时,蒸发源发射特性不随时间变化的假设不再合理.细分蒸发源为无数个小的薄板蒸发源,建立了镀膜材料出现挖坑效应时薄膜厚度均匀性的分析模型.结果表明,在所选镀膜机结构参数下,挖坑效应对薄膜厚度均匀性影响明显;但挖坑效应并不总导致薄膜厚度均匀性变差,设计合适的镀膜室结构以及薄膜制备工艺参数,可借助挖坑效应在一定程度上改善薄膜厚度均匀性.采用易于出现挖坑效应的材料作为镀膜材料时,该研究对设计薄膜沉积工艺参数具有指导性意义.     

康明斯6BT气缸盖铸件生产控制技术

叙述了康明斯６ＢＴ气缸盖铸造生产工艺及控制手段。通过选用合适的化学成分、伯水温度及低合金化处理，使气缸盖稳定地达到了ＨＴ２５０材质要求，采用计算机控制加工制造模具及自硬砂造型等先进工艺保证了铸件的尺寸精度，实现了流水线生产。     

铸态球墨铸铁基体组织对疲劳强度的影响

通过试验，对比分析了以铁素体为基体的球墨铸铁的疲劳寿命，研究了球墨铸铁的基体组织对疲劳强度的影响。试验结果表明：球墨铸铁的疲劳寿命与珠光体含量越高，疲劳寿命越长。     

AZO透明导电薄膜的制备技术、光电特性及应用

AZO透明导电薄膜是一种半导体氧化物薄膜材料,具有高的载流子浓度和较大的光学禁带宽度,因而具有优异的光电性能,极具应用价值.本文介绍了AZO透明导电薄膜的晶体结构和光电特性,综述了国内外对AZO薄膜所开展的研究工作,并简要地介绍了AZO薄膜的实际应用.     

玻璃基底上制备多孔氧化铝薄膜的研究

采用电子束蒸发和阳极氧化法,在B207光学玻璃基底上制备出了孔径大小可调、孔隙率可调的多孔氧化铝光学薄膜。用扫描电子显微镜(SEM)和分光光度计分别表征了薄膜的形貌和透射率。结果表明,电子束蒸发的铝膜表面质量比电抛光的铝箔表面质量差;与一次氧化法相比,二次氧化法可以显著提高膜的表面质量;与硫酸和草酸电解液相比,在磷酸电解液中制备的多孔氧化铝薄膜具有较大的孔径,更高的孔隙率;退火有利于多孔氧化铝薄膜透射率的提高。     

多孔阳极氧化铝模板上电子束蒸发沉积TiO_2

以硫酸、草酸溶液为电解液,采用二次阳极氧化法制备了初始孔径在20~120 nm、孔间距在40~250 nm、孔深在200 nm~80μm范围内的具有高度有序纳米孔阵列的多孔阳极氧化铝(porous anodic alumina,PAA)模板。以PAA模板为基片,采用真空电子束蒸发的方法在PAA模板上制备了具有高度有序的TiO2纳米点阵列。利用场发射扫描电子显微镜和原子力显微镜对其形貌进行了表征。研究表明,所形成的TiO2纳米点阵列具有同其基底PAA模板相同的序列结构。对TiO2纳米点阵列的生长形成机理进行了讨论。