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采用阳极氧化在钛基体上原位合成了自组装有序的纳米管TiO2薄膜材料,采用的电解质溶液为0.5mol/L NH4HF2+1mol/LNH4H2PO4水溶液。通过XRD,SEM对TiO2纳米管进行表征。研究表明,外加电压对TiO2薄膜的微观结构有很大的影响。在外加电压为20V时,氧化8h可得到长度为2pm,内径为80nm,外径为100nm的TiO2纳米阵列。经300℃热处理后,可得到锐钛矿型的TiO2。通过对成膜工艺的研究,提出了阳极氧化法制备有序TiO2纳米管的成膜机制。 相似文献
154.
阳极氧化铝电解着色选择性吸收涂层:钴盐电解着色 总被引:3,自引:1,他引:3
本文报道了在铝底材上采用磷酸溶液阳极氧化,钴盐电解着色方法制备的太阳能选择性吸收层。该吸收层的吸收率α_s=0.92—0.94,法向发射率ε_n=0.10—0.17。着色层经200℃加速试验及室外曝晒试验,光学性能无明显变化。氯化钠溶液内长期浸泡试验和磨损试验表明,该着色膜具有良好的耐蚀性和耐磨性。AES分析和X射线衍射分析表明,着色吸收膜是由多孔氧化铝、氢氧化铝和沉积在孔底的α钻构成。 相似文献
155.
156.
全片层组织TiAl–Nb合金的高温氧化行为及氧化层结构表征 总被引:1,自引:0,他引:1
以Ti-42Al-8Nb-0.2W-0.1Y(at%)合金为研究对象,通过热处理获得全片层组织,片层团尺寸约为85μm,在900℃空气条件下,对合金进行了100 h的抗氧化实验,主要研究了该Ti Al-Nb合金的高温抗氧化行为,并对氧化层的结构、成分及形成过程进行了深入分析。利用OM、SEM、XPS、XRD、和EDS对试样的微观结构、相组成及微区成分进行表征。结果表明:在900℃空气条件下,具有全片层组织的Ti Al-Nb合金,其恒温氧化动力学曲线符合近抛物线规律;长时氧化后,合金表面生成了结晶状颗粒氧化物,为Ti O2和A12O3的混合物;氧化层主要由外表面氧化层、中间过渡层和基体层构成,氧化膜完整厚度大约为6μm。由此可知,添加了合金元素且具有小尺寸片层团组织的Ti Al合金在900℃高温时,具有较好的抗氧化性能。 相似文献
157.
在1000 ℃-50 MPa-60 min条件下对高Nb-TiAl和Ni-Cr-W高温合金进行了扩散连接,通过光学显微镜(OM)、扫描电子显微镜(SEM)、能谱仪(EDS)和X射线衍射仪(XRD)对扩散连接界面处显微组织及相组成进行了分析。研究结果表明,未添加中间层时,高Nb-TiAl合金/Ni-Cr-W高温合金扩散连接接头处的相组成为γ-TiAl、Ni2AlTi、Ni3Ti、(NiCr)ss 相、γ 相。而高Nb-TiAl合金/Ti/Cu/Ni-Cr-W高温合金扩散连接接头处的相组成为Ti3Al、Tiss、Ti2Ni、rich Cu-NiAlTi、α2-Wss、Ni2AlTi、(NiCr)ss 相、γ相。此外,由于Cr和W的扩散速度较慢,Cr和W原子主要偏聚在靠近Ni-Cr-W高温合金的区域。Ti/Cu箔的加入有利于界面处元素的扩散和反应,可以有效避免微裂纹的产生。 相似文献
158.
锆离子轰击Zr-4的腐蚀行为及其慢正电子谱研究 总被引:1,自引:0,他引:1
为了研究锆离子轰击对Zr-4合金锆耐蚀性的影响,用金属蒸汽真空弧(MEVVA)源对纯锆样品进行了1?015 至2?017 cm-2 的锆离子轰击,加速电压为50 kV。用X-射线光电子谱(XPS)对轰击表面各元素进行价态分析;用俄歇电子能谱(AES)分析氧化膜厚度。对轰击样品进行3次极化测量,以评价轰击样品在1N 硫酸溶液中的耐蚀性。利用慢正电子谱研究了轰击样品表面的缺陷情况。研究结果表明:除1×1015cm-2剂量外,轰击样品的耐蚀性都好于空白Zr-4,且5×1016 cm-2离子轰击样品的耐蚀性最好,轰击样品的自腐蚀电位大体上随着剂量的增加而下降。轰击Zr-4样品的腐蚀行为与其慢正电子谱之间存在着一定的对应关系。 相似文献
159.