AlN/w-BN纳米多层膜的制备及其显微结构

用射频磁控溅射法在硅基片上制备了AIN、BN单层膜及AIN/BN纳米多层膜,采用X射线衍射仪、傅立叶变换红外光谱仪、小角度X射线反射仪、高分辨率透射电子显微镜和原子力显微镜等对其进行了表征.结果表明:AIN/BN多层膜具有(103)择优取向,并且当AIN层厚固定时,随着BN层厚的增加,(103)择优取向得到强化;AIN单层膜及AIN/BN纳米多层膜均呈岛状生长,多层膜界面粗糙度及表面粗糙度均随着BN层厚的增加而减小;多层膜中BN的结构与BN的层厚有关,当AIN层厚保持在4.0 nm且BN层厚为0.32～0.55 nm时,可获得晶态w-BN,当BN层厚增至0.74 nm时,BN呈非晶态.     

磁控共溅射制备锆-硅-氮复合薄膜的显微组织与性能

通过磁控共溅射方法制备了一系列不同硅含量的锆-硅-氮复合薄膜;采用能谱仪、X射线衍射仪、扫描电镜和微力学探针等对复合薄膜进行了表征;研究了薄膜中硅、锆原子比对复合薄膜的显微组织、高温抗氧化性能和力学性能的影响。结果表明：随着硅含量的增加,复合薄膜的ZrN（111）、（220）晶面衍射峰逐渐消失,呈现ZrN（200）择优取向;同时其性能逐渐提高,当硅、锆原子比为0．030时可获得最大硬度和最大弹性模量,分别为37．8GPa和363GPa;进一步增加硅含量,复合薄膜向非晶态转化,而薄膜的硬度和弹性模量迅速降低,抗氧化温度显著提高。     

磁控反应溅射TaN薄膜的结构和性能

采用磁控溅射仪制备了ＴａＮ薄膜,研究了不同氮分压条件下ＴａＮ薄膜的成份、结构和力学性能。结果表明,氮分压在０．２＊１０＾－１Ｐａ时镀层由两相混合物正方的β－Ｔａ和面心立方结构的δ－ＴａＮ组成。而氮分压在０．４＊１０＾－１－０．８＊１０＾－１Ｐａ时,得到单相六方ＴａＮ结构。     

基于WEB的企业实时多媒体信息VOD管理模式设计

本文介绍一种以 VOD管理模式组织管理企业实时多媒体信息 ,并在 Web环境下采用 Java视频流技术实现视频流的传输和播放的多媒体信息系统     

磁控溅射Ti1-xAlxN薄膜的微结构及性能研究

利用磁控反应溅射法制备了不同A1含量的Ti1-xAlxN薄膜.采用能谱仪、X射线衍射仪及纳米显微力学探针分析了薄膜的成分、微结构及薄膜的硬度,研究了Al含量对薄膜的微结构、硬度及高温抗氧化性能的影响.结果表明,薄膜为面心立方结构,呈(111)择优取向;薄膜的硬度及抗氧化性能均随着Al含量增加而提高.     

磁控溅射ZrSiN薄膜的微观结构表征及其力学与摩擦学性能研究

通过改变硅靶功率,采用非平衡磁控溅射法制备了不同Si含量的ZrSiN薄膜。采用X射线衍射仪、扫描电镜、能谱仪、热重分析仪、纳米压痕仪、摩擦磨损试验机和三维形貌仪研究了薄膜的微观结构、成分、表面形貌、抗氧化性、力学性能,以及室温和高温下的摩擦磨损行为。ZrSiN薄膜为面心立方结构。随着Si含量的增加,薄膜的显微硬度先减小后增大。适量Si元素的加入可以在一定程度上改善ZrN薄膜与304不锈钢基体的结合力,以及提高其抗氧化性。室温(25°C)下,随着Si含量增加,薄膜的摩擦因数稳定在0.8左右,磨损率逐渐降低。当薄膜中Si的原子分数为7.04%时,随着温度从室温上升到200°C,薄膜的摩擦因数大幅下降,然后随着温度继续升高至800°C,薄膜的摩擦因数趋于稳定。在650°C时,Si元素的加入降低了薄膜的摩擦因数和磨损率。与室温时相比,650°C时薄膜的摩擦因数更小,磨损率更大。     

关机功耗不到1WEuP主板设计简析

相信读过本刊2010年8月下环保特刊的读者．已经对其中介绍的EuP环保指令有所了解。然而大家的疑问也随之产生，有人问到．文中那些通过EuP／ErP指令的产品在外观上并无特别之处．如通过该指令的富士康H6E-主板在外形、布局上看起来就是一块普通主板。     

Mo含量对TiMoN薄膜微观组织和摩擦磨损性能的影响

采用射频磁控溅射制备不同Mo含量的TiMoN薄膜.利用XRD,SEM.EDS,纳米压痕仪和高温摩擦磨损实验对薄膜的相结构,形貌,成分,力学性能和摩擦磨损性能进行分析.结果表明,TiMoN薄膜为fcc结构;当Mo占金属元素总量的比例X<68.37%（原子分数）时,薄膜主要为Mo在TiN中的置换固溶体;当X>68.37%时.薄膜主要为Ti在Mo₂N中的置换固溶体;随Mo含量的增高.择优取向发生改变,晶粒尺寸逐渐减小,薄膜的显微硬度显著升高,最高达36.37 GPa,摩擦系数逐渐降低,并在X达到68.37%后稳定在0.4左右;不同Mo含量的TiMoN薄膜的磨损率在10^-8- 10^-6mm²/N之间.优于TiN薄膜.基于晶体化学理论,对TiMoN薄膜低摩擦系数的原因进行了讨论.     

C含量对ZrCN薄膜结构和力学性能的影响

通过非平衡磁控溅射的方法制备了不同C含量的ZrCN复合薄膜,采用XPS,XRD,SEM,AFM,纳米压痕仅和摩擦磨损仅等对薄膜的化学成分、微结构、表面形貌、力学性能及摩擦磨损性能进行了研究.结果表明,ZrCN薄膜中(C+N)/Zr原子比对薄膜的相组成、微结构和力学性能都有很大的影响.当(C+N)/Zr原子比小于1时,C进入ZrN的晶格间隙并形成Zr(C,N)固溶体.而当(C+N)/Zr原子比大于1时,多余的C形成非晶态的CN或单质C,ZrCN复合膜呈fcc结构.随着C含量升高,ZrCN复合膜的硬度先增大后减小,而摩擦系数逐渐减小,磨损所产生的磨痕逐渐变窄、变浅.C的加入使得ZrCN复合膜的摩擦磨损形式发生改变,摩擦磨损性能得到提高.含C量为13.2%的ZrCN薄膜硬度达到31 GPa,摩擦系数仅为0.26,综合具备了硬度高、摩擦磨损性能好的优良特点.     

C含量对ZrCN薄膜结构和力学性能的影响

通过非平衡磁控溅射的方法制备了不同C含量的ZrCN复合薄膜,采用XPS,XRD,SEM,AFM,纳米压痕仪和摩擦磨损仪等对薄膜的化学成分、微结构、表面形貌、力学性能及摩擦磨损性能进行了研究.结果表明,ZrCN薄膜中(C+N)/Zr原子比对薄膜的相组成、微结构和力学性能都有很大的影响.当(C+N)/Zr原子比小于1时,C进入ZrN的晶格间隙并形成Zr(C,N)固溶体.而当(C+N)/Zr原子比大于1时,多余的C形成非晶态的CN或单质C,ZrCN复合膜呈fcc结构.随着C含量升高,ZrCN复合膜的硬度先增大后减小,而摩擦系数逐渐减小,磨损所产生的磨痕逐渐变窄、变浅.C的加入使得ZrCN复合膜的摩擦磨损形式发生改变,摩擦磨损性能得到提高.含C量为13.2%的ZrCN薄膜硬度达到31 GPa,摩擦系数仅为0.26,综合具备了硬度高、摩擦磨损性能好的优良特点.