协同工作式非线性编辑网络的解决方案

通过对一种非线性编辑网络解决方案的探讨,分别从软件、硬件、网络、工作方式等方面阐述了协同工作式非线性编辑技术.     

A novel InP/InGaAs TEBT for ultralow current operations

A novel InP/InGaAs tunneling emitter bipolar transistor (TEBT) is fabricated and demonstrated. The studied device exhibits a very small collector-emitter offset voltage of 40 mV and an extremely wide operation regime. The operation region is larger than 11 decades in magnitude of collector current (10/sup -12/ to 10/sup -1/A). A current gain of 3 is obtained even if the device is operated at an ultralow collector current of 3.9 /spl times/ 10/sup -12/A (1.56 /spl times/ 10/sup -7/A/cm/sup 2/). Furthermore, the common-emitter breakdown voltage of the studied device is higher than 2 V. Consequently, the studied device shows a promise for low supply voltage, and low-power consumption circuit applications.     

东江干流河道来沙量变化分析及泥沙沉积量计算

在对东江干流来水来沙的特性以及东江干流河道梯级枢纽建成前后河道的水沙变化进行分析的基础上,进行了东江干流河道泥沙沉积量的分析计算,为东江干流河道采砂控制规划提供科学依据。     

阀门产品图形与数据的计算机管理

阀门产品具有种类、规格多，应用面广的特点。采用产品结构树形式作为系统数据存放结构，用VB套装数据、图形软件，Solidworks软件进行实体造型及参数化设计，3DMAX软件进行渲染、动画，采用ACCESS软件作为产品数据库。根据产品数据模式，建立一个实用的阀门图形与数据的计算机管理系统，帮助用户正确使用阀门产品，为计算机辅助设计提供支持。     

共面波导(CPW)馈电单极子天线的设计与研究

给出一种工作于900MHz的共面波导(CPW)馈电单极子天线的设计。该单极子天线以共面波导的中心导带为辐射单极子，以中心导带两边的金属导体作反射板，结构简单紧凑。但是由于天线与共面波导之间缺少有效的隔离，造成天线性能受共面波导尺寸的影响较严重。本文通过模拟计算和实验测量详细分析了共面波导尺寸的变化对天线性能的影响，给出了结合共面波导尺寸设计的工作在900MHz的单极子天线结构数据。     

带通采样在数据采集中的应用研究

在数据采集中采用带通采样，可大大降低采样率，但系统中的抗混叠滤波器会造成相位的非线性。采用对滤波后的信号进行带通采样，然后再用FRR滤波器校正相位的非线性，从而不失真地还原原信号，最后在Matlab中进行仿真，验证了该方法的有效性。     

分布式光纤拉曼放大器的增益平坦设计

介绍了在波分复用（WDM）系统中分布式光纤拉曼放大器（FRA）的理论分析模型。在此基础上，对增益平坦设计所需考虑的因素进行了分析；最后通过试验证明了它的有效性。     

基于发布/订阅中间件的移动计算

发布订阅(Pub/Sub)中间件以发布/订阅的通信模式实现分布式系统中的各参与者之间的交互,它的松耦合、异步、组播等特点,使它能够很好地适应移动计算动态变化的网络环境.分析Pub/Sub中间件系统的框架模型和集中式、分布式两种结构,并将其扩展到移动计算环境.     

激光扫描加工图形控制模型的研究

针对激光扫描加工中存在固有图形畸变的情况,提出了DEA(dual-ends approch)控制模型。由于该模型不仅考虑了透镜焦距f、激光入射角θ、振镜偏转角和光学镜组之间的距离,而且还考虑了透镜中心厚度、透镜曲面曲率半径以及透镜介质折射率,因此提高了激光扫描加工系统的加工精度,减小了加工误差。同时利用VC++6.0编制了一个对话框程序,对传统fθ控制模型和DEA控制模型进行了分析比较,结果显示,DEA控制模型能正确表达所设计的加工图形,其精度高于fθ图形控制模型。     

Hf-doped and NH/sub 3/-nitrided high-K gate dielectric thin film with least drain current degradation and flatband voltage shift

A novel technique to form high-K dielectric of HfSiON by doping base oxide with Hf and nitridation with NH/sub 3/, sequentially, is proposed. The HfSiON gate dielectric demonstrates excellent device performances such as only 10% degradation of saturation drain current and almost 45 times of magnitude reduction in gate leakage compared with conventional SiO/sub 2/ gate at the approximately same equivalent oxide thickness. Additionally, negligible flatband voltage shift is achieved with this technique. Time-dependent dielectric breakdown tests indicate that the lifetime of HfSiON is longer than 10 years at V/sub dd/=2 V.