CdS纳米颗粒的制备及其光谱研究

采用化学合成法，以六偏磷酸钠作为稳定剂，通过控制反应物的浓度及比例，制备了不同粒径的CdS纳米颗粒，采用超高分辨电子显微镜观察了颗粒形貌，通过吸收光谱、荧光光谱研究了CdS纳米颗粒的量子尺寸效应及表面态、杂质对其光致发光性能的影响。     

热处理温度对静电自组装PDDA/SiO2光学薄膜的影响

以正硅酸乙酯(EthylSilicate,TEOS)为原料,乙醇为溶剂,NH3·H2O为催化剂,制备了胶粒带负电荷的SiO2溶胶。在低折射率(1.45)的玻璃基片上用静电自组装(ElectrostaticSelfassemblyMultiplayer,ESAM)法制备了带正电荷的聚电解质聚二烯丙基二甲基氯化铵PDDA与SiO2的有机/无机复合层状薄膜。然后对其进行热处理,研究了不同温度热处理对薄膜结构、组成、折射率、机械强度、激光损伤阈值以及光学性能的影响。得到了经520℃热处理后折射率为1.27、激光损伤阈值为68J/cm2、520nm处的透光率为99.0%、抗机械损伤强度大的SiO2光学增透薄膜。但最大的透光率是400℃热处理后520nm处的透光率为99.2%。     

有机分子/聚电解质体系的自组装性能

采用静电自组装技术制备了刚果红、铜酞菁衍生物、富勒醇与聚电解质的复合薄膜，研究了这些有机分子／聚电解质体系的自组装性能，有机分子／取得民解质体系的自组装性能与有机分子上的荷电基团的数量、性质以及有机分子的形状有关。有关结果可以作为制备静电自组装有机薄膜时选择有机分子的参考依据。     

Layer-by-layer assembly of nanocomposite films with thickness up to hundreds of nanometers

1 Introduction In 1991, DECHER and his co-worker extended ILER’s pioneering work on fabrication of inorganic colloidal particle-based layer-by-layer assembled films to the preparation of polyelectrolyte-based layer-by-layer assembled films[1?3]. Now the…     

凹凸结构纳米多孔氧化硅的制备

采用金属辅助化学反应刻蚀法制备了具有凹凸结构的纳米多孔氧化硅，利用光学显微镜、原子力显微镜、扫描电子显微镜和透射电子显微镜等，研究了刻蚀时间对纳米多孔氧化硅形貌结构的影响。结果表明：刻蚀初期在强氧化性酸的作用下，硅表面形成一层氧化硅薄膜，进一步刻蚀，氧化硅薄膜出现规则的周期性凹凸结构裂纹。最后展望了这种凹凸结构纳米多孔氧化硅的应用前景。     

光纤光栅在线制备技术研究进展

光纤(布喇格)光栅是一种重要的光纤光学器件,在光纤通信、传感等领域被大量应用。在现阶段,光纤光栅几乎全部是在光纤静止的状态制备,再将光栅焊接组成光纤光栅阵列或网络。这种制备光栅并焊接形成光纤光栅网络的方式,效率低、光栅抗拉强度低,不能满足物联网建设的需求。解决这个问题的途径是发展拉丝塔上在线制备光栅技术。介绍了光纤光栅制备技术的发展历史以及在光纤拉丝塔上在线制备光栅的研究现状。采用相位掩模法在拉丝塔上在线连续制备光栅,可以制备光栅中心波长一致性、反射率一致性和光栅谱型一致性均较好的弱光栅阵列,可以用于研制基于全同弱光栅的光纤光栅传感网。     

富勒烯C60衍生物的合成及其分子沉积膜的制备

采用NaOH和发烟硫酸对富勒烯C60进行化学处理，合成了富勒烯磺酸基化合物和羟基化合物，采用红外光谱、紫外—可见光吸收光谱对富勒烯衍生物进行表征，并分别与聚电解质(PDDA)进行了分子沉积膜实验，结果显示富勒烯磺酸基化合物能较好地获得分子沉积膜。     

离子自组装技术制备TiO_2/SiO_2光学增反膜

以异丙氧钛(titanium isopropoxid)、SiO_2胶体为原料,用离子自组装技术在光纤端面制备了TiO_2/SiO_2增反膜,研究了薄膜层数对增反膜反射光强的影响。实验证明,增反膜的增反效果相当明显。     

玻璃表面静电自组装TiO2基薄膜研究

采用静电自组装薄膜技术在玻璃基片表面上制备了TiO2基薄膜。研究TiO2基薄膜的光催化活性和超亲水性。     

催化条件对SiO2静电自组装薄膜光学性质的影响

用NH3·H2O催化和先后经HCl、NH3·H2O、HCl依次分步催化分别制备了SiO2溶胶.在低折射率的玻璃基片上用静电自组装(electrostatic selfassembly multilayer,ESAM)法制备了聚电介质PDDA与SiO2的光学增透薄膜.研究了制备SiO2溶胶的催化条件对SiO2的光学增透薄膜在可见光区透光特性的影响.用傅立叶红外光谱仪(FT-IR)、X光电子能谱(XPS)、透射电镜(TEM)对薄膜进行了组成和结构分析,用721分光光度计测试薄膜的透光性能.结果显示,两种薄膜都使基片的透过率得到大大增加.NH3·H2O催化SiO2溶胶制备的SiO2光学增透膜使基片在波长为520nm处透过率达到99.2%,相对于HCl与NH3·H2O分步催化制备的薄膜强,但薄膜的耐刮伤能力较相对较差.