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131.
用自蔓燃高温合成(SHS)技术及电弧熔融法制备的(Nb,Ti)C固溶体作基体,制备(Nb,Ti)C-35Ni金属陶瓷。结果表明用电弧熔融法制备的(Nb,Ti)C为基的试样具较优的室温力学性能(σ=1630MPa,KIC=18.0MPa),其陶瓷颗粒均匀分行粘结相之中并是包裹结构;而用SHS法制备的(Nb,Ti)C为基的试样其力学性能相对较差,其陶瓷颗粒无包裹结构. 相似文献
132.
133.
针对未编码的多输入多输出(MIMO,Multi—Input Multi—Output)系统,提出一种复杂度适中的分组全分集全码率(GFDFR,Group—wise Full Diversity Full Rate)空时编码方案。该方案通过在发送端进行天线分组,各组独立编码,减小全分集全码率(FDFR,Full Diversity Full Rate)编码块的大小从而降低系统编解码复杂度;在频率选择性信道中,进一步对子载波分组进行独立编码,获得频率分集(或多径分集),以适中的复杂度在不降低系统分集度的情况下保证了信息的全码率传输,是一种在MIMO信道中极具实用价值的空时编码方案。 相似文献
134.
高温稀土永磁Sm2(Co,Cu,Fe,Zr)17 的制备和性能 总被引:5,自引:0,他引:5
制备了高温稀土永磁材料Sm(Coba1Fe0.26Cu0.05Zr0.026)7.0,研究了磁性能与工艺条件的关系.结果表明:提高烧结温度可使材料的Br和(BH)max增大,但是使Hci降低;适当提高真空预烧温度,可使材料在较低烧结温度下致密化,具有较高的Hci和(BH)max和温度稳定性.真空预烧温度过高使性能的急剧降低,其主要原因是Sm的析出.在最佳工艺条件下材料的磁性能参数分别为:Br1.08T3Hci2286kA/m,Hcb932kA/m,(BH)max220.8kJ/m^3;β20-200℃为-0.19%/℃. 相似文献
135.
136.
XU Ying LIAO Xianbo DIAO Hongwei Li Xudong ZENG Xiangbo LIU Xiaoping WANG Minhua WANG Wenjing 《稀有金属(英文版)》2006,25(Z1)
Hetero-junction solar cells with an mc-Si:H window layer were achieved. The open voltage is increased while short current is decreased with increasing the mc-Si:H layer's thickness of emitter layer. The highest of V oc of 597 mV has obtained. When fixed the thickness of 30 nm, changing the N type from amorphous silicon layer to micro-crystalline layer, the efficiency of the hetero-junction solar cells is increased. Although the hydrogen etching before deposition enables the c-Si substrates to become rough by AFM images, it enhances the formation of epitaxial-like micro-crystalline silicon and better parameters of solar cell can be obtained by implying this process. The best result of efficiency is 13.86% with the V oc of 549.8 mV, J sc of 32.19 mA·cm-2 and the cell's area of 1cm2. 相似文献
137.
The charge storage characteristics of P-channel Ge/Si hetero-nanocrystal based MOSFET memory has been investigated and a logical array has been constructed using this memory cell. In the case of the thickness of tunneling oxide T_ox=2nm and the dimensions of Si- and Ge-nanocrystal D_Si=D_Ge=5nm, the retention time of this device can reach ten years(~1×10~8s) while the programming and erasing time achieve the orders of microsecond and millisecond at the control gate voltage |V_g|=3V with respect to N-wells, respectively. Therefore, this novel device, as an excellent nonvolatile memory operating at room temperature, is desired to obtain application in future VLSI. 相似文献
138.
139.
测试了氧化锌颗粒膜电阻响应-恢复特性,讨论了颗粒形态,加热电压、环境气氛、气氛浓度和注入方式等因素对电阻响应-恢复特性的影响。结果表明,随着加热电压的升高,电阻响应-恢复的速度和程度明显加大;断续注入时颗粒膜电阻值的响应随着浓度的增加逐步减弱. 相似文献
140.