基于灰色预测控制的磁流变抛光液循环控制系统

保证磁流变液成分的稳定,即保证磁流变液零磁场粘度的稳定,进而保证抛光过程中材料去除模型的稳定, 是磁流变抛光技术实现确定性加工的必要条件。讨论了研制的磁流变液循环控制系统,通过检测磁流变液在喷嘴中的沿程压力损失来测量磁流变液零磁场粘度,并针对其粘度控制是大时延系统的特点,采用灰色预测控制算法,实现了磁流变液零磁场粘度的闭环控制,较好地解决了磁流变液的成分稳定控制问题。     

不同护色剂和保脆剂对雪里蕻烫漂过程品质的影响

为了增强腌制后雪里蕻色泽及质地,分别研究不同护色剂(植酸、乳酸、D-异抗坏血酸)和保脆剂(氯化钙、氯化镁、乳酸钙)对新鲜雪里蕻烫漂过程品质(色差、脆度)的影响,通过单因素和响应面试验,得出最佳的护色条件为:植酸添加量0.14%,乳酸添加量0.028%,D-异抗坏血酸添加量0.11%。利用氯化钙、氯化镁或者乳酸钙进行保脆的最佳添加量均为300 mg·L~(-1),其中300 mg·L~(-1)氯化钙处理雪里蕻的保脆效果最好。     

高性能光学制造

聚变点火、同步辐射、光刻机、深空探测、侦察预警等高端装备要实现一系列前所未有的极端性能,并朝着多样化和复杂化的方向发展。强光元件、同步辐射反射镜、掩膜版和光刻物镜、深空探测X射线反射镜等关键光学元件是这些系统实现聚焦、极高能量输出、极高峰值功率、极端尺寸光束聚焦和纳米尺度精确图案转印等极端性能的关键。要实现这些高端装备的极端性能,对核心关键元件的光学制造提出了高精度、低损伤、低应力、洁净制造和功构一体等要求,要求实现的是多物理参数约束下的高性能。元件的性能不仅由设计约束,更受到制造水平的制约,传统的以提升精度为目标的光学制造方法面临挑战,亟待实现从高精度制造到高性能制造的跃升。高性能光学制造是指面向极端性能高端制造装备发展对材料/结构特殊、高功率/高能辐照、低缺陷和洁净制造等关键光学元件的制造需求,以服役性能精准调控为目标,通过高性能光学制造装备、工具、检测和工艺等方面的技术创新,制造特殊材料/结构或者极高功能的元件,可作业于极端性能服役环境的制造。将近年来国内外围绕光学元件和超精密零件高性能光学制造的工作进行初步凝练,总结高性能光学制造典型元件的特点、光学制造要求和光学制造技术,尝试...     

胡萝卜、红甜椒、芹菜和紫甘蓝抗氧化相互作用

以4 种蔬菜（胡萝卜、红甜椒、芹菜、紫甘蓝）为研究对象,采用超高效液相色谱?质谱联用技术鉴定4 种蔬菜提取物的酚类物质,测定4 种蔬菜提取物的总酚、总黄酮、类胡萝卜素和花青素的含量,并对4 种蔬菜提取物以不同质量比混合后的抗氧化相互作用进行分析。结果表明：红甜椒水溶性提取物中主要酚类物质为绿原酸、芦丁等;芹菜水溶性提取物主要有绿原酸、6?乙酰芹菜素等;紫甘蓝水溶性提取物主要有绿原酸、槲皮素?7?葡萄糖苷等;胡萝卜水溶性提取物主要有异阿魏酸。4 种蔬菜提取物清除DPPH 自由基的能力从强到弱依次为紫甘蓝＞红甜椒＞芹菜＞胡萝卜;清除ABTS+·的能力从强到弱依次为紫甘蓝＞芹菜＞红甜椒＞胡萝卜。当红甜椒、胡萝卜、芹菜与紫甘蓝提取物质量比为3∶1∶1∶1 时,协同率达到最大,有较强的抗氧化协同作用。     

光学镜面磁流变抛光的后置处理

分析了自行研制的磁流变抛光机床KDMRF-1000的拓扑结构以及坐标变换关系,对其进行了运动求解,建立了光学镜面的磁流变抛光后置处理算法模型。针对机床四轴联动的特点,对建立的磁流变抛光后置处理模型进行了近似处理。以球面镜的后置处理为例,推导了具有普适性的以光栅扫描方式加工光学镜面的后置处理算法,同时分析了这种近似处理引入的误差,仿真了其对不同口径和不同相对口径球面镜的影响,得到了这种近似处理算法对球面镜的加工范围。最后,对一块口径为200mm,相对口径为1∶1.6的K9材料球面镜进行了磁流变抛光实验,在不考虑边缘效应的情况下其面形误差的PV值和RMS值分别达到了65nm和9nm以下,有效地验证了后置处理算法模型的准确性以及四轴联动近似处理的可行性。该算法对各类形状和大小的光学镜面加工均有参考意义。     

确定性磁射流抛光技术

介绍一种新型的磁场辅助稳定射流的确定性精密抛光技术--磁射流抛光技术.磁射流抛光利用局部外加轴向磁场固化含有磨料的磁流变液射流束,产生准直的硬化射流束进行相对远距离的确定性精密抛光.介绍该工艺的工作原理,其次定性分析了聚束射流形成的原因,通过一系列试验验证了该工艺精密抛光深凹表面的可行性,还进行磁射流去除波纹度的试验研究,基于计算机控制光学表面成形技术进行去除函数的优化计算.试验结果表明磁射流集束性好,对于抛光距离不敏感,因此在高陡度的凹形光学零件和内腔等复杂形面的确定性精密抛光中具有潜在的独特优势.     

光学零件可控柔体制造的理论基础与方法

非球面光学零件利于获得高品质光学特性和高质量图像效果,并使镜组小型化设计成为可能,在航空、航天、国防以及高科技民用领域应用越来越广泛。传统光学制造技术已经远远不能适应非球面光学零件的广泛需求,光学制造已开始向现代先进光学制造方向转变。对先进光学制造技术体系与基础理论进行探讨,将引领该领域的科学研究向纵深发展。通过总结分析非球面光学制造的发展历程,提出可控柔体制造(Controllable compliant tools,CCT)的概念。其关键共性理论基础包含:去除函数的成因与数学模型、多参数控制策略、4D数控技术和误差演变理论与控制技术和装备技术等。以磁流变抛光(Magnetorheological finishing,MRF)和离子束抛光技术(Ion beam figuring,IBF)为例对该理论和试验进行初步探讨,说明了可控柔体制造这一概念可以作为一种新的分类方法用于定义非球镜第三代加工技术,并且可能成为光学制造领域一种新的研究体系。     

磁流变抛光工艺参数优化研究

利用正交试验法均衡搭配各个工艺参数,减少试验次数,分析了各个工艺参数对单项工艺指标的影响规律.采用灰色相关理论,重点解决了磁流变抛光多工艺指标的工艺参数优化这一难点问题,简化了优化过程,得到了工艺参数优化组合方案,并进行了试验验证.     

磁流变抛光消除磨削亚表面损伤层工艺研究

针对传统光学制造技术对亚表面控制局限性和磁流变抛光的特点,提出用磁流变抛光替代研磨工序直接衔接磨削工序的新工艺流程。采用自研的磁流变抛光机床KDMRF−1000和水基磁流变抛光液KDMRW-2进行了磁流变抛光去除磨削亚表面损伤层的实验研究。直径为100mm的K9材料平面玻璃,经过156min的磁流变粗抛,去除50um深度的亚表面损伤层,表面粗糙度Ra值提升至0.926nm,经过17.5min磁流变精抛,去除了200nm深度的材料,并消除磁流变粗抛产生的抛光纹路,表面粗糙度Ra值提升至0.575nm。应用磁流变抛光可以高效消除磨削产生的亚表面损伤层。磁流变抛光替代研磨工序直接衔接磨削工序的新工艺流程可以实现近零亚表面损伤和纳米精度抛光两个工艺目标。