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如何保证在未知复杂环境下规划出的机器人路径全局最优或较优一直是这一领域的一个研究难题,将混沌理论和遗传算法相结合,提出了一种新颖的基于自适应混沌遗传算法的机器人路径规划算法。利用信息熵产生初始群体,增加初始群体的多样性,将混沌优化的遍历特性引入遗传算法,以防止和克服进化过程中的“早熟”现象。仿真实验表明,即使在复杂的未知环境下,利用该算法也可以规划出一条全局优化路径,且能安全避碰。 相似文献
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高密齿散热器型材由于其截面形状复杂、舌比值(悬臂∶齿间距)大而使其挤压模具设计难度大、试模成功率低。以某公司生产的高密齿散热器铝型材为例,采用数值模拟软件Hyperxtrude对其挤压成形过程进行分析研究。将原设计模具在仿真软件上进行虚拟试模,找出可能存在的问题,再结合实际试模情况和模拟结果对模具结构和参数进行多次优化。主要通过改变导流板角度和工作带尺寸,使得型材截面最大挤出速度与平均速度的比值趋近于1。结果表明:经优化后的模具消除了原来存在的问题,挤出了合格的高密齿型材。 相似文献
94.
CVC辊形以其较强的凸度控制能力在热连轧中有着广泛的应用,但是CVC辊形不具有均匀磨损的能力,其磨损往往比较严重,且呈现出非对称性。针对该特点提出CVC工作辊非对称磨损的表征方法,利用该方法对某1 800 mm CSP生产线下游机架CVC工作辊非对称磨损情况进行分析。统计结果表明,下游机架工作辊磨损多为非对称形式,并与CVC辊形呈现出一定的对应性。在此基础上,提出辊径对整体磨损影响系数及辊径对轧制力影响系数2个新的磨损模型参数,并建立针对CVC轧辊的非对称磨损预报模型,利用遗传算法对模型参数进行优化,并利用实测数据进行验证,改进后磨损模型精度比常规磨损模型精度平均提高了约35%。 相似文献
95.
为了满足微电子制造技术中不断提高的刻线边缘粗糙度测量与控制精度的要求,对使用原子力显微镜(AFM)测量刻线边缘粗糙度的影响因素进行了研究.基于图像处理技术从单晶硅刻线样本的AFM测量图像中提取出线边缘粗糙度,并确定出其量化表征的参数.然后,根据线边缘粗糙度测量与表征的特点,对各种影响因素,包括探针针尖尺寸与形状的非理想性、AFM扫描图像的噪声、扫描采样问隔、压电晶体驱动精度、悬臂梁振动以及线边缘检测算法中的自由参数等进行了理论和实验分析,并分别提出了抑制及修正的方法.研究表明,在分析各种可能导致测量误差的影响因素的基础上,消除或减小其影响,可以提高刻线边缘粗糙度测量的准确度,为实现纳米尺度刻线形貌测量的精度要求提供理论与方法上的支持. 相似文献
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采用熔融共混的方法制备共混物PS/PA6(质量比为50/50)和PS/PA6/SEBS-g-MA(质量比50/50/5).SEM观察发现PS/PA6呈现双连续的相态,加入质量分数为5%的SEBS-g-MA到PS/PA6中,PS和PA6的相畴尺寸均减小,但仍然保持双连续的相态.采用差示扫描量热法分析了PS/PA6和PS/PA6/SEBS-g-MA的非等温结晶行为,加入SEBS-g-MA提高了PS/PA6中PA6的结晶起始温度To、结晶峰温度Tp,减小了结晶过程总时间At和半结晶时间t1/2.Jeziorny法和Mo法都适用于PS/PA6和PS/PA6/SEBS-g-MA的非等温结晶动力学过程,通过Jefiomy法分析第一阶段非等温结晶过程得到PS/PA6的Avrami常数n为4.40~4.91,PS/PA6/SEBS-g-MA的Avrami常数n为2.47~3.25,PS/PA6/SEBS-g-MA的Z.也大于PS/PA6的Z.通过Mo法得到在相同的相对结晶度X,下,PS/PA6/SEBS-g-MA的leF(T)小于PS/PA6的IgF(T)值.这些都说明SEBS-g-MA对PS/PA6中的PA6有诱导结晶作用.而Ozawa 法不适合于PS/PA6和PS/PA6/SEBS-g-MA的非等温结晶动力学过程. 相似文献
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98.
李洪波 《机械工人(冷加工)》2012,(9):64-66
M70数控系统是三菱公司最近几年推出的产品,具有光纤通信、多轴多系统控制、纳米插补、高速高精加工、CNC定制画面和以太网连接等丰富的功能,受到数控加工行业尤其是模具加工行业的普遍欢迎。本文介绍M70数控系统以太网的应用方法。 相似文献
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进行生物力学分析的关键在于三维几何模型的建立。通过三维激光扫描医学肝脏教具模型得到点云数据,利用逆向处理软件及CAD软件的集成实现肝脏模型的重建。所建模型符合人体解剖结构,可进行人体生物力学有限元仿真计算。 相似文献
100.
为了改善菱体型延迟器件的消色差性能,扩大材料的选择显得非常必要。根据光在介质表面全反射时发生相变这一原理,分析了菱体型消色差延迟器件,得出折射率设计点n与对应的结构角θ两者关系的规律,随着折射率设计点n的增大,虽然dn/dλ增大,但是dδ/dn却迅速减小,因此高折射率的材料可能有更好的消色差性能。结果表明,低折射率的材料熔石英相位延迟在350nm~1240nm的光谱区域内的最大延迟误差小于1.32°,而高折射率的材料LaK2玻璃相位延迟在此区域内的最大延迟误差却小于0.95°。高折射率的材料比低折射率的材料有更好的消色差性能。 相似文献