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91.
浸没式光刻技术的研究进展 总被引:6,自引:1,他引:5
浸没式光刻技术是将某种液体充满投影物镜最后一个透镜的下表面与硅片之间来增加系统的数值孔径,可以将193nm光刻延伸到45nm节点以下。阐述了浸没式光刻技术的原理,讨论了液体浸没带来的问题,最后介绍了浸没式光刻机的研发进展。 相似文献
92.
均匀设计法分析制备过程对钴钼硫化物催化剂机械强度的影响 总被引:1,自引:1,他引:0
建立了CoMoP/Al2O3加氢精制催化剂机械强度及其可靠性在制备过程中的数学模型,采用均匀设计考察了浸渍、干燥、煅烧、硫化4个制备过程中,浸渍时间、干燥温度、干燥时间、煅烧温度、煅烧时间、硫化温度和硫化升温速率7个实验因子对催化剂强度均值、Weibull模量的影响,同时考察了这些因素对颗粒密度的影响。方差分析表明所有模型都是充足的。实验结果表明,硫化过程是影响催化剂强度均值的主要过程。在实验范围内提高硫化温度、降低硫化时的升温速率有利于提高催化剂的强度。影响催化剂Weibull模量的因素主要为各个制备过程的交互效应。要提高催化剂强度的可靠性就必须全面考虑催化剂制备的各个过程,特别是各个制备过程的交互效应。 相似文献
93.
说明了在异步串行通信(RS-232)的工作方式下,对所接收的数据进行接收、处理,丢弃乱码,并进行保存的可靠方法,并给出了相关的VC 语言程序. 相似文献
94.
95.
96.
本对影响氧化铝熟料单筒冷却机冷却效率的因素进行了分析,并提出了相应的节能技术改造措施,取得了明显的节能效益。 相似文献
97.
合成了一价铜和2-巯基嘧啶盐的配合物[Cu6(pymt)6]并进行结构分析,该配合物能发出强的红色荧光。其中,一价铜离子的配位环境为变形平面三角形,陪体pymt采用μ3-S2N桥联方式参与配位。 相似文献
98.
99.
施志康 《电子产品可靠性与环境试验》2002,(5):27-30
阐述了试行产中产品质量和可靠性的主要保证方法,由于这些做法来自于工厂的生产实践,所以,对承制方,订购方等各级,各类人员都有借鉴意义。同时对理论工作者也有一定的参考价值。 相似文献
100.