高层建筑给排水消防设计探讨

从建筑给水、建筑排水和消防系统等几个方面,对高层建筑的给排水设计进行了探讨.     

焦化企业清洁生产审核的实践与应用

焦化行业是重污染的行业,存在着严峻的环境污染问题,制约着整个行业的可持续发展。清洁生产具有传统末端治理无可替代的作用。以某焦化企业为例,在综合分析企业的清洁生产水平及潜力的基础上,提出相应的清洁生产方案,并统计了审核后产生的效益,为焦化行业开展清洁生产审核工作提供了科学的借鉴。     

Ag_3PO_4/ZnO纳米线阵列复合光催化剂的研制及光催化降解罗丹明B研究

水热法制备了ZnO纳米线阵列后,用逐级化学浴沉积法将Ag3PO4沉积在阵列上形成Ag3PO4/ZnO纳米线阵列复合光催化剂。运用XRD、SEM、EDS、紫外-可见漫反射光谱、光电流性能测试、光催化降解等技术手段对Ag3PO4/ZnO纳米线阵列的形貌结构、光电性能等进行表征。探讨了逐级化学浴沉积Ag3PO4的次数对其光催化效率的影响。光电性能测试表明,Ag3PO4/ZnO纳米线阵列具有比纯ZnO纳米线阵列更高的光生电流密度,光响应更好。与纯ZnO纳米线阵列相比,Ag3PO4/ZnO纳米线阵列材料对罗丹明B的光降解效率显著提高,降解速度是纯ZnO纳米线阵列的7.7倍,沉积5次的复合阵列的光催化活性最高。     

可用于LED封装的有机硅树脂的制备与表征

以有机硅环四硅氧烷单体和封端剂为原料,通过开环聚合的方法合成了含乙烯基和含氢的硅油。改变原料的投料比,可得到具有不同分子结构的硅油。以正硅酸乙酯和含乙烯基封端剂为原料,改变原料的摩尔比,得到具有不同分子量的MQ硅树脂。采用红外和核磁的方法对不同硅油和硅树脂的化学结构进行表征,并用黏度计和凝胶渗透色谱对样品的黏度和分子量进行测试。将不同组分的硅油和硅树脂混合,通过硅氢加成反应而固化,得到的硅树脂在400nm以上具有较好的透光率(>90%),可用于大功率LED的封装。     

丙烯酸酯-乙烯基三乙氧基硅烷共聚物膜的制备及乙醇/水中的溶胀吸附性能研究

采用乳液聚合法制备了丙烯酸酯-乙烯基三乙氧基硅烷共聚乳液.用全反射-傅立叶红外光谱仪( ATR- FTIR)对共聚物膜结构进行了表征.考察了VTES与丙烯酸酯用量比对共聚乳液的绝对黏度、共聚物膜的交联度及亲水性、溶胀吸附性能的影响,最后计算了共聚物膜在乙醇和水中的扩散系数.实验结果表明:VTES与丙烯酸酯发生自由基聚合;随着VTES与丙烯酸酯用量比的增大,共聚乳液的绝对黏度逐渐增加,共聚物膜的交联度及接触角逐渐增大.提高乙醇浓度或者增加温度,都可以提高共聚物膜在乙醇/水体系中的溶胀度;VTES与丙烯酸酯用量比为0.15的共聚物膜在乙醇中的扩散系数最大,为0.023 09×10-4 m2/s;VTES与丙烯酸酯用量比为0.02的共聚物膜在水中的扩散系数最大,为0.023 57×10-4 m2/s.     

多级表面流人工湿地/氧化塘工艺处理微污染原水

采用多级表面流人工湿地/氧化塘工艺处理鱼塘养殖和农业生产的微污染排水,着重考察了湿地系统的除污效果.结果表明,湿地系统的净化效果明显,在监测时段内对COD、TN、NO3 -N、N02- -N、TP和可溶性总磷的平均去除率分别为53.7％、45.0％、34.0％、54.5％、48.7％和50.5％,系统出水水质满足水域功能区标准的要求.随着温度的升高,对COD、TN和TP的去除率逐渐增大,且在30.2～31.4℃时去除率出现了陡增.人工湿地系统进水TN负荷与TN去除率之间的相关性不强(R2 =0.617 4),而进水TP负荷与TP去除率之间的相关性较好(R2 =0.913 0).表面流人工湿地系统具有投资少、处理效果好、运行管理简单等优点,在削减入湖污染负荷上有很好的应用前景.     

合成阻垢剂研究现状及展望

合成聚合物阻垢剂是水处理剂的一种,广泛运用于工业循环冷却水系统中.本文主要论述了合成阻垢剂的种类及国内外发展的现状,指出了合成阻垢剂发展的重点和方向,并提出其今后发展的一些建议.其中聚天冬氨酸和聚环氧琥珀酸两大新型绿色合成阻垢剂成为近几年国内外研究重点.     

地方院校化学类专业实践教学新体系的构建

本文分析了地方高校化学类实践教学体系的现状,论述了实施实践教学的重要意义,结合地方院校化学类专业的办学特点和应用性人才培养目标,提出并构建了＂一、四、三＂实践教学新体系。实践证明,该体系对培养学生化学实践能力和创新思维能力具有良好的效果。     

TiO_2光催化剂非金属掺杂的机理研究进展

根据国内外对TiO2光催化剂改性的研究状况,将TiO2光催化剂的改性研究分为金属离子掺杂、贵金属沉积、表面光敏化、复合半导体、非金属离子掺杂等方面.其中,非金属掺杂较其他方式的掺杂优势明显,但其机理研究不够深入.对TiO2光催化剂的各种非金属掺杂的机理研究进展进行了综述.     

化铣液稀释比及温度变化对Al3+去除率的影响

为了减少化铣液的报废,通过采用纯水对化铣液进行稀释及其温度变化,得出了化铣液中Al3+和NaOH成分的变化状态。结果表明:(1)稀释比为1.0~3.0,温度为25℃时,结晶时间小于8 d,Al3+基本无消除,8~14 d时Al3+去除率上升到60%;(2)同样的稀释倍数,温度55℃时,结晶时间为2 d时,Al3+去除率为10%,4~6 d时,Al3+去除率上升到25%(稀释比为1.0)~40%(稀释比为2.0),多于6 d去除率基本维持不变;(3)在Al3+去除过程中,NaOH的浓度基本保持不变。