Nd：GdVO4晶体生长及其LD端面泵浦调Q激光性能

通过液相合成方法提纯Nd：GdVO4多晶料，降低生长过程中存在的原料非一致性挥发，以及使用特殊晶体生长温控技术和消除晶体“后天性光散射”，Czochralski方法成功生长系列不同钕掺杂浓度的Nd：GdVO4单晶。采用不同透过率的Cr”：YAG晶体对Nd：CdVO4晶体进行激光调Q实验。实验结果显示，Cr^4 ：YAG Nd：GdVO4激光器可以得到稳定高平均功率调制激光输出。实验得到的最小脉冲宽度只有6ns，对应峰值能量为26．4kW。对不同浓度掺杂对晶体调制激光性能也进行了比较，发现掺钕浓度越高，激光脉冲能量和峰值功率越大。对该晶体的GaAs调Q激光输出性能也进行了介绍，4．8W泵浦光下，最大GaAs调制激光输出为0．63W。     

OCT图像散斑的形成机理和清除方法

根据光相干层析成像（OCT）的光学和光电检测系统特点，结合现有的理论模型，分析了OCT成像和散斑形成机理。指出失去相干性的多次散射光部分会被滤波电路排除，散斑是由高散射组织相干长度之内的不同散射截面上的若干具有nπ光程差的相干散射光彼此叠加形成的。最后讨论了消除散斑的方法。     

基于对地观测激光回波特征的目标特性研究

本文研究了对地观测激光回波特征与地面目标特征之间的关系模型，分析了分类地面目标的激光回波特征，提出一种基于查表法的目标特性计算方法并给出了仿真结果。     

结合功率控制的时-空多用户检测器

针对CDMA系统中抗干扰技术,提出一种结合多用户检测、波束成形和功率控制的算法,对接收信号在时域和空间上进行联合处理,能大大抑制干扰,提高系统容量。     

CDMA系统中的功率控制技术

在CDMA系统中,功率控制是无线资源管理的核心技术之一,它对于克服“远近效应”、减小小区间干扰、增加系统容量和提高系统性能具有重要作用。文章简述功率控制技术各种方法的性能特点及其实现方法,并介绍TDD系统和FDD系统中的功率控制技术及其效能差异。     

胶印色彩变化的允差有多大

由于在批量印刷品中存在色彩变化，致使印刷界一再受到指责。尤其是在印刷装饰色或公司专用色时，因为成本的原因不能作为专色印刷，而是通过四色油墨叠印而成。这就是问题的症结所在。如何解决这个问题？本文介绍了一些方案。对于受指责的印刷厂来说，关键在于如何对所指责的理由进行验证。众所周知，在批量印刷中会产生色彩变化。这种色彩变化的总量已在ISO１２６４７－２（即GB／T１７９３４．２）“胶印过程控制标准”中确定下来。惟一的问题是：这种允差涉及到四色网点的阶调值增大，由于在印后加工时已将印刷测控条切掉，所以在成…     

Andiore Search Reference 610T单声道后级功率放大器

美国真空管知名老厂Audioresearch，近来可说是动作频频，连续推出了多款重量级的制品，继前阵子发表的旗舰前级Reference 3之外，还推出了一款堪称怪兽级的单声道旗舰后级Reference 610T，为什么会说它是怪兽级呢？看看上面使用的真空管数量就知道了，610T总共用上了19支真空管，增益级用的是两支双三极6NIP与一支军规6H30，功率管部分则是用了八对6550C。用上这么多真空管，当然大家最担心的还是管子寿命、偏压的调整与真空管产生高热等三个问题，而所有这些问题Audioresearch都考虑到了。610T上使用的真空管寿命至少达2000小时以上，偏压的调整钮设有两个，加上真空管采开放式地设置在机器的最上方，如此一来便能自然的散热。另外610T还有一个与以往不同的地方，就是所有的信息都显示在一个与Reference 3前级相同的大型液晶面板上。至于大家最关心的功率输出，单声道能输出足足600W，这项成就绝非一般的功率放大器能达到。     

功率控制在WCDMA中的应用

功率控制是新一代无线通信网以解决的问题,分析了开环功率控制、内环功率控制和外环功率控制在WCDMA中应用,提出了一些功率控制的问题和算法.     

电源技术

优化型DirectFET MOSFET 国际整流器公司(IR)在其DirectFET MOSFET系列中新增三款20V N沟道器件.该器件经过全面优化,适用于VRM10功率系统及新一代Intel和AMD处理器中的高频、大电流直流-直流转换器,应用范围包括高端台式计算机和服务器,及先进的电信和数据系统.     

带像差补偿的光盘像散自动调焦透镜设计

对光盘光学头检测光路中广泛使用的光学平板所引入的光学像差进行分析计算,并由 此设计了一种放置于光盘光学头检测光路中的用以产生聚焦误差信号的像散透镜。它不但可以产生正常的调焦误差信号,同时还可以补偿由斜放入检测光路中的光学平板所带来的光学像差。经过实际应用,证明这种结构完全能够满足高密度光盘光学头的技术要求。