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光刻是制造大规模集成电路的主要方法。由于快速计算机和多功能处理器不断发展,并提出很多新的要求,促使半导体集成线路制造商力求增加单片上的元件密度。元件密度受最小光刻尺寸限制。虽然光刻工艺水平已能刻出准波长特征尺寸的集成线路的线宽,但是,连续发展几代的单片集成线路要求光源波长从436nm到365nm。用248nm波长光源(KrF准分子激光器).光刻的特征尺寸为0.25μm。期望能生产0.18μm特征尺寸的集成线路。为了生 相似文献
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抗菌卫生事理剂WS—8810A的整理工艺探讨 总被引:1,自引:0,他引:1
本文使用抗菌卫生整理剂WS-8810A,采取不同整理工艺对棉织物进行抗菌整理。结果表明,其抗菌性及耐久性优良,洗涤100次后,抑菌率仍可保持100%。且整理工艺简单,最适用量为50g/L。 相似文献
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树脂砂无箱造型工艺是一项新的造型技术。本文详细地介绍了应用QC方法开展科研活动使这项科研课题达到预定的目标值,取得了在确保铸件质量的前提下生产效率明显提高,生产成本降低的效果。 相似文献
947.
贵溪冶炼厂废酸废水除镉工艺探讨 总被引:3,自引:0,他引:3
结合贵溪冶炼厂现行的废酸,废水处理工艺有设备,探讨废酸,废水中镉的处理问题,建议采用以下三种方法:废水采用泥浆循环,消石灰中和,提高pH值的处理法;废酸采用先石膏,后硫化,再泥浆循环的中和处理法:聚合硫酸铁法。 相似文献
948.
Kelogg合成氨工艺进展 总被引:1,自引:0,他引:1
综述了以先进合成氨工艺和转化换热系统技术为代表的Kelogg第二代合成氨工艺。较详细介绍了钌基催化剂和转化换热器 相似文献
949.
对用1,5-萘二异氰酸酯合成的聚氨酯弹性体的原材料、合成工艺、加工过程、物性及应用作了简介。 相似文献
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