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本文研究了一种新的、具有实际应用价值的硅片吸除技术.该技术包括利用PECVD法在腐蚀硅片背面沉积400~800nm厚的非晶硅膜,再经过650~680℃温度的热处理,使沉积膜与硅片结合更牢固,之后,把硅片进行抛光.结果表明,该技术能有效地消除硅抛光片表面的雾缺陷,同时硅片表面层少子寿命可提高2~4倍. 相似文献
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有限周期梁用动力消振器抑振的特性 总被引:1,自引:1,他引:0
本文用弯曲波方法导出了多支承梁加动力消振器位移响应的普遍表达式。理论分析发现了周期结构用动力消振器抑制振动的一些新特性:(1)仅用一个动力消振器可抑制周期结构对应传递频带内的一组共振峰。被抑制的共振峰的数量与跨距的数量和消振器的布置位置有关;(2)动力消振器调谐频率与对应传递频带的第一个共振频率相关联。当动力消振器与作用在梁上的外载荷作用在同一点时,最佳调谐频率比总是大于1,否则最佳调谐频率比小于1。 相似文献