焦炉煤气变温变压吸附制氢

一、概述我厂在冷轧硅钢片的生产过程中需要进行中间退火、脱碳退火、高温退火和拉伸退火等多种热处理,以上退火热处理都必须在高纯度的氢、氮保护气氛中进行,氢气纯度要求在99.99％以上,其中含氧量在2ppm以下,含水量在11ppm以下(露点低于-60℃)。     

提高加氢裂化装置循环氢纯度方法的探讨

以齐鲁石化公司胜利炼油厂２２０ｋｔ／ａ缓和加氢裂化工业试验装置为例，根据气液相平衡平原计算了循环氢的纯度，阐述了新鲜氢纯度、高压分离器温度等因素对加氢裂化装置循环氢纯度的影响，并对诸多的影响因素进行了分析，针对该工业试验装置循环氢纯度偏低的问题，提出了解决问题的具体方法。结果表明，新鲜氢纯度是影响循环氢纯度的主要因素，新鲜氢纯度每提高２ｖ％，循环氢纯度可提高３．５ｖ％左右；冷高压分离器温度对循环氢     

采用SPCVD工艺制作的低氢氮氧化硅光纤

本文主要介绍Eugene M.Dianov等人采用无氢SPCVD工艺制作首批氮氧化硅光纤的工艺过程，并分析氮氧化硅光纤的性能。这种光纤在近红外区的最小损耗为几个dB/km。光纤芯中的氮含量达到3%。     

在役加氢反应器试验板脆化和氢损伤的测定与研究

充分利用了带主焊缝的役后试板，在国内首次开展回火脆化、氢介质下断裂韧性与疲劳扩展的研究，结果表明，加氢反应器焊缝有明显的脆化表现。同时，核查了反应器开停车升温速度和降温速度规定，以及确定了裂纹允许尺寸的参考数据，为今后安全运行提供了充分的依据。     

一类系统输出的完全能控性判别

本文分析了一类系统的输出完全能控的充分条件，为多输入多输出系统的输出完全能控性判别，提供了一较迅速的方法     

CD机改VCD机的万能单线改制法

近年来,随着数字技术的长足发展,出现了高清晰度、高稳定度的VCD影碟机。使得过去流行的电器一时闲置起来,这是广大消费者不愿意的。于是电器的再利用显得突出,特别是CD机改VCD机。本文所讨论的CD机改VCD机万能单线改制法如下: 1.万能单线改制法所用的解码器这是一种由贵州中立高技术公司研制生产的万能型(VK—2000)机外解码     

面流消能近底紊动流速特性的研究(面流消能试验研究之一)

本文主要论述了面流消能五种典型流态近底紊动流速特性,总结出了近底时均流速和紊动强度沿程变化规律,提出了近底紊动流速可能出现的最大瞬时值及相应位置的计算公式。面流消能工程的下游防冲设计中考虑的主要水力参数之一是,消能段近底流速紊动可能出现的最大瞬时值及其相应的部位,但目前国内外研究成果较少。笔者通过水工模型试验重点研究了面流消能各典型流态近底流速及其紊动纵向分量沿程的变化规律,并提出了计算公式,为优化面流设计提供科学依据。     

合成氨氢氮比自适应控制的研究

本文研究了中、小氮肥厂合成氨生产中氢氮比控制问题。文中给出了以机理分析和系统辩识相结合的方法建立的氢氮比系统动态数学模型,对未知模型参数采用在线递推估计技术进行实时辩识,构造出利用中间测量状态的最佳线性预估器,采用自校正控制方案,设计了适合于大时间滞后系统控制的极点配置算法,实现氢氮比控制。同时也绐出了系统的仿真实验曲线。