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61.
《涂料技术与文摘》2004,25(4):66-66
0404156甲基丙烯酸醋、其聚合物及其安全长效防污涂料:JP2003一327 623[日本专利公开]/日本:Nippon Paint Co.,Ltd.(、乞mamori,Naoki等)一2003.11.19一14页一2002八34 674(2002.59);护CC08F20/36 本发明揭示的是HZC:CMeCO(OCHZCHZ)nNXC6H4一n一CsH一7一4(I:X=H、PH02C;n=0一16),I(X=H)氢卤化物季盐及其(共)聚合物。例如,用甲基丙烯酞氯化物酷化H(OCHZCHZ)3N(COZCHZPh)C6H4一nCS H17一4,得到86%的甲基丙烯酸酷,其均聚物涂料对蓝色贻贝有很强的防污性,在20℃人造水中摇动10d后洗提30.9%。04041 57具有长效稳定防污性… 相似文献
62.
基于结构扭转反应控制的MR阻尼器位置研究 总被引:1,自引:0,他引:1
提出采用磁流变阻尼器MR控制钢筋混凝土框架—剪力墙偏心结构的扭转反应,并分析影响因素及规律。采用Matlab/Simulink工具进行数值仿真实验,分析MR阻尼器的控制策略、MR阻尼器数量以及竖向布置、水平布置等因素对偏心结构扭转反应控制效果的影响。结果表明:MR阻尼器能够有效控制偏心结构的扭转反应,其中半主动控制策略可以取得较稳定的控制效果,MR阻尼器数量和位置对结构扭转反应的控制效果具有较大影响。 相似文献
63.
为了得到超光滑表面且无表层损伤的光学元件,引入一种新型的超光滑表面加工技术——等离子体抛光.在新设计的等离子加工实验平台上进行了等离子体加工工艺实验,对氧气流量,放电功率大小,磁场大小几个参数对基片表面粗糙度的影响进行了实验研究,且优化了工艺参数.结果表明增加氧气流量,合理控制功率和磁场强度都会使等离子体抛光基片表面粗糙度减小.当氧气流量为50 sccm,功率为80 W,磁场强度为17 mT时,粗糙度达到最小值0.9 nm. 相似文献
64.
苗静 《西安工业大学学报》2010,30(4):377-377
回转零件镜面抛光技术是利用电解——机械复合光整加工作用,加工效果高于单一的机械研磨和电解抛光.回转零件镜面抛光工艺及其设备成果包括特殊工艺装备、电解电源和电控系统、电解液循环系统、工具头和一套工艺方案. 相似文献
65.
汽车磁流变减振器多项式模型的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
将优化后的磁流变减振器放在MTS849减振器试验台上进行试验,在不同的减振器活塞运动速度下,改变通电电流,测试磁流变减振器的示功图和速度特性。利用试验数据,进行多项式拟合,精确的建立了该减振器的阻尼力模型,便于对其半主动悬架实施实时控制。 相似文献
66.
设计了一种磁流变液阻尼器并应用于磁悬浮轴承系统中,由于临界转速分析是转子支承系统设计中最重要的内容之一,针对基于磁流变液阻尼器的高速磁悬浮柔性转子,利用有限元法分析了不同刚度和不同阻尼分别对磁悬浮转子临界转速的影响程度,从理论上得出了磁流变液阻尼器支承刚度在104~105 N/m之间、阻尼在700 N·s/m附近时对转子临界转速影响较大的结论,分析结果有助于指导磁流变液阻尼器的设计. 相似文献
67.
采用冷压陶瓷技术制备了(Ba0.75Sr0.25)TiO3、Ba(Ti0.8Zr0.2)O3、(Ba0.75Sr0.25)(Ti0.8Zr0.2)O3陶瓷.XRD结果表明,Sr和Zr在BaTiO3的Ba位、Ti位、及Ba/Ti双位并入均具有高固溶性,且为没有超结构特征的单相钙钛矿结构.Sr/Zr的双位并入加快介电峰向低温的移动.Sr掺杂对Ba(Ti0.8Zr0.2)O3介电峰移动率的贡献为-1.5℃/mol%Sr.抛光技术对介电温谱的影响研究表明,尽管水抛光导致(Ba0.75Sr0.25)(Ti0.8Zr0.2)O3陶瓷颜色变暗,但晶体结构不变、介电峰值降低. 相似文献
68.
岳德坤 《成都电子机械高等专科学校学报》2010,13(1):25-28
普通的磁流变阻尼器对外部能源依赖性强,本文设计的混合式磁流变阻尼器,通过永磁体的设计、计算分析和仿真,验证了混合磁路的有效性,使之具有更高的可靠性和实用性以及经济性。 相似文献
69.
磁流变阻尼器控制系统的性能很大程度取决于阻尼器的数学模型,由于磁流变液在高速剪切速率下容易发生剪切稀化,因此,本文在原有S型滞环模型的基础上,引入了行为指数”从而改进了S型滞环模型。根据试验数据,并运用遗传算法和传统优化算法相结合求取全局最优解的方法,求解出了模型中的参数值。结果表明:改进后的S型滞环模型能够很好拟合高速区的速度-阻尼力试验特性曲线。 相似文献
70.