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991.
采用脉冲激光,在Si(001)衬底上生长ZnO薄膜,利用X射线衍射(XRD),原子力显微镜(AFM)和光致发光光谱(PL)等测试手段研究了不同衬底温度所生长的ZnO薄膜结构特征和光学性能。研究表明:衬底温度影响ZnO薄膜结构和光学性能。在500℃~600℃沉积范围内随着温度升高,ZnO薄膜结构和光学性能提高。 相似文献
992.
介孔氧化硅薄膜在膜分离、传感器件、异相催化、低介电常数微电子绝缘片的应用方面具有潜在应用价值。首先简要介绍了介孔薄膜的制备途径,然后重点综述了介孔氧化硅薄膜的研究进展。 相似文献
993.
实用化的包装用塑料薄膜品种很多,许多塑料薄膜的使用中,常常存在着相互渗透,相互替代的情况。但各种塑料薄膜自身的特性又是不容忽视的。所以正确选择、应用好塑料包装薄膜并非易事。包装材料行业的人员要了解塑料包装薄膜所具有的一些相应基本功能。主要是对商品的保护功能、促销功能、对包装机械的适应性以及其他应用上的特殊需求。此外还必须考虑经济上的合理性以及对环境保护的适应性等等。 相似文献
994.
聚烯烃薄膜如聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)等常作为包装材料的内层而被广泛使用。随着软塑包装工业的快速发展以及高新技术的开发与应用,聚烯烃薄膜不断被赋予新的特殊功能,而防静电聚烯烃薄膜就是需求较为迫切的一种。目前市场化的防静电聚烯烃薄膜,因其属极性材料,表面能低:双表面电阻值低,难以进行电晕处理,因而不能与其它塑料基材复合成层状包装材料:单质防静电聚烯烃薄膜的机械物理性能低,限制了它的广泛应用。软塑包装界急需开发一种表面能高、能够与其它基材可靠复合的防静电聚烯烃薄膜。本以新开发的防静电聚乙烯薄膜为例,就其制作工艺及产品性能与同行共同探讨。 相似文献
995.
996.
997.
直流磁控溅射制备铝薄膜工艺参数 总被引:1,自引:0,他引:1
杨栋华 《重庆理工大学学报(自然科学版)》2006,20(8):69-71,86
采用直流磁控溅射法,在硅基片上制备铝薄膜.用扫描电子显微镜(SEM)、X-射线衍射仪(XRD)等对薄膜的表面形貌和结构进行了分析,研究了不同工艺参数对薄膜表面形貌的影响,分析了制备铝薄膜的影响因素.分析结果表明该薄膜为纯铝薄膜,并且晶粒很小.实验得到制备铝薄膜的工艺参数为:本底真空度4.0×10-4Pa、工作真空度1.7 Pa、氩气流量20 cm3/s、工作电压300 V、工作电流1 A. 相似文献
998.
针对(Co0.35Fe0.65)99O1薄膜,研究了两种不同热处理工艺对其磁性能的影响。结果表明:快速循环热处理可以改善高磁矩(Co0.35Fe0.65)99O1薄膜磁性能,在450℃几个快速循环热处理后,沉积薄膜的矫顽力从105下降到3 Oe,电阻率下降到70%,a-Fe (Co)相晶粒尺寸可以减小到15~35 nm,该处理方法较以往的热处理更能改善软磁薄膜的性能。 相似文献
999.
利用脉冲激光沉积(PLD)的方法,在SiO2/Si衬底成功制备了钙钛矿结构的La0.5Sr0.5CoO3薄膜.对制备的薄膜生长的薄膜进行了XRD测量分析,并且对薄膜的表面形貌进行了测量分析.着重对薄膜的电阻进行了测量,发现环境气氛对电阻的影响,进而对薄膜湿敏电阻进行了测量. 相似文献
1000.
尼龙6的络合与解络合 总被引:6,自引:0,他引:6
为了用超高分子质量尼龙6制备高强高模纤维,对超高分子质量尼龙6分子间的酰胺基氢键的屏蔽和再生进行了研究. 以三氯化镓在硝基甲烷中络合超高分子质量尼龙6以屏蔽氢键,提高拉伸倍数;考察了水、氢氧化钠水溶液和乙醇对络合体系再生的效果;采用XRD、元素分析、DSC以及FTIR法对溶液体系和再生物进行了表征. 结果表明:采用上述方法可以制得无定型三氯化镓-硝基甲烷-超高分子质量尼龙6络合物,超高分子质量尼龙6分子间的氢键被屏蔽,络合物薄膜能拉伸到近20倍;上述3种解络合剂对络合物解络合得到的再生物可以恢复其常规尼龙6的结晶性能. 相似文献