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991.
992.
H.?H.?ParkEmail author M.?H.?Lee J.?S.?Yoon I.?S.?Bae B.?I.?Kim 《Metals and Materials International》2003,9(3):311-317
STS310S and SC-STS310S (simultaneously co-deposited chromium and aluminum onto 310S austenitic stainless steel substrate by
pack-cementation process) were used as separator materials on the cathode side of a molten carbonate fuel cell. With the STS310S,
corrosion proceeded via three steps; a formation step of unstable corrosion product, a protection step against corrosion until
breakaway, and an advance step of corrosion after breakaway. The final corrosion product was LiFeO2 and the loss of mass was 6.5 mg/cm2 after a corrosion test of 480 hr at 650°C. The SC-STS310S showed more effective corrosion resistance, however, than did common
STS310S. There was especially no corrosion loss on the SC-STS310S after the 480 hr corrosion test. It is anticipated that
it will be very useful as an alternative separator on the cathode side off the MCFC in the future. 相似文献
993.
以Ti-B4C-C团聚粉和Ni-Al“自粘结”复合粉的混合物为自蔓延反应火焰喷涂体系,在45钢基体表面制备Ti(Cx,Ny)-TiB2和NimAln梯度过渡的复相陶瓷涂层,分析研究了梯度过渡涂层的显微组织结构与耐磨性。研究表明:Ti(Cx,Ny)-TiB2复相陶瓷与NimAln金属间化合物实现了沿涂层厚度方向的梯度过渡连接。梯度过渡陶瓷涂层的耐磨性是普通45钢耐磨性的14倍。 相似文献
994.
995.
在铝酸钠溶液中,利用微等离子体氧化技术,在TC4钛合金表面原位生长复合氧化物陶瓷膜,研究了陶瓷膜的相组成、形貌和陶瓷膜对钛合金接触腐蚀的影响。陶瓷膜由Al2TiO5,α-Al2O3和RutileTiO2构成;整个膜层由致密层和疏松层组成。陶瓷膜层改善了钛合金与LY12铝合金和H62黄铜的接触腐蚀,陶瓷膜层使得钛合金与LY12铝合金电偶对的电偶电流降低为原来的1/7,使得钛合金与H62黄铜的电偶电流降低为原来的1/2。 相似文献
996.
SiC/Ni基合金激光熔覆层磨损性的研究 总被引:2,自引:0,他引:2
采用扫描电子显微镜、盘销式摩擦磨损试验机等方法对45钢表面SiC/Ni基合金激光熔覆层的组织和磨损性进行了试验分析。结果表明,激光熔覆后试样从表面至心部可分为熔覆区、结合区、热影响区和基体。熔覆层显微组织以枝状晶和胞状晶为主,结合层以细晶为主,激光熔覆层与基体结合良好。磨损试验结果显示激光熔覆可显著改善钢的耐磨性,SiC/Ni基合金复合熔覆层比Ni基合金熔覆层具有更好的耐磨性;在一定成分范围内,适当提高熔覆层中SiC的含量,可提高材料的耐磨损性能。 相似文献
997.
998.
激光熔覆Stellite硬面合金扫描速度对相组织和耐磨性的影响 总被引:8,自引:0,他引:8
本文报导应用横流式连续CO_2激光器,采用不同激光扫描速度,对熔覆Stellite 12钴基硬面合金的合金层的相组成、微观组织结构对耐磨性和显微硬度影响的研究结果。表明:(1)激光熔覆合金层是由过饱和的γ(Co,Cr)基体相和复杂的六方M_7C_3碳化物相所组成(2)在其他参数不变的情况下,随激光扫描速度的提高,γ(Co,Cr)基体相过饱和度增大,而析出的碳化物含量减少,因而合金层的硬度升高,耐磨性有所下降;而降低激光的扫描速度,碳化物M_7C_3析出增加,有利于提高合金层的耐磨性、因此碳化物M_7C_3析出量是提高耐磨性的主要因素,而增加基体相γ(Co,Cr)的过饱和度则是硬度提高的主要因素 相似文献
999.
接触反应钎焊中间层材料的选择原则--接触反应共晶液相产生的方向性 总被引:1,自引:0,他引:1
以Al/Cu ,Al/Si接触反应偶为例 ,研究了不同基体与反应材料组合下 ,共晶液相的产生及其铺展行为。结果表明 :Al/Cu ,Al/Si接触反应偶中共晶液相的产生具有明显的方向性—优先在Al侧产生 ,这是扩散偶之间的互扩散系数不等所造成的必然结果。而在接触反应钎焊的中间层材料选择过程中 ,考虑接触反应液相产生的方向性是发挥接触反应钎焊优越性的保障 相似文献
1000.
目的研究磁控溅射工艺对ITO薄膜光电性能的影响,为制备高性能ITO薄膜提供数据和理论支撑。方法采用磁控溅射在PET基材上制备ITO薄膜,利用扫描电镜、X射线衍射仪、分光光度计、四探针、红外发射率测仪、Hall效应测试系统等,分析工艺参数对ITO薄膜光电性能的影响。结果随着氧气流量的增加,ITO薄膜在可见光区的透过率先增加,然后变缓,薄膜方块电阻先降低后升高;随着工作气压的增加,ITO薄膜的可见光透过率增加,薄膜方块电阻先下降后上升,电阻率先变小再增大,载流子浓度先增大后减小,红外发射率先减小后增大,晶体结构逐渐由晶态转变为非晶态;随着氩氧比的降低,薄膜红外发射率先降低,然后缓慢升高;随溅射时间的增加,薄膜的厚度逐渐增大,方块电阻、红外发射率和可见光透过率迅速下降,晶体结构逐渐由非晶结构转变为晶体结构。综合对比研究发现,当氧气流量为0.6 mL/min、工作气压为0.4 Pa、氩氧比为19.8∶0.2、溅射时间为80 min时,可获得综合性能优异的ITO薄膜,其可见光透过率大于80%,在8~14μm红外波段的辐射率小于0.2。结论磁控溅射工艺参数是决定薄膜综合质量的重要因素,通过严格控制工艺参数,可获得透明性高、发射率低的ITO薄膜。 相似文献