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51.
故障现象 一台快乐HC2061AR彩电,无光栅。分析与检修 查电压和行扫描电路正常,显像管灯丝已亮,屏幕上有字符,三个阴极电压均在170V左右,测量三个视放管基极和发射极电压均为7.6V左右,反偏截止;将显像管加速极电压调高后,出现纯净的白光栅,但有回扫线,说明显像管供给中、高电压正常,判断故障在解码和亮度电路。该机为东芝TA二片机(TA7680AP和TA7698AP),微处理器为TMP47C433AN。查扫描、解码电路TA7698AP的脚12V供给电压正常(见附图),亮度控制端脚电压为4V左右,且随亮度调整上下变化, TA7698AP内部亮度电路输出端23脚电压为8… 相似文献
52.
53.
基于均匀光纤光栅的DWDM系统PMD补偿方法 总被引:4,自引:4,他引:0
提出一种基于均匀光纤Bragg光栅(FBG)的透射型密集波分复用(DWDM)系统多信道偏振模色散(PMD)补偿方案。当FBG受到横向挤压时,会产生双折射现象。当一波长的光信号从光栅带隙附近透射时,就会在快轴和慢轴之间产生时延差(DGD)。通过改变外力的大小来调节DGD的大小可以实现对PMD的补偿。通过将多个补偿光栅级联,就可以实现对DWDM系统多信道PMD的补偿。在100N外力作用下,5cm长的光栅最大可以补偿121ps的PMD,而对相邻0.8nm的信道,只引入0.2ps的DGD。 相似文献
54.
对龚嘴水力发电总厂实施“无人值班”(少人值守)的工作情况进行了介绍,并着重讨论了监控系统及主辅设备的改造以及管理方面的建设情况。 相似文献
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56.
用溶胶-凝胶技术在Bi(100)衬底上制备了单层和渐变型多层的BaxSr(1-X)TiO3薄膜,其膜层组分分别为:Ba0.7Sr0.3TiO3,Ba0.8Sr0.2TiO,Ba0.9Sr0.1TiO3,BaTiO3,对生长制备出的多层BaxSr(1-X)TiO3薄膜进行了变角度椭偏光谱测量,通过椭偏光谱解谱分析研究,首次得到了BaxSr(1-X)TiO3多层膜结构不同膜层的膜厚和光学常数,其结果显示:椭偏光谱分析得到的不同膜层的膜厚与卢瑟福背向散射测量得到的结果基本相符;渐变型多层膜中BaTiO3薄膜的折射率比单层BaTiO3薄膜折射率大许多,与体BaTiO3的折射率相接近,这说明渐变型多层膜中BaTiO3薄膜的光学性质与体材料的光学性质接近。 相似文献
57.
砂岩酸化中水化硅沉淀的影响因素分析 总被引:1,自引:0,他引:1
讨论了砂岩酸化中产生水化硅沉淀的反应机理。使高岭土与1.0%HF和多种配比的HCl HF在不同温度(20-90℃)反应不同时间(10-300分钟),用等离子吸收光谱法(ICP)测定酸液中可溶性硅的浓度(mg/L),取某时段测定值的减小量为该时段水化硅沉淀生成量,讨论了多种因素的影响,得到了如下结果和结论。反应温度越高,则高岭土与HF之间的反应越快,形成水化硅沉淀的时间越短,最终生成的沉淀量越大;在HF中加入HCl(使用土酸体系)、减小土酸中HF质量分数、加大土酸中HCl、HF质量分数比,均可使生成沉淀时间延后,使最终生成沉淀量减少。60℃时300分钟沉淀量,在1.0%HF、5.0%HCl 1.0%HF、9.0%HCl 1.0%HF中分别为482、321、201mg/L。提出了在酸化设计与施工中可以采取的6条简便易行的减少水化硅沉淀量的措施。图4表1参6。 相似文献
58.
发射尖是液态金属离子源(LMIS)的关键部件之一,其性能的优劣直接影响到整个离子源的工作稳定性。通过对系统软件和硬件的设计,开发了一套发射尖自动腐蚀装置,该装置可以对发射尖腐蚀过程中的速度和深度以及腐蚀电压进行控制,实现发射尖腐蚀工艺的重复性、可靠性,从而为液态金属离子源以及聚焦离子束系统的研制、开发提供了一个有效的辅助工具。 相似文献
59.
60.
本文提出一种基于线性啁啾光纤光栅补偿偏振模色散的新方案,对光纤光栅由于挤压而产生的群时延差进行了理论计算,并实验测量了一被挤压的线性啁啾光纤光栅的两偏振方向的群时延曲线,测量的结果证明这种方案切实可行。 相似文献