聚氨酯干法涂层的应用

介绍了涂层织物的特点及聚氨酯在涂层整理中的作用,并对干法直接涂层工艺进行了探讨.     

烷基烷氧基硅烷的合成方法及其在涂料中的应用

介绍了烷基烷氧基硅烷的合成方法(包括烷基的引入方法和烷氧基的形成方法)、近几年来在涂料中的应用及其结构与性能的关系。     

Amorphous chromium silicide formation in hydrogenated amorphous silicon

The interaction between thin films of hydrogenated amorphous silicon and sputter-deposited chromium has been studied. Following deposition of the chromium films at room temperature, the films were annealed over a range of times and temperatures below 350°C. It was found that an amorphous silicide was formed only a few nanometers thick with the square of thickness proportional to the annealing time. The activation energy for the process was 0.55±0.05 eV. The formation process of the silicide was very reproducible with the value of density derived from the thickness and Cr surface density being close to the value for crystalline CrSi₂ for all films formed at temperatures ≤300°C. The specific resistivity of the amorphous CrSi₂ was ≈600 μΩ·cm and independent of annealing temperature.     

真空铸造高强度C／Mg复合材料

本文介绍用真空铸造法制造抗拉强度超过１０００ＭＰａ的高强度Ｃ／Ｍｇ复合材料。将Ｔ３００纤维经Ｃ－Ｓｉ－Ｏ梯度涂层处理后单向排布于型腔内，在真空下注入ＺＭ—５合金液，凝固后即得Ｃ／Ｍｇ复合材料零件或试样。试样的抗拉强度在纤维体积分数为０．３５时达１０５０ＭＰａ。本文讨论Ｃ－Ｓｉ－Ｏ梯度涂层对获得高强度复合材料的作用。     

显像管发射小的跟踪分析

本文对黑白显像管发射小进行了跟踪分析，认为阴极涂层脱落和管内真空度不良是导致显像管发射小的主要原因。     

涂层材料的断裂分析(英文)

和基体厚度相比,涂层很薄,因此细观力学模型可把基体作为半无限弹性体。由于涂层和基体材料的膨胀系数及弹性系数不匹配,涂层材料中残余热应力的解析解为 E_c/(1-γ_c)·(α_s-α_c)△T。用有限元法校核,该应力和解析解吻合得好。通过对涂层产生裂纹驱动力和断裂韧性的讨论,提出了抗裂涂层厚度公式。     

化学镀SiCp／Ni－P复合镀层与基体结合强度及其影响因素

论述了ＳｉＣｐ／Ｎｉ－Ｐ复合镀层与钢基体的结合强度及其影响因素。复合镀层中离界面５μｍ厚度以内区域的组成及应力状态对镀层／基体的界面结合有决定性作用，在该区域以外ＳｉＣ粒径变化不影响镀层的结合强度。适当的热处理可提高界面结合力。     

激光对陶瓷层的釉化处理

本文研究了激光重熔等离子体喷涂的陶瓷层。为了降低气孔率,获得好的微观结构和均匀性,减少覆盖材料的应力,提高涂层材料和基体的结合力,探讨了相间的结合机理,分析了重熔过程中出现的问题。     

一种碳－碳复合材料长寿命防氧化涂层的失效机制

用液相法联合ＣＶＤ法和硅化法制备了一种碳－碳复合材料复合梯度涂层，在此基础上对这种涂层在氧化过程中的失效机制进行了研究．结果表明：氧化层与液相层界面反应生成的气相产物是涂层失效的根本原因界面上气泡的不均匀形核、长大和破裂导致涂层表面出现孔洞．孔洞处气泡优先形核、长大和破裂并发展成为缺陷而使涂层失效     

超声波对化学镀Ni－Cr－P非晶态薄膜的金刚石性能的影响

研究了超声波对化学镀Ｎｉ－Ｃｒ－Ｐ非晶态薄膜的金刚石性能的影响。结果表明，超声波可使金刚石表面非晶态薄膜更加均匀和致密，从而提高了抗压强度，氧化温度和晶化后的强度。随超声波频率的增加，金刚石性能有增加的趋势。