等离子束表面冶金与激光溶覆技术

介绍了等离子束表面冶金和激光熔覆技术的原理、特点和研究现状,分析比较了两种技术的工艺特点及涂层组织结构特点.由于等离子束表面冶金技术具有突出的优质高效低成本综合优势,且涂层原料来源广,在市场竞争中具有潜力.     

形状记忆合金等离子束流的焊接

采用高能密度等离子束流对TiNi形状记忆合金板材进行焊接性研究.部分设计并建立了高能密度等离子束流试验装置系统.确定了参数之间的关系以及合适的参数调节范围.进而总结出可供工程应用的工艺参数范围.分别对焊接接头各部分微观组织特点、组织结构、记忆性能、抗拉强度进行了研究.研究发现,焊缝组织晶粒粗大,有新相Ni3Ti和Ti2Ni的析出;焊接热影响区窄;焊接接头的形状恢复率是母材的93.8%;母材抗拉强度为1 205 MPa,经500℃保温1 h热处理,焊接接头抗拉强度达750MPa,是母材抗拉强度的62.2%,断裂部位在焊缝中心.     

工艺参数对等离子束表面冶金铁基涂层组织及性能的影响

采用等离子束表面冶金技术，在Q235钢表面制备了铁基合金涂层。试验研究了等离子束表面冶金工艺参数（如工作电流、扫描速度等）对冶金层的影响。结果表明，工艺参数对冶金层显微组织及显微硬度有很大的影响。在保证涂层与基体形成良好的冶金结合的前提下，适当增大扫描速度或减小工作电流有利于涂层组织的细化。     

强脉冲离子束辐照对Ni_3Al合金表面的改性

采用X射线衍射、扫描电镜和电化学腐蚀等技术研究了 3种不同束流密度的强脉冲离子束辐照对Ni3 Al合金表面形貌与物相及电化学腐蚀性能的影响。结果表明 :IPIB辐照时 ,试样最外表面的温度远超过Ni3 Al合金的熔点 ,造成试样表面融化 ,从而清洁和抛光试样表面 ;随离子束流密度的增加 ,Ni3 Al合金表面的物相呈现规律性的变化 ,分别产生形变织构、部分非晶及新相 ,使Ni3 Al合金的抗电化学腐蚀性能得以提高     

截齿等离子束表面冶金铁基耐磨涂层研究

采用等离子束表面冶金技术，在采煤机截齿磨损严重的部位制备了与基材呈冶金结合的铁基复合涂层。利用光学显微镜、扫描电镜、X衍射仪和显微硬度计等手段分析了冶金涂层组织，测试了涂层的显微硬度和磨损性能。结果表明：涂层主要由γ-（Fe，Ni）和（Cr，Fe）7（C，B）3相组成，在固溶强化、弥散强化和细晶体强化共同作用下，冶金涂层具有较高的显微硬度和较好的耐磨性能。     

先进的离子束热处理技术和工业应用

评述了离子束技术的发展和应用,特别针对离子束多功能综合加工技术的发展进行了评论.这种技术已经成为独具特色的热处理技术.该技术属于低消耗、高产出、高效率和无污染的绿色加工技术.评述了这一技术的未来发展方向.     

W6Mo5Cr4V2钢表面强流脉冲离子束辐照研究

利用扫描电镜(SEM)、台阶仪、X射线衍射仪(XRD)、透射电镜(TEM)、显微硬度仪对W6Mo5Cr4V2钢经强流脉冲离子束(HIPIB)辐照前后试样的表面形貌、粗糙度、表层的组织结构及硬度进行了分析,探讨了"熔坑"和硬度"多峰"态形成的原因.结果表明,试样表面粗糙度随辐照次数的增加有所减小;辐照过程使该钢体心立方的马氏体α'-Fe向面心立方的奥氏体γ-Fe转变,碳化物溶解,马氏体溶碳量增大且晶粒细化,点阵畸变度增大,使W6Mo5Cr4V2钢表面硬度有较大的提高.     

离子束增强沉积氮化硅膜及TiAl抗高温氧化性能的改善

用离子束增强沉积（ＩＢＥＤ）方法在金属间化合物ＴｉＡｌ上合成厚度为０．５，１，和２μｍ的氮化硅薄膜。所形成的薄膜为非晶态，膜与基底间存在混合的过渡区，膜与基底结合紧密用ＡＥＳ，ＸＲＤ和ＸＰＳ研究薄膜的组成和结构，高温循环氧化结果表明，经沉积膜的ＴｉＡｌ试样的抗氧化性能显著提高其中沉积０．５μｍ薄膜的试样表现出极好的抗循环氧化性能由ＳＥＭ及ＥＤＳ分析得出，良好的高温稳定性能、高的膜／基底结合力和形成富Ａｌ２Ｏ３和硅化物的保护层是提高ＴｉＡｌ抗高温氧化性能的主要因素．     

镀铬层表面等离子束流加热区视觉信息检测试验

论述了视觉传感技术的特点和研究现状。针对镀铬层固态表面传热及光路特点，选取了普通CCD摄像机，利用固态表面对电弧的反射光和加热工件自身的辐射光，在近红外波段取像的视觉采集方法。结合近红外光谱特点和CCD摄像机的光谱响应度变化趋势，在980nm波长的窗口区域提取到了清晰的视觉图像。分析了镀铬层固态表面等离子束流加热区图像的成像机理，在对加热区图像特征进行分析的基础上对图像进行了处理，提取出了有效信息。     

离子束增强沉积Si─N膜

用离子束增强沉积方法制备了ＳｉＮ薄膜，其中Ｓｉ由一束Ａｒ离子从Ｓｉ靶上溅射下来，在溅射沉积的同时，以一束Ｎ离子轰击正在沉积的膜层，于是获得了ＳｉＮ膜。采用卢瑟福背散射、红外光谱和透射电镜对膜层的成分和结构进行了分析，结果表明：膜面平整，膜层为非晶或微晶结构，由Ｓｉ和βＳｉ３Ｎ４组成