氩离子轰击对中频-直流磁控溅射铝薄膜耐蚀性能的影响

目的研究氩离子轰击这种后处理工艺对TC4钛合金表面铝膜层结构和耐蚀性能的影响,为飞机钛合金紧固件的表面腐蚀防护工作提供理论依据。方法首先采用中频-直流相结合的磁控溅射离子镀方法在Ti-6Al-4V钛合金(TC4)基体表面制备铝膜,通过电化学方法研究膜层厚度和腐蚀时间对耐蚀性能的影响规律。其次,采用氩离子轰击工艺对膜层进行后处理,探讨氩离子轰击对膜层耐蚀性能的影响,同时利用SEM、EDS、AFM表征界面形貌,并分析耐蚀机理。最后,通过显微硬度仪和微纳米划痕仪测试膜层表面硬度和界面结合性能。结果随着膜层厚度从11.1μm增加至15.9μm,自腐蚀电流密度下降了76.6%,而当厚度由15.9μm增加至20.3μm时,自腐蚀电流密度又下降了24.3%。腐蚀浸泡时间达到24 h时,腐蚀产物在疏松氧化膜内的累积和覆盖阻碍了膜层的腐蚀;在48～72 h时,随着铝膜层相对疏松的腐蚀产物逐渐脱落,腐蚀逐渐加剧;浸泡至96h时,涂层表面出现宏观腐蚀坑。氩离子轰击后,膜层表面粗糙度增加,铝膜层自腐蚀电流密度由未轰击时的1.65×10~(-8)A/cm~2大幅度降低至7.29×10~(-10)A/cm~2。结论随着铝膜层厚度的增加,膜层耐蚀性逐渐增强。膜层在浸泡初期和中期,均具有较强的耐腐蚀性能;浸泡后期,膜层逐渐发生点蚀,耐蚀性能下降。表面氩离子轰击后,膜层的耐蚀性能、显微硬度和界面结合性能显著提高。     

微波ECR等离子体辅助磁控溅射沉积装置的研制

本文介绍了一种新型的沉积装置──微波ＥＣＲ等离子体辅助磁控溅射沉积装置。通过对装置性能的测试及沉积试验表明，该装置具有与离子束辅助沉积相类似的效果，但与离子束辅助沉积装置相比，该装置提高了成膜的沉积速度，降低了设备成本，为薄膜沉积提出了一条新途径．     

聚变反应堆壁材料钨和钼的表面离子束效应

利用扫描电子显微镜 (SEM )及氘的定量深度分布测量 ,系统地研究了在氘离子轰击下金属钨和钼的损伤情况 ,特别是钨表面气泡的形成及机制 ,以及氘在表面层的滞留量和气泡形成机制之间的关系。D+离子能量为 10 0eV— 1keV ,轰击剂量为 1× 10 19— 1× 10 2 1D+/cm2 。轰击过程中靶表面温度分别控制在室温、6 0 0℃和 80 0℃。     

节能和环保理想结合——程控电脉冲型双重加热多功能离子轰击炉

就节省电能与气能和环保而言，程控电脉冲型双重加热多功能离子轰击炉比气体和液气化学热处理设备、甚至真空炉，具有比较明显的优势，比气体炉节电能30％以上，节约耗用气体是气体炉的1／20～1／100；无环境污染，可实现洁净     

等离子轰击渗金属

本文介绍了两种离子轰击渗金属工艺——双层辉光离子渗金属和离子轰击膏剂渗金属的基本原理、研究现状和今后的发展前景．     

焊补与离子轰击渗扩复合强化工艺

本文以修复强化船用柴油机钢活塞环槽为例,介绍了焊补与离子轰击渗扩强化复合新技术。用含铬焊条堆焊已磨损的活塞环槽,加工到规定尺寸,然后经离子轰击渗扩强化,可获得优于镀硬铬的强化效果,并缩短了工时。这种修复工艺对低碳低合金钢零件也适用,具有一定的普遍意义。     

石墨烯改性研究进展

结合当前国内外石墨烯改性的研究进展,分别从表面改性和电子性能改性两个方面介绍了石墨烯的改性方法。其中,石墨烯表面改性包括共价键功能化和非共价键功能化;石墨烯电子性能改性包括掺杂和离子轰击。讨论了各种改性方法的优缺点,并在原有改性方法的基础上,展望了未来石墨烯改性的发展方向。