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81.
图形化蓝宝石衬底掺杂渐变的氮化镓(GaN)外延片上制备了肖特基型紫外探测器。与传统结构器件相比,该器件表现出显著改善的电学和光学特性:(1)室温下,当偏压为-5V时具有极低的暗电流密度~1.3×10-8 A/cm~2;(2)在零偏压情况下,紫外/可见光抑制比为~4.2×10~3,最高的响应度为~0.147A/W,最大外量子效率为~50.7%,甚至在深紫外波段(250~360nm)平均量子效率也大于40%;(3)平均开启和关闭瞬态响应常数分别为115μs和120μs,基本不随偏压变化,且具有很好的热稳定性;(4)零偏压下热噪声限制的极限探测率为~5.5×10~(13)cm·Hz~(1/2)/W。  相似文献   
82.
周玮祎 《电子技术应用》2019,45(12):101-105
从大量的报表数据中提取出有价值的信息,是进行企业市场分析中十分重要的一步。而如何将大量的数据以图形化的形式在最短的时间内展现在企业管理者的面前,便是此次研究的意义所在。页面在Ajax的支持下采用了ECharts这一图形报表技术,使原本死板的报表数据能清晰直观地传递给企业的管理者,为帮助其做出精准的市场判断提供了坚实的基础。  相似文献   
83.
曹红霞 《中外电器》2014,(23):76-78
主持人寄语:程序教学的复兴栏目要告一段落了,我作为主持人和大家一同经历了程序教学的几个趋势,从图形化编程到代码编程,从单机编程到网络编程。从PC编程到移动编程,Programming for ALL,未来是一个人人都可以编程的时代,而有关程序教学复兴之后的深入研究才刚刚开始。  相似文献   
84.
《机电信息》2014,(28):86-86
正AeroEdgeTM 39CBF组合式空气处理机组产品特点:(1)采用全新设计的箱体结构,满足欧标ENl886标准,性能高达T2/TB2/L2,漏风损失降至最低,空气处理效果卓越;(2)独有PM2.5长效解决方案,采用最新纳米级滤材,过滤效率高达98.5%,且寿命是普通滤材2.5倍以上,持续高效地提供健康的室内环境;(3)先进集成化内置控制系统,触摸屏设计,图形化显示,操作便捷,  相似文献   
85.
E-MATCH智能布线系统除了具备引导跳线操作、能够自动准确记录连接关系的变化、能够准确显示从交换机端口到房间位置终端的链路信息和历史数据的记录与追踪能力等基本功能外,更能实现高效简洁的系统结构和全图形化的管理方式,从而以更高科技实现用户的最大价值。  相似文献   
86.
<正>文字图形化作为近些年海报设计中的新宠,备受广大海报设计师的喜爱,至今已经成为海报设计中不可或缺的一部分。它不仅形象生动,易于让人产生共鸣,激发兴趣和内心的情绪,而且更好地发挥了其作为文字的传播意义。一个海报的设计成功与否,从文字图形化的体现效果就能反馈出来。所以,作为一个海报设计者,关于文字图形化在海报设计中的体现,需要注意的地方还有很多,本文就此提出了几点建议。  相似文献   
87.
《电脑迷》2012,(4):35
昂达的A75T魔固版相信大家不会陌生了,而现在产品的价格不仅调整为499元,同时还加入了UEFI图形化BIOS、IOS直观智能超频调压系统、IES智能节能  相似文献   
88.
使用光学显微镜、原子力显微镜和微区喇曼光谱对在纳球光刻图案化GaAs衬底的孔洞区进行金属有机化学气相沉积(MOCVD)进而对InP成核层进行了研究.实验结果表明,该局域表面InP的成核层生长和孔洞的大小、方向、位置关系不大,与MOCVD的生长条件相关.与渐变缓冲层生长相比,在InP的成核层中没有出现穿透位错,其结晶质量随着温度的升高而提高,但其表面粗糙度会随着温度的升高而增加,这个现象可能和它的3D岛状生长有关.AFM测试结果表明,提高Ⅴ/Ⅲ比可以在较低的温度下抑制其表面粗糙度降至纳米量级.微区喇曼光谱测试表明,在适当条件生长下可获得InP成核层的二维生长方式.该研究为进一步基于ART机理在二维图案化GaAs衬底开展InP异质外延研究奠定基础.  相似文献   
89.
NI 2008年度“NI Days全球图形化系统设计盛会”中国站于11月18日在上海国际会议中心圆满落幕。600余位工程师、11家国内外知名测试测量企业以及20多家行业媒体到会。围绕“工程师的奥林匹克——绿色应用,科技共享”的主题,此次NIDays技术盛会通过5大专题、倡场技术讲座.  相似文献   
90.
《测控技术》2009,28(1)
2008年11月18日,美国国家仪器有限公司(简称NI)在上海国际会议中心推出以“绿色应用,科技共享”为主题的NIDays2008全球图形化系统设计盛会。此次活动由NI主办,中科泛华、聚星仪器、富连达科技、INTEST、凌创电子、东南测试、飞睿测控、章和电气、乐高、Quanser公司、航卫科技共11家公司共同参与,参会的工程师近500余人。  相似文献   
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