原位STM研究钢筋在模拟混凝土孔溶液中腐蚀和缓蚀动态行为

应用STM原位观察在不同氯离子浓度和pH值以及加入缓蚀剂前后的模拟混凝土孔溶液中的钢筋表面微观形貌．在pH=12．40的混凝土模拟孔溶液中，钢筋表面趋向均一，钝化膜的薄弱部分得到强化；在含3．5％NaCl，pH=10．40的混凝土模拟孔溶液中由于局部腐蚀的发生，可观察到不规则的沉积物的形成、生长；LD-2型复合缓蚀剂能消除腐蚀活性，促使表面微观缺陷消亡，增加钝化膜的耐蚀能力．研究结果说明，STM可在纳米尺度上观察表面形貌变化，可成为原位研究钢筋在模拟混凝土孔溶液中腐蚀和缓蚀的动态行为的重要手段．     

化学气相沉积的金刚石膜标准制定中应考虑的问题

静压法合成的单晶人造金刚石和人造金刚石微粉，就品种，技术条件，包装，杂质检验，抗压强度测定方法，粒度组成等有关问题，已经建立了国家标准。化学气相沉积法制取的金刚石膜因出现的时间短还未建立起有关标准。化学气相沉积金刚石膜的方法有热丝法，微波法和直流电弧等离子体喷射法三类，本就直流电弧等离子体喷射化学气相沉积的自支撑人造金刚石膜标准的制定中应考虑到的一些问题提出了我们的看法。     

离子束增强沉积Si─N膜

用离子束增强沉积方法制备了ＳｉＮ薄膜，其中Ｓｉ由一束Ａｒ离子从Ｓｉ靶上溅射下来，在溅射沉积的同时，以一束Ｎ离子轰击正在沉积的膜层，于是获得了ＳｉＮ膜。采用卢瑟福背散射、红外光谱和透射电镜对膜层的成分和结构进行了分析，结果表明：膜面平整，膜层为非晶或微晶结构，由Ｓｉ和βＳｉ３Ｎ４组成     

Preparation of flee-standing diamond films for high frequency SAW devices

Free-standing diamond films were prepared by hot filament chemical vapor deposition （HFCVD） method under different conditions. Inter-digital transducers （IDTs） were formed on the nucleation sides of free-standing diamond films by photolithography technique. Then piezoelectric ZnO films were deposited by radio-frequency（RF） reactive magnetron sputtering to obtain the ZnO/diamond film structures. Surface morphologies of the nucleation sides and the IDTs were characterized by means of scanning electron microscopy （SEM）, atomic force microscope （AFM） and optical microscopy. The results indicate that the surfaces of nucleation sides are very smooth and the IDTs are of high quality without discontinuity and short circuit phenomenon. Raman spectra show the sharp diamond feature peak at about 1 334 cmI and the small amount of non-diamond carbon in the nucleation side. X-ray diffraction （XRD） patterns of the structure of ZnO/diamond films show a strong diffraction peak of ZnO （002）, which indicates that as-sputtered ZnO films are highly c-axis oriented.     

化学镀后的发黑工艺

开发了一种高质量发黑工艺,它是在低温化学镀镍的基础上进行氧化处理的方法.该方法获得的发黑膜层质量得到了极大的提高.膜层结合力优异,耐磨,色泽纯正.可满足工业生产的高质量发黑的需要.     

偏压类型对磁过滤等离子体制备优质类金刚石膜的影响

采用自行研制的磁过滤等离子体装置在单晶Si基底上制备了优质类金刚石(DLC)薄膜.运用红外光谱(IR)、扫描电镜(SEM),原子力显微镜(AFM)和纳米压痕仪对样品进行了表征和分析,着重研究了衬底偏压类型对制备薄膜的影响.结果表明:在无偏压或周期性负偏压下制备的DLC薄膜的sp3含量比连续负偏压下制备的薄膜的sp3含量要高;同时在周期性偏压下制备的薄膜表面较光滑,其表面粗糙度仅为0.1 nm,sp3含量达到66.8%,相应的纳米硬度也较高(达到80GPa).同时对相应的成膜机理进行了讨论.     

宽带隙薄膜材料核化与生长机制及其性质的研究

宽带隙金刚石膜及立方氮化硼薄膜由于其优异的物理性质和低成本，在机械、电子、光学及军事工业等部门有广阔的应用前景。     

恒电位—恒电流瞬态响应技术研究钝化膜多层结构

采用恒电位－恒电流（Ｐ－Ｇ）瞬态响应技术研究了２２０５和３１６Ｌ不锈钢在０．５和１．０ｍｏｌ／ＬＮａＣＩ溶液中钝化膜的结构和稳定性。研究结果证实，体系的钝化膜均具有多层结构。讨论了氯离子在钝化膜生长和破坏过程中的作用。并提出可能的作用模式和破坏机制。由Ｐ－Ｇ响应曲线计算得到的各特征参数随极化电位的变化关系表明。２２０５双相钢在ＮａＣＩ介质中的耐蚀性明显高于３１６Ｌ不锈钢。另外，初步探讨了２２０５钢     

ZL系列铸铝合金的微弧氧化

对含硅量为 8 %～ 12 %的ZL系列铸铝合金的微弧氧化工艺条件、膜层结构以及成膜过程进行了研究。结果表明 :采用不对称交变电压和在以硅酸钠为主要成分的复合电解液体系中 ,铸铝合金表面可获得一层性能优异的微弧氧化膜层。电子能谱 (EDS)和X射线衍射 (XRD)分析结果表明微弧氧化膜主要由Al,Si和O元素组成 ,膜的相结构主要为 η Al2 O3 ,α Al2 O3 和SiO2 ,并含有γ Al2 O3 和Mg ,W ,Cu等元素的氧化物。扫描电镜 (SEM)分析表明微弧氧化膜由致密层 (内层 )和疏松层 (外层 )构成 ,疏松层表面存在许多气孔 ,而致密层完整光滑 ,具有较高的显微硬度和优异的耐磨耐蚀性能     

Fe—Mn—Al合金在水溶液中电化学腐蚀行为

采用阳极极化测量，俄歇能谱仪与Ｘ射线光电子谱仪研究了Ｆｅ－（１７￣３１ｗｔ％）Ｍｎ－（０￣９ｗｔ％）Ａｌ系奥氏体合金在１ｍｏｌ／Ｌ Ｎａ２ＳＯ４与３．５％ＮａＣｌ溶液中的电化学腐蚀行为。