英国国家物理研究所(NPL)的紫外和真空紫外光谱发射标准研究

由于等离子体物理、空间物理、光化学以及激光器的发展,需要在紫外和真空紫外光谱区进行精确的辐射测量。和其他光谱区一样,根据不同的情况,可以使用标准光源或标准探测器。紫外和真空紫外探测器标准,可以用绝对温差电偶和电离室技术,并已发展了相应的传递探测器。     

8.0nm X射线激光反射镜Mo/B4C多层膜制备及其特性

用磁控溅射法制备工作波长约８０ ｎｍ 的 Ｍｏ／ Ｂ４ Ｃ多层膜作为正入射短波长（λ＜ １０．０ ｎｍ ）软 Ｘ 射线激光反射腔的反射镜。经 Ｘ 射线衍射仪和 Ｔ Ｅ Ｍ 检测,多层膜周期结构准确,热稳定性高。     

利用同步辐射建立紫外及真空紫外光谱辐射标准

在辐射计量工作中,光源光谱辐射特性的测定占很重要的地位。可以有两种方法来确定光源的光谱辐射特性:一种是标准光源法,一种是标准探测器法。前者是把待测光源和标准光源在同一光谱辐射计上进行比较,以得出待测光源的光谱辐射特性。后者是用标准探测器和光谱辐射计测得待测光源的光谱辐射分布,然后根据预先测得的光谱辐射计传递特性进行修正。     

软X射线成像光学技术的发展

成像光学系统的基本性能的要求是分辩率。根据成像原理,分辩率受光波衍射的限制。提高衍射极限分辩率的途径之一是减小波长。X射线光学成像是在这一指导思想下开始研究的,电子光学成像也是这样。而且这两种成像技术的研究,在历史上几乎是同时并进的。1895年伦琴发现X射线,1897年J.J汤姆逊证实了电子的存在;1923年康普顿证明了掠入射条件下射线在抛光金属表面可以像可见光一样反射、聚焦,1926年H。布希等证明了旋转对称静电场和静磁场可以使电子束偏折、聚焦和成     

真空紫外光源近十年的发展

真空紫外辐射的光子能量为几十电子伏到数百电子伏,真空紫外光源不可能用常用的紫外、可见和近红外光源来代替。     

软X光激光用多层膜反射镜的制备与检测

介绍在制备和检测软Ｘ光激光用多层膜反射镜中听做的研究工作。重点是制备过程，包括基板、镀膜设备、膜厚控制方法，以及经大量实验得出的镀膜工艺条件、给出了利用Ｘ光射线衍射仪所做的周期结构检测结果，以及利用激光等离子体作光源的精密反射率计所作的反射率测量结果。最后，对工作进展和存在的问题做了简略评述。     

棉-涤混纺面料中棉含量的近红外光谱分析

为得到分析精度较高的用于检测棉-涤混纺面料里含棉量的近红外光谱分析模型。首先,利用50个棉-涤混纺面料作为对象,自行设计采样装置,采集其近红外光谱,然后,经一阶、二阶导数,Savitzky-Golay滤波等方法预处理,结合偏最小二乘法,建立了四个棉成分的定量分析模型。结果表明：Savitzky-Golay滤波对定标结果几乎没有影响;经一阶导数预处理后的光谱数据结合偏最小二乘法建立的模型具有较高的分析精度,定标均方差和预测均方差分别达到了0.022、0.018,分析误差控制在±0.05以内。基本满足了纺织领域快速定量检测的精度需求。同时,文章还分析了近红外光谱技术在该应用领域的研究重点。     

X射线正入射显微镜及其在ICF中的应用

全面叙述了X射线正入射显微镜的发展,探讨了影响正入射显微镜性能的关键技术问题,指出了其在等离子体诊断中的应用。     

正入射软X射线显微成像研究

正入射软Ｘ射线显微成像研究陈星旦曹健林王占山缪同群翁志成（中国科学院长春光学精密机械研究所，长春１３００２２）项目批准号：６９０８８００８在国内率先研究了正入射Ｘ射线显微成像技术，并获得了优于１μｍ分辨率的正入射Ｘ射线显微成像系统，达到国际同等水平。...