全文获取类型
收费全文 | 249篇 |
免费 | 17篇 |
国内免费 | 29篇 |
专业分类
电工技术 | 5篇 |
综合类 | 11篇 |
化学工业 | 37篇 |
金属工艺 | 33篇 |
机械仪表 | 50篇 |
矿业工程 | 3篇 |
轻工业 | 10篇 |
无线电 | 119篇 |
一般工业技术 | 19篇 |
冶金工业 | 7篇 |
自动化技术 | 1篇 |
出版年
2024年 | 5篇 |
2023年 | 7篇 |
2022年 | 12篇 |
2021年 | 7篇 |
2020年 | 7篇 |
2019年 | 6篇 |
2018年 | 9篇 |
2017年 | 12篇 |
2016年 | 10篇 |
2015年 | 6篇 |
2014年 | 17篇 |
2013年 | 12篇 |
2012年 | 20篇 |
2011年 | 17篇 |
2010年 | 14篇 |
2009年 | 9篇 |
2008年 | 18篇 |
2007年 | 19篇 |
2006年 | 21篇 |
2005年 | 14篇 |
2004年 | 12篇 |
2003年 | 6篇 |
2002年 | 9篇 |
2001年 | 6篇 |
2000年 | 2篇 |
1999年 | 2篇 |
1998年 | 5篇 |
1997年 | 2篇 |
1996年 | 2篇 |
1994年 | 1篇 |
1993年 | 1篇 |
1992年 | 1篇 |
1991年 | 3篇 |
1989年 | 1篇 |
排序方式: 共有295条查询结果,搜索用时 15 毫秒
101.
以硝酸铁为氧化剂选用不同缓蚀剂对铜化学机械抛光用抛光液的缓蚀效果进行了研究.通过测试不同缓蚀剂作用下铜的电化学极化曲线,来获得的腐蚀电流值和计算不同缓蚀剂的缓蚀效率.采用表面粗糙度为1.42nm的铜硅片进行静腐蚀和抛光实验,利用ZYGO粗糙度仪测试了硅片表面的粗糙度变化,并采用原子力显微镜分析腐蚀表面形貌.研究结果表明,在以硝酸铁为氧化剂的酸性环境中,苯丙氮三唑(BTA)作为铜抛光液的缓蚀剂具有良好的缓蚀效果.根据电化学参数计算出1.5wt%硝酸铁溶液中添加0.1wt%BTA的缓蚀率达99.1%;无论在静腐蚀还是在抛光过程中,在抛光液中添加BTA均可避免硅片严重腐蚀,使表面光滑. 相似文献
102.
针对Ta-W合金材料圆薄片零件化学机械抛光工艺,设计了Ta-W合金材料化学机械抛光抛光液,并探讨了抛光液各组分的含量及抛光工艺参数对抛光速率和抛光件表面质量的影响。结果表明,当抛光液中磨料SiO2溶胶质量分数为40%-65%时,抛光速率也达到较高值并在一定的硅溶胶含量范围内波动不大;当抛光液中有机碱的质量分数为4%-6%时,抛光速率达到最大值;随着氧化剂含量的增加,去除速率几乎成线性增加,但随氧化剂含量的增大表面状态变差,故应控制氧化剂的含量;随着抛光液流量的增加,抛光速率也增大,但在流量增加到200mL/min后,速率的增加变得缓慢。 相似文献
103.
介绍了一种碱性抛光液,选用有机碱做介质,SiO2水溶胶做磨料,依据强络合的反应机理,克服了SiO2水溶胶做磨料对铜去除速率低及在溶液中凝胶的难点.实验结果表明:该抛光液适用于Cu化学机械抛光过程第一阶段的抛光,并达到了高抛光速率及铜/钽/介质层间的高选择性的效果. 相似文献
104.
105.
不锈钢抛光处理过程中往往会产生严重污染环境和危害人体健康的气体。从可持续发展战略目标出发,本文主要介绍了国内外不锈钢化学抛光液的研究现状与发展趋势和近十年来一些典型的抛光液配方,具有广阔的发展前景。 相似文献
106.
107.
108.
通过分析pH值对碱性抛光液抛光速率稳定性的影响,得出了碱性抛光液抛光速率相对稳定的pH值区间,并与酸性抛光液进行了对比,在酸性环境中至少稳定24 h,pH≤4时甚至可稳定6天。在碱性环境中pH为8时稳定性效果较好。研究得出了不同体积分数的螯合剂对碱性抛光液速率稳定性的影响,河北工业大学微电子所研制的螯合剂为多羟多胺有机碱,具有调节pH的作用。随螯合剂的体积分数逐渐增加,碱性抛光液抛光速率的稳定性逐渐变差,因此在研究碱性抛光液配比时应注意螯合剂的体积分数,以提高稳定性。观察和分析了碱性抛光液在全pH值范围内的速率稳定性变化,并将碱性抛光液的pH值调至7以下,在不产生凝胶的前提下观察其速率的稳定性。 相似文献
109.
针对软脆碲锌镉晶片的传统加工工艺“游离磨料-抛光-化学机械抛光”存在的缺点,提出“固结磨料研磨-新型绿色环保抛光液化学机械抛光”新方法。固结磨料研磨工艺为:采用3000号刚玉防水砂纸,压力为17kPa,抛光盘与抛光垫转速均为80r/min,研磨时间为5min。新型绿色环保抛光液含有双氧水和硅溶胶,采用天然桔子汁作为pH值调节剂。化学机械抛光工艺为:采用自行研制的化学机械抛光液,绒毛抛光垫,抛光压力为28kPa,抛光盘与抛光垫转速均为60r/min,抛光时间为30min。试验结果表明,经过上述加工可获得超光滑的表面,表面粗糙度算术平均值、均方根值、峰谷值分别可以达到0.568nm、0.724nm、6.061nm。 相似文献
110.
铜在甲胺-铁氰化钾化学机械抛光液中的腐蚀与钝化 总被引:2,自引:1,他引:1
用电化学测试技术研究了腐蚀介质和成膜剂浓度对铜表面的腐蚀与钝化成膜的影响,分析了钝化膜的成分,探讨了钝化膜在抛光压力和转速作用下的磨损与表面再钝化的行为,测量了铜在化学机械抛光过程中的极化曲线。结果表明铜在甲胺溶液介质铁氰化钾抛光液中易钝化,钝化膜的主要成分为Cu4[Fe(CN)6],有少量Cu20存在。钝化膜的磨损特性随成分浓度不同而不同。钝化膜的磨损难易程度与钝化膜的本身特性、抛光压力及转速有关。抛光过程中因钝化膜被磨损,腐蚀加快,腐蚀电流密度大幅增加。配方0.1%甲胺溶液 0.5%K3Fe(CN)6 5%Al2O3可行。 相似文献