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121.
国内光学测试仪器发展与现状思考 总被引:2,自引:2,他引:0
简要回顾了国内光学测试仪器发展史,论述了国内光学测试仪器发展现状的四个主要特征和五个方面的差距,以及造成差距的一些主要原因,提出了加快提升国内光学测试仪器竞争能力和堵住进口的三项对策.最后,对相关领导和管理者以及专家技术人员提出了五点建议. 相似文献
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125.
126.
Tom Bartel 《Journal of research of the National Institute of Standards and Technology》2005,110(6):589-603
This paper focuses upon the uncertainty of force calibration measurements at the National Institute of Standards and Technology (NIST). The uncertainty of the realization of force for the national deadweight force standards at NIST is discussed, as well as the uncertainties associated with NIST’s voltage-ratio measuring instruments and with the characteristics of transducers being calibrated. The combined uncertainty is related to the uncertainty of dissemination for force transfer standards sent to NIST for calibration. 相似文献
127.
国防军工计量人员管理系统是国防军工计量信息管理系统的一个子系统,它的目标和主要功能是通过不同的组合查询,打印与统计,提供国防军工计量技术机构各级计量管理人员,科研人员,检定人员及监督人员的年龄,素质等自然状况,为人员培训及持证上岗,人才流动的管理等提供咨询服务,本文从软件工程的角度较全面地描述了国防军工计量人员管理系统的分析与设计。 相似文献
128.
K. Mitsui 《Precision Engineering》1986,8(4):212-220
Potential non-contact optical methods for in-process surface roughness measurement are described, including reflected light position detection, focu 相似文献
129.
Michael W. Cresswell William F. Guthrie Ronald G. Dixson Richard A. Allen Christine E. Murabito J. V. Martinez De Pinillos 《Journal of research of the National Institute of Standards and Technology》2006,111(3):187-203
Staffs of the Semiconductor Electronics Division, the Information Technology Laboratory, and the Precision Engineering Laboratory at NIST, have developed a new generation of prototype Single-Crystal CD (Critical Dimension) Reference (SCCDRM) Materials with the designation RM 8111. Their intended use is calibrating metrology instruments that are used in semiconductor manufacturing. Each reference material is configured as a 10 mm × 11 mm silicon test-structure chip that is mounted in a 200 mm silicon carrier wafer. The fabrication of both the chip and the carrier wafer uses the type of lattice-plane-selective etching that is commonly employed in the fabrication of micro electro-mechanical systems devices. The certified CDs of the reference features are determined from Atomic Force Microscope (AFM) measurements that are referenced to high-resolution transmission-electron microscopy images that reveal the cross-section counts of lattice planes having a pitch whose value is traceable to the SI meter. 相似文献
130.
The quality inspection of products poses a challenge towards existing production metrology techniques in terms of accuracy and speed, especially when it comes to inline or in-process measurements. In this terms, optical metrology proves its capabilities, in particular for sensible and fragile work pieces. For the inspection inside small spaces and cavities or for complex geometries, many optical metrology system are to inflexible or cannot be miniaturized enough. Within this work a set-up for a fiber-optic low-coherence interferometer system is described. Due to the high degree of miniaturization of the sensing probe, the system can be used for demanding measuring tasks like roundness of small drilling holes or the run-out of shafts. Different evaluation measurement are presented, which underline the potential of the described system for highly accurate, non-contact inspection of rotational parts. 相似文献