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21.
水平震荡机械研磨电镀铜工艺研究   总被引:3,自引:2,他引:1  
在传统酸性镀铜液中加入玻璃球,利用SEM和XRD考察了玻璃球数量与震荡频率对机械研磨电镀工艺的影响,并探讨了水平震荡频率和玻璃球数量对镀层微观结构的影响机理。实验结果表明:固定玻璃球数量为80个,震荡频率为2.5~4.2 Hz时,所得镀层的晶粒尺寸随着震荡频率的增加而显著降低;固定水平震荡频率为4.2 Hz,玻璃球数量为40~120个时,随着玻璃球数量的增加,所得镀层的晶粒尺寸先降低后略有增大,但仍明显小于传统镀层;水平震荡机械研磨电镀铜层具有(111)择优取向,但择优取向程度受水平震荡条件影响。  相似文献   
22.
在传统酸性镀铜液中加入玻璃球,玻璃球以不同频率在试样表面滚动-滑动形成机械研磨(MA).利用SEM,XRD和AutoLab考察震荡频率对机械研磨增强镀层(MAEE)的微观结构、晶粒尺寸、沉积速率、孔隙率和在3.5%NaCl(质量分数)溶液中耐蚀性的影响.结果表明,与传统镀层(TEP)相比,水平震荡MA可显著减小TEP镀...  相似文献   
23.
用电弧离子镀方法在1Cr11Ni2W2MoV不锈钢表面制备Ti0.7Al0.3N涂层,研究了涂层在450℃空气中恒温氧化行为和在固态NaCl和水蒸气综合作用下的腐蚀行为.结果表明:Ti0.7Al0.3N涂层在空气中均具有优良的抗氧化能力,而不锈钢在固态NaCl和水蒸气综合作用下的腐蚀严重,施加Ti0.7Al0.3N涂层显著地提高了不锈钢基体的抗腐蚀性能.1Cr11Ni2W2MoV不锈钢由于生成内层富Cr,外层富Fe的疏松氧化物,其在固态NaCl和水蒸气综合作用下发生严重的腐蚀,而Ti0.7Al0.3N涂层生成致密的Al2O3和TiO2的混合物,使其具有良好的抗氧化和腐蚀性能.  相似文献   
24.
铝合金微弧氧化技术的研究进展   总被引:7,自引:1,他引:6  
微弧氧化技术是一种直接在有色金属表面原位生长陶瓷膜的新技术,所生成的陶瓷膜与基体的结合力好,具有优良的力学性能.综述了铝合金微弧氧化技术的基本原理以及沉积工艺和基材成分对成膜机理的影响、配方和供电方式对微弧氧化工艺的影响、微弧氧化膜力学和耐蚀性能,并展望了该技术的发展方向.  相似文献   
25.
采用失重法、电阻法和方阻法测试碳钢在混凝土模拟溶液中的腐蚀深度,并利用极化曲线、交流阻抗测试探讨腐蚀电化学特征。在腐蚀深度为0.08 mm范围内,电阻法、方阻法与失重法测量的腐蚀深度最大差值分别为6.30μm和0.98μm,测量结果有较好的一致性。碳钢在浸泡开始时,表面有一层钝化膜,阻抗谱为单容抗弧;继续腐蚀,碳钢从钝化转变为活化,表面钝化膜遭到破坏,腐蚀溶解不断进行。  相似文献   
26.
采用电弧离子镀技术在AISI304不锈钢表面制备TiAlN和TiAl Si N涂层。以Al2O3球为对摩材料,使用球-盘式摩擦磨损试验机测试涂层在室温(RT)、300℃、600℃恒温和RT~600℃、600→300℃变温环境中的摩擦学性能。通过扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、显微硬度计研究涂层的表面形貌、微观结构、硬度和摩擦学性能。结果表明:TiAlN和TiAl Si N涂层的主要结构为面心立方TiAlN相,硬度值分别为1 631 HV0.05和2 044 HV0.05。在300℃恒温和RT~600℃升温环境中,涂层磨损剧烈,均被磨穿,磨损机理以粘着磨损和疲劳断裂为主。600℃条件下,TiAlN涂层发生了以"点蚀"为主的氧化磨损,氧化产物起到了很好的润滑作用,摩擦因数为0.5。Si元素的加入使涂层的抗氧化性增强,在600℃和600→300℃的环境中,磨痕表面生成具有保护作用的氧化膜,涂层的耐磨性提高。  相似文献   
27.
建立了采用电感耦合等离子体原子发射光谱法测量铝-锂合金铬酸阳极氧化液中Li含量的分析方法,探讨了在标准溶液中加入铬酸酐、钇离子和氯化铷对测量结果的影响。结果表明,铬酸酐和钇离子的加入,使测量方法的准确度提高,铷元素的加入,能够抑制铬元素含量的测量结果随重复测量的增加而降低的现象。该方法的检出限为0.00172μg/g;样品的回收率为99.428%~100.426%,相对标准偏差RSD(n=24)为0.236%。该方法准确、快速,具有良好的精密度和准确度,能够满足日常生产监控需要。  相似文献   
28.
The composite metastable (Ti0.5Al0.5)N, (Ti0.45Al0.45Cr0.1)N and (Ti0.35Al0.35Cr0.3)N coatings were respectively deposited on a wrought martensite steel 1Crl 1 Ni2W2MoV for aero-engine compressor blades by arc ion plating technique with pulse substrate bias. All the coatings have B1NaCl phase with a (200) preferred orientation and dense structures. The results show that the introduction of Cr into (Ti,Al)N gives rise to a minute shrinkage of crystal lattice. The incorporation of chromium into the coatings dramastically improves the oxidation-resistance of the coatings. For (Ti0.5Al0.5)N, a layered oxide scale forms after 100 h oxidation and the outer layer is the blend oxide of TiO2 and Al2O3, and the middle layer is rich in AI and the inner layer is rich in Ti. For (Ti0.45Al0.45Cr0.1)N, the oxide scale possesses a double-layered structure and the outer layer is rich in Ti. For (Ti0.35Al0.35Cr0.3)N, a Cr-rich compound oxide scale of Ti, AI and Cr forms, and a out-diffusion of Fe from steel to the nitride coating and oxide film during the oxidation takes place.  相似文献   
29.
采用磁控溅射技术在AISI-304不锈钢上制备了TiAlSiN-Ti(Mo)N/MoS2复合涂层。采用电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、显微硬度计、球盘摩擦磨损试验机、表面形貌仪等对涂层的表面形貌、显微组织、硬度和摩擦学性能进行了系统的研究。结果表明TiAlSiN-Ti(Mo)N/MoS2复合涂层的硬度为27.56 GPa,相比于TiAlSiN涂层的硬度(29.1 GPa)有所下降,但是涂层的耐磨性能得到明显提高。在室温至600℃条件下TiAlSiN-Ti(Mo)N/MoS2复合涂层的主要磨损机理为黏着磨损,200和400℃时的磨损率分别为0.0339×10^-3和0.1122×10^-3mm^3/(Nm),相较于TiAlSiN涂层分别降低了38%和57%,600℃时的磨损率接近TiAlSiN涂层。总体来说TiAlSiN-Ti(Mo)N/MoS2复合涂层的性能高于单一的TiAlSiN涂层。  相似文献   
30.
在硫酸盐三价铬电沉积体系中,通过赫尔槽实验对不同络合剂含量进行了筛选,得到络合剂最佳含量配比为甲酸铵80 g/L、草酸铵20 g/L以及尿素30 g/L,最佳电流密度范围为5.11 A/dm2~20.68 A/dm2;通过循环伏安曲线和阴极极化曲线分析三价铬电沉积机理,发现三价铬的沉积过程分两步进行:第一步为Cr3++e→Cr2+,过程不可逆;第二步为Cr2++2e→Cr,可逆;草酸铵会增大阴极极化,甲酸铵和尿素会降低阴极极化;电沉积20 min得到的铬镀层,XPS分析表面镀层由单质Cr、Cr2O3及Cr(OH)3构成;微观结构观测发现,随着电沉积时间增加,镀层由表面平整形貌逐渐转变为瘤状结构形貌;镀层呈现明显的(110)择优取向;电化学研究表明,相比20 min铬镀层,5 min铬镀层的耐蚀性较好,腐蚀电位由-0.6377 V提高至-0.5633 V,腐蚀电流由6.1030×10-6 A/...  相似文献   
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