多道富锌基涂层在NaCl溶液中的电化学行为研究

多道富锌基涂层的电化学行为研究表明,涂层中的Zn粉未表现出明显的阴极保护作用,即使在富锌涂层上覆盖几个微米厚的环氧清漆涂层, Zn的阴极保护作用也会变得非常微弱. Zn粉对钢铁的保护作用在于Zn粉腐蚀产物对涂层的“自修复能力”.在环氧清漆覆盖条件下,无机富锌涂层中Zn粉的反应活性比有机富锌涂层中Zn粉的高,即Zn粉的反应速度更快.     

表面改性处理对ZnO电化学性能的影响

将ZnO浸泡在镁和钙的醋酸盐溶液中,通过蒸发、高温等处理得到了表面改性的ZnO样品.采用XRD、SEM对其结构和形貌进行了表征,同时用恒电流充放电等技术研究了其充放电特性和循环稳定性.实验结果表明:通过对氧化锌进行表面改性处理,改进了其电化学性能,并提高了其电化学循环稳定性.     

壳聚糖及其衍生物的抗氧化作用

采用邻二氮菲-Fe2+氧化法和DPPH法,研究5种壳聚糖及其衍生物——壳聚糖(chitosan)、壳寡糖(ol-igo-chitosan)、羧甲基壳聚糖(CM-chitosan)、N-乙酰氨基葡萄糖(GLcNAc)、氨基葡萄糖盐酸盐(GlcNH2.HCl)的体外清除羟自由基和DPPH.自由基的能力。结果表明:在实验设置的浓度范围内,对羟自由基的清除能力依次为oligo-chitosan>chitosan>GLcNAc>GlcNH2.HCl>CM-Chitosan,且其清除能力随着浓度的增加而增加。其中2 mg/mL的Oligo-chitosan对羟自由基的清除率最大达到97.81%,相当于4 mmol/L的VC对羟自由基的清除能力。对DPPH.的清除能力大小依次为oligo-chitosan>chitosan>GlcNH2.HCl≥GLcNAc>CM-chitosan,且其清除能力随着浓度的增加而增加。2 mg/mL oligo-chitosan的清除率为97.34%,大于6mmol/L VC的清除速率79.92%。2种方法测定的结果比较一致。     

天文光学镜面加工机床控制系统的研究

通过对光学加工工艺的分析,并结合加工对控制系统的要求,提出采用基于CAN总线的分布式控制系统构架。在子节点上,使用ARM＋CPLD的硬件平台构建单轴位置控制器,主控节点使用Windows及其实时扩展RTX作为控制软件的平台,具有很强的开放性、可扩展性。控制系统已成功地应用在2．5m光学加工机床上。     

14C同位素研究进展

¹⁴C是一种重要的放射性示踪剂,能够揭示物质的分布、代谢机制及迁移路径,广泛应用于生物医药、农业、地质和环境等领域。近年来¹⁴C标记化合物的需求不断增长,其应用研究领域不断拓展。本文总结了¹⁴C同位素的来源、制备和分离纯化方法,¹⁴C标记化合物的制备和结构鉴定方法,以及¹⁴C标记化合物在相关研究领域的应用情况,着重探讨了¹⁴C同位素分离纯化技术的发展现状和趋势,希望在解决¹⁴C排放污染的同时,实现¹⁴C的资源化利用,并促进¹⁴C应用研究的进一步发展。