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221.
以(C2H5O)4Si和Ti(OC4H9)4为硅源和钛源,采用溶胶-凝胶法制备SiO2-TiO2柱化剂,将原土直接加入柱化剂进行柱化反应得到SiO2-TiO2柱撑蒙脱土,对其进行结构和性能表征,考察了柱化剂中Si/Ti比、柱化剂/原土比、柱化反应条件(反应温度和超声处理)及热处理温度对其结构和性能的影响. 结果表明,SiO2-TiO2柱体成功进入蒙脱土层间,在除去未参与柱化反应的柱化剂的条件下,比表面积可达127.2 m2/g,热稳定性提高了70℃,柱化剂中Si含量增加有利于热稳定性的提高,500℃以下焙烧的SiO2-TiO2柱体中Ti以钛氧四面体和八面体形式存在,600℃焙烧可形成锐钛矿晶型.  相似文献   
222.
在扩散-反应限制凝聚模型(DRLA)的基础上,假设高分子溶液在成膜过程中聚合物凝聚过程可视为簇凝聚-解离可逆反应,结合扩散-反应方程提出了非溶剂致相分离(NIPS)法成膜过程的扩散限制-反应凝聚(DLRA)模型.将模型推导出的铸膜液层中聚集体浓度方程与朗伯-比尔定律相结合,对NIPS法不同体系PVDF铸模液成膜过程中膜液层吸光度倒数(1/A)随时间变化的曲线进行了拟合,拟合曲线相关系数R2大于0.97,说明DLRA模型能较准确地反映NIPS法成膜的动力学过程.  相似文献   
223.
分子印迹膜的研究进展   总被引:22,自引:0,他引:22  
介绍了分子印迹膜的制备方法、表面形态、识别机理、传质模型;评述了分子印迹膜在手性化合物的分离、膜传感器、固相萃取、渗透汽化等方面的应用研究进展。  相似文献   
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