香港昂船洲污水厂考察记

为提高污水处理厂的运行管理水平，学习先进的管理经验。日前，白龙港厂组织一线生产运行的管理和操作人员，对采用相同处理工艺、相同处理规模的香港昂船洲污水厂参观学习。     

ACTIFLO高效沉淀工艺用于污水处理

ACTIFLO工艺是由法国Velioa集团OTV公司在20世纪90年代初开发的一种高效沉淀工艺(专利号:US4927543),最初主要用于自来水的生产,最近在污水处理领域也得到了应用[1]。1工艺流程ACTIFLO工艺如图1所示。图1 ACTIFLO工艺F ig.1 Shem atic d iagram of ACTIFLO process污水在进入AC     

钴—四膦配合物催化不饱和羧酸酯的氢甲酰化反应的研究

研究了由钴—四膦配体组成的催化剂体系对丙烯酸甲酯氢甲酰化反应的催化作用。对反应温度、反应压力、不同Ｐ／Ｃｏ比，不同结构的烯烃等的影响作了探讨，并与不同膦配体体系催化丙烯酸甲酯氢甲酰化的结果作对比，发现这些膦配位体催化活性有如下顺序：Ｃ（ＣＨ２ＰＰｈ２）４＞Ｐｈ２Ｐ（ＣＨ２）３ＰＰｈ２＞Ｐｈ２Ｐ（ＣＨ２）２ＰＰｈ２＞Ｐｈ２Ｐ（ＣＨ２）ＰＰｈ２≌Ｐｈ２Ｐ（ＣＨ）ＰＰｈ２。     

用于MESFET的GaAs多层气相外延的研究

用AsCl_3-Ga-H_2体系生长GaAs气相多层外延材料。研究了一些生长参数对缓冲层中Ec-0.82eV深中心密度n_T的影响,讨论有源层和缓冲层之间的界面特性以及有关在微波器件中的应用。     

Cu－Zn－Al合金贝氏体的三个生长阶段及其精细结构研究

利用透射镜研究了Ｃｕ－Ｚｎ－Ａｌ合金贝氏体ａ＿１相在相变过程中的精细结构变化，发现贝氏体的生长经历三个阶段：初生态、中间态和退化态。初生贝氏体内不含层错亚结构，ａ＿１依台阶机制长大到一定程度后，内部出现层错；随转变进一步进行，ａ＿１内的层错结构逐渐消失，发生“过退火”，最终向平衡相转变。     

硅钨酸催化合成三羟甲基丙烷三丙烯酸酯研究

以硅钨酸(SiW)为催化剂,丙烯酸(AA)和三羟甲基丙烷(TMP)为原料合成三羟甲基丙烷三丙烯酸酯。优化反应条件如下：在丙烯酸0．775mol,三羟甲基丙烷0．250mol,催化剂用量约为反应物总量的0．2％(质量分数),反应温度为120℃,反应时间为1h的条件下,酯化率可达83．5％,产品纯度大于98％。     

基于高阶统计量的合成图像鉴别方法

随着各种图像编辑软件的广泛应用,数字图像被篡改的现象越来越普遍。论文研究了一种鉴别合成照片真伪的方法,在提取可信图像和拼接图像的双谱特征和边缘密度特征的基础上利用支持向量机(SVM)进行分类训练,并提出了在特征提取前去除图像的非高斯噪声。实验结果表明,该方法可将鉴别正确率由71%提高到75%,并具有一定的抗JPEG压缩能力。     

细节感知的纹理滤波算法

目的 基于现有的研究提出一种细节感知的纹理去除算法,在去除图像纹理时,能够很好地保持图像的结构信息,尤其是诸如细长结构和边角信息等在其他方法中容易被模糊化的特殊细节。方法 首先,本文提出一种能够识别细长结构的结构检测方法,对细长结构进行检测并增强其结构特征。其次,为了估计每个像素点的最优滤波核尺度,改进原有的相对总变差模型,多方向寻找最小相对总变差,使它能够更好地区分纹理和边界,并且将边角信息从纹理中区分出来。然后,将检测出来的细长结构归一到改进的相对总变差的度量尺度上,估计滤波核尺度,生成引导滤波图像。这样就能够在平坦或有纹理的区域运用大尺度的滤波核,并在结构边缘和边角附近减小滤波核。最后,通过联合双边滤波器得到纹理去除后的图像。结果 实验测试了马赛克图像和艺术画作,对比了相对总变差和尺度敏感的结构保护滤波等方法,本文方法在去除纹理的同时保留了细长结构和边角细节,并且具有良好的普适性和鲁棒性。利用本文算法处理一幅含10万像素的图像,仅通过一次迭代计算就能够去除大量纹理且效果优于已有的方法,本算法的计算时间为3.37 s,其他算法为0.07~3.29 s。结论 本文设计的纹理滤波器不仅在保持诸如细长结构方面的性能更好,而且使纹理去除后的图像在边角细节处更尖锐,为图像的后续处理提供了一种强有力的图像预处理方式。