C／C复合材料上SiC／MoSi2-Si2N2O-CrSi2涂层的制备、抗氧化性能及形成机理

为进一步提高C／C复合材料的抗高温氧化性能,采用包埋法和刷涂法在C／C复合材料上制备了SiC／MoSi2-Si2N2O-CrSi2抗高温氧化涂层,借助XRD及SEM对涂层的组织结构及形貌进行了表征,初步研究了涂层在1500℃静态空气中的氧化性能及其形成机理。结果显示：SiC／MoSi2-Si2N2O-CrSi2涂层最外...     

纳米晶W-Ni-Fe复合粉末及其烧结过程中的固溶特性

采用溶胶喷雾干燥-热还原法制备了50W-35Ni-15Fe(质量分数,%,下同)纳米晶复合粉末。利用X射线衍射及微区组织的能谱(EDAX)分析,揭示了纳米晶W-Ni-Fe复合粉末及其烧结过程中的固溶特性。研究发现:纳米晶50W-35Ni-15Fe复合粉末中,W在γ-(Ni,Fe)相中的固溶度达到了15%,Ni、Fe元素在W中的固溶度达到了2.4%,形成了超饱和固溶体;随着温度的升高,W的超饱和固溶体W(Ni,Fe)发生Ni、Fe元素的脱溶。而W在γ-(Ni,Fe)相中的固溶度随温度的升高而进一步增加,在1300℃以后基本维持在29%左右;稀土La的加入在低温阶段对W在γ-(Ni,Fe)相中的固溶度影响不大,在1200℃以上使固溶度有一定的降低。     

稀土La对细晶93W-4.9Ni-2.1Fe合金致密化与显微组织的影响

采用溶胶-喷雾干燥-氢还原法制备超细/纳米晶93W-4.9Ni-2.1Fe和93W-4.9Ni-2.1 Fe-0.4La的复合粉末,对比研究烧结过程中稀土La对合金致密化与显微组织的影响,并讨论其作用机理..结果表明:添加稀土La对合金致密化及晶粒长大均具有一定的抑制作用,在1 420℃烧结时,由93W-4.9Ni-2...     

广西桂林供电局沉着应战成功化解洪水袭击

2009年7月3日至5日,桂林市及中北部县区出现连续暴雨,局部大暴雨,持续的强降雨使得漓江水位暴涨,出现自1998年以来最大的一次洪峰,漓江水位最高时达147．66米,超过警戒水位（145．7米）1．96米,桂林市区多处地段被洪水淹没。面对洪水的肆虐,桂林供电局反应迅速,沉着应战,全面开展抗洪抢修,最大限度减少洪水对电网的影响,确保市民洪水期间安全用电。     

一种提高悬臂粱振动参数测量技术的研究

正弦相位调制干涉测量技术是一种高精度光学测量技术,可用于MEMS振动、振动分布、位移等物理量的测量。本文提出一种提高悬臂粱振动参数测量精度的方法,并分析了测量原理。该方法通过反馈控制回路消除了外界干扰和光强调制对测量精度的影响,并以纳米精度对悬臂粱的振动进行了检测,可得到悬臂粱在光激励下发生振动的相关振动特性参数。     

透射模式电子背散射衍射技术在纳米材料研究中的应用

为了提高电子背散射衍射技术的空间分辨率, 使之能够对纳米尺度的晶粒或超细粉末进行相鉴定和取向分析, 本研究通过自主设计的透射模式电子背散射衍射技术的样品台, 及调整EBSD探头位置及角度, 收集到清晰、完整的透射电子菊池衍射花样。研究了减薄块体样品厚度对透射电子菊池衍射花样的影响, 对减薄氧化锆涂层样品进行了t-EBSD面分布分析, 其结果的平均角度偏差(MAD)值仅为0.38, 成功鉴定出小于30 nm尺度的纳米氧化锆涂层立方相; 将超声分散后的纳米TiO₂粉体滴在铜网上, 采用t-EBSD对纳米颗粒进行点分析, 成功鉴定了锐钛矿相和金红石相TiO₂, 其中纳米锐钛矿TiO₂粉体的最小尺寸为20 nm左右, 使得扫描电镜中相鉴定的最小分辨率从目前的约100 nm提高到小于30 nm, 大大拓展了电子背散射衍射技术在纳米材料研究中的应用范围。     

考虑电气化铁路影响的西藏电网谐振研究

谐波污染是电气化铁路给电网带来的主要电能质量问题之一。电力机车在不同牵引站间运行会改变电网阻抗特性,可能引发谐波放大与谐振。以西藏电网为例,采用模态分析法研究谐振问题。首先建立电网的节点导纳矩阵,并对其进行特征值分解;其次采用参与因子分析各母线对谐振的观测性与激励性;采用模态灵敏度分析电网中各元件对谐振的影响程度,论证了谐振与各站之间的线路长度密切相关,并进一步分析了不同线路长度下的谐振情况。以西藏电网中康莎索引站为例,对该站及其周边电网进行谐振研究,并验证了分析的正确性。通过所提方法,对含电气化铁路的电网规划具有指导意义,同时也能缓减、治理谐波谐振问题。     

真空等离子体喷涂B4C-Mo复合涂层耐磨性能研究

采用真空等离子体喷涂技术制备了B₄C-Mo复合涂层, 并对其耐磨性能进行了研究。与B₄C纯涂层相比, 复合涂层结构更为致密, (B, Mo)C过渡相的存在改善了B₄C相与Mo相之间的润湿性, 进而有效提高了涂层的抗摩擦磨损性能。此外, Mo在喷涂过程中形成了大量的纳米晶, 这也在一定程度上促进了复合涂层耐磨性能的提高。     

线型和带型α-Si3N4准一维结构的形成机理和表征

采用高温氮化合成的热化学方法制备了单晶的线型和带型α-Si₃N₄准一维结构.其中线型α-Si₃N₄准一维结构沉积在温度较低的反应区域(1200℃),而带型α-Si₃N₄准一维结构则沉积在高温原料源附近位置(1450℃).经XRD、SEM、TEM、HRTEM分析表明,制备的线型和带型α-Si₃N₄准一维结构均为单晶;线型α-Si₃N₄直径约为100~300nm,长为几十微米;而带型α-Si₃N₄厚约30nm,宽度在300nm~2μm之间,长度为几微米到几十微米.从晶体生长热力学及动力学方面讨论了线型和带型α-Si₃N₄准一维结构的生长过程和分区沉积的原因.结果表明,较高的温度和过饱和度有利于形成带型准一维结构.       

等离子喷涂碳化硼涂层相组成和电学性能研究

采用大气等离子喷涂,在不同喷涂距离下制备了碳化硼涂层,研究了喷涂距离对碳化硼涂层的显微结构、相组成和电导率的影响．用EDS和XPS分析了涂层的相组成;扫描电镜观察涂层的显微结构;标准四探针法测量涂层的电导率．结果表明,喷涂距离不仅会影响碳化硼涂层的显微结构,而且会改变碳化硼涂层的相组成;等离子喷涂碳化硼涂层的表面电导率随温度的增加而增加,表现出明显的半导体特性;涂层表面电导率同相组成和显微结构密切相关,涂层中B₂O₃相含量越高,气孔率越大,则涂层的电导率越低．